문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 하위 전극은 하위 전극 막대들에 의해형성되는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극 장치는 2차원적인패턴의하위전극재분할되는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극 장치는플레임모양또는고리모양의하위전극재분할되는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,상기 그룹의 하위 전극들이 상기 제 1 전극 장치를 따라 적어도 한 방향으로 주기적인교호 패턴배열된것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 6]
제 1 항에 있어서,상기 하위 전극은 상기 전극 장치를 향하여 볼록하게 또는 오목하게 확대되어 돌출된표면구비하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 7]
제 1 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 전극 장치는 실질적으로 편평한평행 전극장치인것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 8]
제 1 항에 있어서,상기 신호 조정 유니트를 통하여 상기 제 1 및 제 2 전기적 입력으로 적용되는 전기 신호가 적어도 하나의 진폭, 위상 및 신호 형태에 대해서상호조절가능한것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,상기 인접하는 하위 전극 사이의 리액션 볼륨에 노출된 스페이스의 가장 작은 거리가 상기 리액터 볼륨에서 생성된 플라즈마의 다크 스페이스 거리 보다 작은 것특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 10]
제 1 항에 있어서,온도 제어 유체 공급원에 접속된 상기 제1 및 상기 제 2 전극 장치 중 적어도 하나에 있어서채널장치를추가포함하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 11]
제 9 항에 있어서,상기 스페이스가 제 1 전극 장치의 하위 전극 사이의 슬릿에 의해 형성되고, 상기 슬릿의 바닥에기체유입구구비하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 12]
제 9 항에 있어서,상기 제 1 전극 장치의 뒷면 상에 기체 분배 챔버를 추가로 포함하고, 이 기체 분배 챔버가상기슬릿연결되는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 13]
제 1 항에 있어서,인접한 하위 전극들 사이 및 상기 하위 전극 뒷면 중 적어도 하나에 있어서 실딩맴버를추가포함하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 14]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극장치에 상기 플라즈마로 노출되는 상기 제 1 전극 장치의 표면을 상대적으로 확대하기 위한물결모양의패턴형성된것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 16]
제 15 항에 있어서,상기 하위 전극은 하위 전극 막대들에 의해형성되는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 17]
제 15 항에 있어서,상기 제 1 전극 장치는 2차원적인패턴의하위전극재분할되는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 18]
제 15 항에 있어서,상기 제 1 전극 장치는플레임모양또는고리모양의하위전극재분할되는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 19]
제 15 항에 있어서,상기 그룹의 하위 전극들이 상기 제 1 전극 장치를 따라 적어도 한 방향으로 주기적인교호 패턴배열된것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 20]
제 15 항에 있어서,상기 하위 전극은 상기 전극장치를 향하여 볼록하게 또는 오목하게 확대되어 돌출된표면구비하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 21]
제 15 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 전극 장치는 실질적으로 편평한평행 전극장치인것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 22]
제 15 항에 있어서,상기 신호 조정유니트를 통하여 상기 제 1 및 제 2 전기적 입력으로 적용되는 전기 신호가 적어도 하나의 진폭, 위상 및 신호 형태에 대해서상호조절가능한것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 23]
제 15 항에 있어서,상기 인접하는 하위 전극 사이의 리액션 볼륨에 노출된 스페이스의 가장 작은 거리가 상기 리액터 볼륨에서 생성된 플라즈마의 다크 스페이스 거리 보다 작은 것특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 24]
제 15 항에 있어서,온도 제어 유체 공급원에 접속된 상기 제1 및 상기 제 2 전극 장치 중 적어도 하나에 있어서채널장치를추가포함하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 25]
제 23 항에 있어서,상기 스페이스가 제 1 전극 장치의 하위 전극 사이의 슬릿에 의해 형성되고, 상기 슬릿의 바닥에기체유입구구비하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 26]
제 23 항에 있어서,상기 제 1 전극 장치의 뒷면 상에 기체 분배 챔버를 추가로 포함하고, 이 기체 분배 챔버가상기슬릿연결되는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 27]
제 15 항에 있어서,인접한 하위 전극들 사이 및 상기 하위 전극 뒷면 중 적어도 하나에 있어서 실딩맴버를추가포함하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
[청구항 28]
제 15 항에 있어서,상기 제 1 전극장치에 플라즈마로 노출되는 상기 제 1 전극 장치의 표면을 상대적으로 확대하기 위한물결모양의패턴형성된것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
용량적 결합 RF-플라즈마 리액터에서 인접하는 하위 전극 사이의 스페이스가 형성되는 방식과 해당 스페이스의 기체 유입을 위한 구성 요소는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation인접하는 하위 전극 사이의 스페이스 형성 방식과 기체 유입을 위한 구성 요소를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 11번에서 스페이스의 형성 방식과 기체 유입구에 관한 정보를 추출한다.
- 상기 스페이스가 제 1 전극 장치의 하위 전극 사이의 슬릿에 의해 형성되고, 상기 슬릿의 바닥에기체유입구구비하는것을특징으로 하는용량적 결합 rf-플라즈마 리액터
-
3근거 선택
evidence_selection스페이스 형성 방식인 '슬릿'과 기체 유입 구성 요소인 '기체유입구'를 선택한다.
- 상기 스페이스가 제 1 전극 장치의 하위 전극 사이의 슬릿에 의해 형성되고, 상기 슬릿의 바닥에기체유입구구비하는것
-
4논리 통합
logical_integration스페이스는 하위 전극 사이의 슬릿에 의해 형성되며, 기체 유입을 위해 슬릿 바닥에 기체유입구가 구비된다는 점을 결합한다.
- 상기 스페이스가 제 1 전극 장치의 하위 전극 사이의 슬릿에 의해 형성되고, 상기 슬릿의 바닥에기체유입구구비하는것
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 직접적인 답변을 구성한다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
최종 답변 (final_answer)
상기 스페이스는 제 1 전극 장치의 하위 전극 사이의 슬릿에 의해 형성되며, 해당 스페이스의 기체 유입을 위한 구성 요소는 슬릿의 바닥에 구비된 기체유입구이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
하위 전극 사이의 슬릿 구조를 통해 스페이스를 형성하고, 슬릿 바닥의 기체유입구를 통해 기체를 공급하는 리액터의 구조적 특징을 나타낸다.