문맥 (context)
[청구항 1]
길이 방향으로 상하부가 각각 요철 형태로 형성되어 상기 상하 요철의 돌출부가 일자형으로 형성되어 지지체 기능을 갖는 막대 형태의 스페이서 몸체; 및
상기 스페이서 몸체의 중앙부에 길이 방향으로 형성된 금속 스트립 패턴
을 구비한 것을 특징으로 하는 충전 방지 스페이서
[청구항 2]
제1항에 있어서,상기 막대 형태의 스페이서 몸체는유리혹은세라믹형성된것을특징으로 하는충전 방지 스페이서.
[청구항 3]
제2항에 있어서,상기 막대 형태의 스페이서 몸체는알루미나형성된것을특징으로 하는충전 방지 스페이서.
[청구항 4]
제1항에 있어서,상기 금속 스트립 패턴의 폭은 50μm이상형성된것을특징으로 하는충전 방지 스페이서.
[청구항 12]
내측 대향면 상에 양극 및 음극을 각각 구비하고 서로 일정한 간격을 두고 대향되게 배치된 전면기판 및 배면기판
및 상기 두 기판 사이에 간격을 유지시키는 스페이서를 구비한 평판 소자에 있어서,
상기 스페이서는,
길이 방향으로 상하부가 각각 요철 형태로 형성되어 상기 상하 요철의 돌출부가 일자형으로 형성되어 지지체 기능을 갖는 막대 형태의 스페이서 몸체; 및
상기 스페이서 몸체의 중앙부에 길이 방향으로 형성된 금속 스트립 패턴
을 구비한 충전 방지 스페이서인 것을 특징으로 하는 충전 방지 스페이서를 채용한 평판 소자
[청구항 13]
제12항에 있어서,상기 충전 방지 스페이서는 상기 일측 기판의 양측 가장자리에 각각 형성된 스페이서 고정용 프레임에 끼워져 배열되고, 상기 일측 고정용 프레임의 상면은 도전성 물질로 코팅되어 상기 충전 방지 스페이서 측면의 상기 금속 스트립 패턴들과 전기적으로 연결되며, 상기 스페이서 고정용 프레임의 도전성 코팅막과 상기 일측 기판의 일측 가장자리에 형성된 외부 전극패드가 도전성 페이스트로 연결된 것을 특징으로 하는 충전 방지 스페이서채용한평판 소자.
[청구항 14]
제12항 및 제13항에 있어서,외부로부터 상기 금속 스트립 패턴에 인가되는 전압 제어에 의해 상기 충전 방지 스페이서의 방출되는 전자빔의 궤적을 조절하여 전자빔 스폿의 균일도를 조절하는 것을 특징으로 하는 충전 방지 스페이서채용한평판 소자.
[청구항 15]
제12항 및 제13항에 있어서,상기 충전 방지 스페이서는 다이오드 방출원을 감소시킬 수 있도록 아크 발생 방지용 메쉬를 더 구비한 것을 특징으로 하는 충전 방지 스페이서채용한평판 소자.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
충전 방지 스페이서를 채용한 평판 소자에서, 스페이서의 금속 스트립 패턴에 인가되는 전압을 제어함으로써 얻을 수 있는 효과는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation충전 방지 스페이서의 금속 스트립 패턴에 인가되는 전압을 제어할 때 발생하는 효과를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 14에서 금속 스트립 패턴에 인가되는 전압 제어와 관련된 기술적 내용을 추출한다.
- 외부로부터 상기 금속 스트립 패턴에 인가되는 전압 제어에 의해 상기 충전 방지 스페이서의 방출되는 전자빔의 궤적을 조절하여 전자빔 스폿의 균일도를 조절하는 것을 특징으로 하는 충전 방지 스페이서채용한평판 소자
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3근거 선택
evidence_selection질문에 직접적으로 대응하는 청구항 14의 구절을 선택한다.
- 상기 금속 스트립 패턴에 인가되는 전압 제어에 의해 상기 충전 방지 스페이서의 방출되는 전자빔의 궤적을 조절하여 전자빔 스폿의 균일도를 조절
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4논리 통합
logical_integration전압 제어가 전자빔의 궤적을 조절하고, 이를 통해 최종적으로 전자빔 스폿의 균일도를 조절한다는 인과관계를 파악한다.
- 상기 금속 스트립 패턴에 인가되는 전압 제어에 의해 상기 충전 방지 스페이서의 방출되는 전자빔의 궤적을 조절하여 전자빔 스폿의 균일도를 조절
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5결론 도출
conclusion_formulation전압 제어의 효과는 전자빔의 궤적 조절을 통한 전자빔 스폿의 균일도 조절임을 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation질문에 대하여 추출된 효과를 바탕으로 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
금속 스트립 패턴에 인가되는 전압을 제어함으로써 충전 방지 스페이서에서 방출되는 전자빔의 궤적을 조절하여 전자빔 스폿의 균일도를 조절할 수 있다.
핵심 해석 (core_interpretation)
금속 스트립 패턴에 인가되는 전압을 통해 전자빔의 궤적을 제어함으로써 전자빔 스폿의 균일성을 확보하는 기술이다.