폴리싱장치 document_id 1020000010660

[청구항 2] 제 1항에 있어서,각각의 상기 톱링은 회전샤프트의 주위로 각방향으로 이동가능하여 상기 턴테이블중 하나의 턴테이블상의 어떤 위치 및 상기 회전식 운반기상의 어떤 위치로 이동할 수있는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 3] 제 1항에 있어서,상기 각각의 턴테이블과 관련된각각의전용드레서더포함하여이루어지는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 4] 제 1항에 있어서,상기 회전식 운반기의 상기 부분은 상기 폴리싱될 대상물을 고정하기 위한 로드 스테이지와 폴리싱된 대상물을 고정하기 위한언로드스테이지포함하여이루어지는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 5] 제 1항에 있어서,상기 회전식 운반기 아래에마련되는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 6] 제 1항에 있어서,상기 회전식 운반기 위에마련되는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 8] 제 7항에 있어서,각각의 상기 톱링은 회전샤프트의 주위로 각방향으로 이동가능하여 상기 턴테이블중 하나의 턴테이블상의 어떤 위치 및 상기 회전식 운반기상의 어떤 위치로 이동할 수있는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 9] 제 7항에 있어서,상기 각각의 턴테이블과 관련된각각의전용드레서더포함하여이루어지는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 10] 제 7항에 있어서,상기 회전식 운반기의 상기 부분은 상기 폴리싱될 대상물을 고정하기 위한 로드 스테이지와 폴리싱된 대상물을 고정하기 위한언로드스테이지포함하여이루어지는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 11] 제 7항에 있어서,상기 회전식 운반기 아래에마련되는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 12] 제 7항에 있어서,상기 회전식 운반기 위에마련되는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 14] 제 13항에 있어서,상기 복수의 톱링 각각은 상기 턴테이블상의 상기 위치와 상기 회전식 운반기상의 상기 위치사이에서 회전샤프트주위로 각방향으로이동가능한것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 15] 제 13항에 있어서,상기 각각의 턴테이블과 관련된각각의전용드레서더포함하여이루어지는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 16] 제 14항에 있어서,상기 회전식 운반기의 회전샤프트와 상기 톱링의 상기 회전샤프트사이의 거리가동일한것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 17] 제 13항에 있어서,상기 회전식 운반기는 상기 복수의 턴테이블중 하나의 턴테이블상에 폴리싱될 상기 대상물을 반송하기 위한 제 1스테이지와, 상기 복수의 턴테이블중 다른 하나의 턴테이블상에 폴리싱될 상기 대상물을 반송하기 위한제2스테이지포함하여이루어지는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 18] 제 17항에 있어서,각각의 상기 제 1스테이지와 상기 제 2스테이지는 상기 폴리싱될 대상물을 고정하기 위한 로드 스테이지와 상기 폴리싱된 상기 대상물을 고정하기 위한언로드스테이지포함하여이루어지는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 19] 제 17항에 있어서,상기 회전식 운반기는 상기 제 1턴테이블과 제 2턴테이블에 상기 대상물을 공급하기 위한 네개의 스테이지를 포함하여 이루어지며, 상기 스테이지는 제 1턴테이블용 로드 스테이지, 제 1턴테이블용 언로드 스테이지, 제 2턴테이블용 언로드 스테이지, 및 제 2턴테이블용 로드 스테이지가 상기 회전식 운반기의 회전샤프트주위의 시계방향으로 위치되도록배치되는것을특징으로 하는폴리싱장치. [청구항 31] 제30항에 있어서,각각의 상기 톱링은 적어도 1이상의 상기 폴리싱 테이블상의 위치 및 상기 회전식 운반기상의 위치로 회전가능한 샤프트의 주위로 각방향으로이동가능한것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 32] 제31항에 있어서,각각의 상기 톱링은 상기 폴리싱 테이블 중에 2개의 폴리싱 테이블상의 위치로 상기 회전가능한 샤프트의 주위로 각방향으로이동가능한것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 33] 제30항에 있어서,상기 폴리싱 테이블nan은스크롤형폴리싱테이블포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 34] 제30항에 있어서,상기 각각의 폴리싱 테이블과 관련된 각각의 전용 드레서 및 상기 드레서를 세정하기 위한각각의기구더포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 35] 제30항에 있어서,상기 톱링은 상기 폴리싱 테이블 중에 하나로부터 이격되고 상기 대상물이 폴리싱된 후에 상기 폴리싱 테이블에 인접한 돌출(overhanging)위치로 각방향으로 이동할 수 있고, 세정액은 상기 폴리싱 테이블에 인접하게 배치된 노즐로부터 상기 돌출 위치내의 상기 톱링에 의해 고정된상기대상물공급되는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 36] 제30항에 있어서,상기 회전식 운반기의 상기 부분들은 폴리싱되기 전의 상기 대상물을 지지하는 로딩 스테이지 및 폴리싱된 후의 상기 대상물을 지지하는언로딩 스테이지포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 37] 제30항에 있어서,상기 회전식 운반기로 또는 상기 회전식 운반기로부터 상기 대상물을 반송하고 상기 대상물을 반전시키는 위치반전기를 더 포함하고, 상기 위치반전기는 상기 회전식 운반기의 위 또는 아래에 위치되고 상기 위치반전기와 상기 회전식 운반기 사이에서 상기 대상물의 반송은 상기 대상물을 고정하고 수직으로 이동할 수 있는 리프터(lifter)에 