문맥 (context)
[청구항 1]
외부와 차단된 반응공간을 제공하며 전기적으로 접지된 반응기
상기 반응기와 전기적으로 연결되지 않도록 상기 반응기내에 위치하며 웨이퍼가 안착되어지는 서셉터
상기 반응기의 상부 외측에 설치된 플라즈마전극
상기 서셉터와 플라즈마 전극에 rf 전력을 공급하기 위하여 이들과 각각 전기적으로 연결되는 rf 전력공급원; 및
상기 rf 전력공급원에서 공급되는 rf 전력을 상기 서셉터 또는 플라즈마전극에 선택적으로 또는 동시에 인가시키기 위한 rf 계전기를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장치
[청구항 2]
제 1항에 있어서,상기 플라즈마전극과 반응기의 전기적 연결 여부를 결정하는접지용계전기더구비하는것을특징으로 하는반도체 소자 제조 장치.
[청구항 3]
제 2항에 있어서,상기rf 계전기가 상기 rf 전력공급원과 서셉터를 전기적으로 서로 차단시키고 상기 rf 전력공급원과 플라즈마전극은 전기적으로 서로 연결시킬 경우에, 상기 접지용 계전기는 상기 플라즈마전극과 반응기를 전기적으로 서로 차단시키도록동작하는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치.
[청구항 4]
제 2항에 있어서,상기rf 계전기가 상기 rf 전력공급원과 플라즈마전극을 전기적으로 서로 차단시키고 상기 rf 전력공급원과 서셉터는 전기적으로 서로 연결시킬 경우에, 상기 접지용 계전기는 상기 플라즈마전극과 반응기를 전기적으로 서로 연결시키도록동작하는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치.
[청구항 5]
제 3항 또는 제 4항에 있어서,상기rf 계전기와 접지용 계전기가 동일한 외부전압신호를 동시에입력신호동작하는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
반도체 소자 제조 장치에서 rf 계전기가 rf 전력을 서셉터에 인가하고 플라즈마전극에는 인가하지 않을 때, 접지용 계전기는 플라즈마전극과 반응기 사이의 전기적 연결 상태를 어떻게 제어하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretationrf 계전기가 서셉터에만 rf 전력을 인가하고 플라즈마전극에는 인가하지 않을 때, 접지용 계전기의 동작 상태를 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 4에서 rf 계전기가 rf 전력공급원과 플라즈마전극을 차단하고 서셉터와 연결시키는 상황을 확인한다.
- 상기rf 계전기가 상기 rf 전력공급원과 플라즈마전극을 전기적으로 서로 차단시키고 상기 rf 전력공급원과 서셉터는 전기적으로 서로 연결시킬 경우
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3근거 선택
evidence_selection질문 조건(서셉터에 인가, 플라즈마전극에는 미인가)에 부합하는 청구항 4의 내용을 선택한다.
- 상기rf 계전기가 상기 rf 전력공급원과 플라즈마전극을 전기적으로 서로 차단시키고 상기 rf 전력공급원과 서셉터는 전기적으로 서로 연결시킬 경우에, 상기 접지용 계전기는 상기 플라즈마전극과 반응기를 전기적으로 서로 연결시키도록동작하는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치.
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4논리 통합
logical_integrationrf 계전기가 플라즈마전극을 차단하고 서셉터에 전력을 공급할 때, 접지용 계전기는 플라즈마전극과 반응기를 전기적으로 연결시키는 역할을 수행함을 도출한다.
- 상기 접지용 계전기는 상기 플라즈마전극과 반응기를 전기적으로 서로 연결시키도록동작하는것
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5결론 도출
conclusion_formulation접지용 계전기는 플라즈마전극과 반응기를 전기적으로 서로 연결시킨다.
- 상기 접지용 계전기는 상기 플라즈마전극과 반응기를 전기적으로 서로 연결시키도록동작하는것
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6답변 생성
answer_generation질문에 대한 직접적인 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
상기 접지용 계전기는 상기 플라즈마전극과 반응기를 전기적으로 서로 연결시키도록 동작한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
rf 계전기의 전력 공급 대상(서셉터 또는 플라즈마전극)에 따라 접지용 계전기가 플라즈마전극과 반응기 사이의 전기적 연결 상태를 상호 연동하여 제어하는 기술이다.