문맥 (context)
[청구항 11]
진공용기의 내부에서 플라즈마가 형성되는 절연재료로 구성된 방전부와,
상기 방전부의 상면을 덮어 배치된 정전용량 결합 안테나와,
상기 방전부 측면의 바깥쪽에 배치된 코일형상의 유도결합 안테나와,
상기 유도결합 안테나 및 정전용량 결합 안테나에 고주파 전력을 공급하는 고주파 전원을 구비한 플라즈마처리장치에 있어서,
상기 유도결합 안테나와 상기 정전용량 결합 안테나는 전기적으로 직렬로 접속되고,
또한, 상기 정전용량 결합 안테나와 상기 유도결합 안테나에 흐르는 전류의 비율을 조절하는 조절수단을 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마처리장치
[청구항 12]
제 11항에 있어서,상기 조절수단은, 상기 정전용량 결합 안테나에 대하여 병렬로 접속된 임피던스가 가변인부하회로인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 13]
제 11항에 있어서,상기 조절수단은, 상기 유도결합 안테나에 대하여 병렬로 접속된 임피던스가 가변인부하회로인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 14]
제 11항에 있어서,상기 조절수단은, 배리콘과 고정 인덕터를 직렬로 접속한회로인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 15]
제 11항에 있어서,상기 유도결합 안테나를 2계통 구비하고, 또한, 각 유도결합 안테나에 흐르는 고주파 전류의 크기를 조절하는고주파 전류조절수단설치한것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 16]
제 15항에 있어서,상기 2계통의 유도결합 안테나를 병렬로 접속하고, 한쪽의 1계통에상기고주파 전류조절수단을직렬설치한것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 17]
제 15항에 있어서,상기 고주파 전류 조절수단은, 배리콘, 또는 배리콘과 고정 인덕터를 직렬로 접속한회로인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 18]
진공용기의 내부에서 플라즈마가 형성되는 절연재료로 구성된 방전부와,
상기 방전부의 상면 및 측면을 덮어 배치된 정전용량 결합 안테나와,
상기 정전용량 결합 안테나의 바깥쪽에 배치된 코일형상의 유도결합 안테나와,
상기 유도결합 안테나 및 정전용량 결합 안테나에 고주파 전력을 공급하는 고주파 전원을 구비한 플라즈마처리장치에 있어서,
상기 유도결합 안테나와 상기 정전용량 결합 안테나는 전기적으로 직렬로 접속되고,
또한, 상기 정전용량 결합 안테나와 상기 유도결합 안테나에 흐르는 전류의 비율을 조절하는 조절수단을 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마처리장치
[청구항 19]
제 18항에 있어서,상기 정전용량 결합 안테나에 상기 유도결합 안테나의 전계가 투과하는슬릿설치한것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 20]
제 18항에 있어서,상기 유도결합 안테나를 적어도 2계통 구비하고, 또한 각 유도결합 안테나에 흐르는 고주파 전류의 크기를 조절하는고주파 전류조절수단설치한것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 21]
제 20항에 있어서,적어도 2계통의 유도결합 안테나를 병렬로 접속하고, 적어도 1계통에상기고주파 전류조절수단을직렬설치한것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 22]
제 18항에 있어서,상기 고주파 전류 조절수단은, 배리콘, 또는 배리콘과 고정 인덕터를 직렬로 접속한회로인것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 23]
제 20항에 있어서,적어도 2계통의 유도결합 안테나를 직렬로 접속하고, 각 유도결합 안테나에상기고주파 전류조절수단을병렬설치한것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 24]
제 20항에 있어서,적어도 2계통의 유도결합 안테나를 직렬로 접속하고, 유도결합 안테나끼리의 접속점에, 상기 고주파 전류 조절수단의 한쪽 끝을 접속하고, 상기 고주파 전류 조절수단의 다른한쪽끝어스한것을특징으로 하는플라즈마처리장치.
[청구항 26]
진공용기의 내부에서 플라즈마가 형성되는 절연재료로 구성된 방전부와,
상기 방전부 바깥쪽의 측면에 배치된 코일형상의 유도결합 안테나와,
상기 유도결합 안테나의 바깥쪽을 덮어 배치된 정전용량 결합 안테나와,
상기 유도결합 안테나 및 정전용량 결합 안테나에 고주파 전력을 공급하는 고주파 전원을 구비한 플라즈마처리장치에 있어서,
상기 유도결합 안테나와 상기 정전용량 결합 안테나는 전기적으로 직렬로 접속되고,
또한, 상기 정전용량 결합 안테나와 상기 유도결합 안테나에 흐르는 전류의 비율을 조절하는 조절수단을 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마처리장치
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 11항의 플라즈마처리장치에서 정전용량 결합 안테나와 유도결합 안테나에 흐르는 전류의 비율을 조절하기 위한 조절수단으로 사용될 수 있는 회로 구성은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation청구항 11항의 플라즈마처리장치에서 두 안테나(정전용량 결합 안테나, 유도결합 안테나) 사이의 전류 비율을 조절하는 '조절수단'의 구체적인 회로 구성을 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 11항은 조절수단을 구비한다고 명시하고 있으며, 이를 구체화하는 종속항인 12항, 13항, 14항에서 조절수단의 구성을 설명한다.
- 상기 정전용량 결합 안테나와 상기 유도결합 안테나에 흐르는 전류의 비율을 조절하는 조절수단을 구비한
- 상기 조절수단은, 배리콘과 고정 인덕터를 직렬로 접속한회로인것
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3근거 선택
evidence_selection조절수단의 구성을 나타내는 청구항 12항(임피던스가 가변인 부하회로), 13항(임피던스가 가변인 부하회로), 14항(배리콘과 고정 인덕터를 직렬로 접속한 회로)의 내용을 선택한다.
- 상기 조절수단은, 배리콘과 고정 인덕터를 직렬로 접속한회로인것
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4논리 통합
logical_integration청구항 12항과 13항은 안테나에 병렬로 접속된 임피던스가 가변인 부하회로를 조절수단으로 제시하며, 14항은 배리콘과 고정 인덕터를 직렬로 접속한 회로를 제시한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation따라서 조절수단으로 사용될 수 있는 회로 구성은 임피던스가 가변인 부하회로(정전용량 또는 유도결합 안테나에 병렬 접속)와 배리콘 및 고정 인덕터의 직렬 접속 회로이다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 회로 구성들을 리스트 형식으로 정리하여 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
임피던스가 가변인 부하회로(정전용량 결합 안테나 또는 유도결합 안테나에 병렬로 접속된 것), 배리콘과 고정 인덕터를 직렬로 접속한 회로
핵심 해석 (core_interpretation)
정전용량 결합 안테나와 유도결합 안테나의 전류 비율을 조절하기 위해 안테나에 병렬로 연결되는 가변 임피던스 부하회로나 특정 소자(배리콘, 인덕터)의 직렬 조합 회로를 활용하는 기술이다.