의해수행되는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 38] 제30항에 있어서,상기 회전식 운반기로 또는 상기 회전식 운반기로부터 상기 대상물을 반송하고 상기 대상물을 반전시키는 위치반전기를 더 포함하고, 상기 위치반전기는 폴리싱된 면이 위쪽을 향하도록 상기 폴리싱된 대상물을 반전시킬 수 있고, 상기 폴리싱된 대상물은 상기 폴리싱된 면이 위쪽으로 향한 채세정되는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 39] 제30항에 있어서,상기 회전식 운반기의 상기 부분들은 폴리싱될 상기 대상물을 고정하는 로드 스테이지 및 폴리싱된 상기 대상물을 고정하는언로드스테이지포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 41] 제40항에 있어서,각각의 상기 톱링은 적어도 1이상의 상기 폴리싱 테이블상의 위치 및 상기 운반기상의 위치로 회전가능한 샤프트의 주위로 각방향으로이동가능한것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 42] 제40항에 있어서,각각의 상기 톱링은상기 폴리싱 테이블 중에 2개의 테이블상의 위치로 상기 회전가능한 샤프트의 주위로 각방향으로이동가능한것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 43] 제40항에 있어서,상기 폴리싱 테이블들 중에 하나는스크롤형폴리싱테이블포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 44] 제40항에 있어서,상기 각각의 폴리싱 테이블과 관련된 각각의 전용 드레서 및 상기 드레서를 세정하기 위한각각의기구더포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 45] 제40항에 있어서,상기 톱링은 상기 폴리싱 테이블 중에 하나로부터 이격되고 상기 대상물이 폴리싱된 후에 상기 폴리싱 테이블에 인접한 돌출위치로 각방향으로 이동할 수 있고, 세정액은 상기 폴리싱 테이블에 인접하게 배치된 노즐로부터 상기 돌출 위치내의 상기 톱링에 의해 고정된상기대상물공급되는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 46] 제40항에 있어서,상기 운반기의 상기 부분들은 폴리싱되기 전의 상기 대상물을 지지하는 로딩 스테이지 및 폴리싱된 후의 상기 대상물을 지지하는언로딩 스테이지포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 47] 제40항에 있어서,상기 운반기로 또는 상기 운반기로부터 상기 대상물을 반송하고 상기 대상물을 반전시키는 위치반전기를 더 포함하고, 상기 위치반전기는 상기 운반기의 위 또는 아래에 위치되고 상기 위치반전기와 상기 운반기 사이에서 상기 대상물의 반송은 상기 대상물을 고정하고 수직으로 이동할 수 있는 리프터에 의해수행되는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 48] 제40항에 있어서,상기 운반기로 또는 상기 운반기로부터 상기 대상물을 반송하고 상기 대상물을 반전시키는 위치반전기를 더 포함하고, 상기 위치반전기는 폴리싱된 면이 위쪽을 향하도록 상기 폴리싱된 대상물을 반전시킬 수 있고, 상기 폴리싱된 대상물은 상기 폴리싱된 면이 위쪽으로 향한 채세정되는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 50] 제49항에 있어서,상기 운반기는 상기 톱링에 의해 접근될 수 있는 위치에 배치되는 회전식 운반기로서, 상기 대상물을 고정하기 위해 상기 회전식 운반기의 회전중심으로부터 소정의 원주상에 위치된 스테이지들을 가지며, 상기 스테이지들을 이동시킬 수 있는회전식운반기포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 51] 제49항에 있어서,상기 운반기는 상기 톱링에 의해 접근될 수 있는 위치에 배치되고, 왕복운동 방식으로 선형으로 이동할 수 있는 상기 스테이지들을 가지는선형운반기포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 52] 제51항에 있어서,상기 스테이지들은 상기 스테이지들이 상호간의 물리적 작용 없이 선형으로 이동할 수 있도록 상이한높이들위치되는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 53] 제49항에 있어서,상기 톱링은 적어도 상기 폴리싱 테이블상의 위치 및 상기 운반기의 상기 스테이지상의 위치로 회전가능한 샤프트의 주위로 각방향으로이동가능한것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 54] 제49항에 있어서,상기 스테이지들은 폴리싱될 상기 대상물을 고정하는 로드 스테이지와 폴리싱된 상기 대상물을 고정하는언로드스테이지포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 56] 제55항에 있어서,상기 각각의 폴리싱 테이블과 관련된각각의전용드레서더포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 57] 제55항에 있어서,상기 회전식 운반기의 회전 샤프트와 상기 톱링의 상기 회전 샤프트간의 거리는동일한것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 58] 제55항에 있어서,상기 회전식 운반기는 상기 복수의 폴리싱 테이블들 중에 하나상에 폴리싱될 상기 대상물을 반송하는 제1스테이지 및 상기 복수의 폴리싱 테이블들 중에 다른 하나상에 폴리싱될 상기 대상물을 반송하는제2스테이지포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 59] 제58항에 있어서,각각의 상기 제1스테이지 및 상기 제2스테이지는 폴리싱될 상기 대상물을 고정하는 로드 스테이지 및 폴리싱된 상기 대상물을 고정하는언로드스테이지포함하는것을특징으로 하는폴리싱 장치. [청구항 60] 제58항에 있어서,상기 회전식 운반기는 제1폴리싱 테이블 및 제2폴리싱 테이블로 상기 대상물을 공급하기 위한 4개의 스테이지들을 포함하고, 상기 스테이지들은 상기 제1폴리싱 테이블용 로드 스테이지, 상기 제1폴리싱 테이블용 언로드 스테이지, 상기 제2폴리싱 테이블용 언로드 스테이지 및 상기 제2폴리싱 테이블용 로드 스테이지가 상기 회전식 운반기의 회전 샤프트의 주위에 시계방향으로 위치되도록배열되는것을특징으로 하는폴리싱 장치.