문맥 (context)
[청구항 1]
가스도입계를 접속할 수 있고 진공배기계에 연결되는 배기구를 구비하고 있고, 적어도 일부가 도전성인 진공용기,
상기 진공용기 내부에 배치된 기판홀더, 및
플라스마를 발생시키기 위한 교류전력을 상기 진공용기 내부에 도입하기 위해 전력도입부를 구비하고 있으며,
상기 전력도입부는 유도체를 구비하고 있고 이 유도체의 적어도 일부는 상기 진공용기 내부공간에 노출되어 있고,
상기 유도체의 상기 노출된 부분은 플라스마 처리시의 위치에 있는 상기 기판홀더의 기판재치면에서는 보이지 않는 위치에 있고, 상기 기판재치면과 상기 배기구 사이에 위치하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 가스도입계에서 도입된 도입가스가 상기 진공용기 내부를 흐를 때의 흐름방향에 따라 상류와 하류를 정의하면, 상기 유도체의 상기 노출부분보다 상류측에 상기 기판홀더의 기판재치면이 존재하고, 상기 유도체의 상기 노출부분보다 하류측에상기배기구존재하는것을특징으로 하는플라스마 처리장치.
[청구항 3]
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 전력도입부는 실질적으로 원환형상의 안테나를 포함하고, 이 안테나와 진공용기의 내부공간 사이에 상기 유전체가 존재하며, 상기 안테나에고주파전력공급되는것을특징으로 하는플라스마 처리장치.
[청구항 4]
제 3 항에 있어서,상기 전력도입부와 상기 기판홀더 사이에 배기용 틈새가 형성되고, 상기 유전체의 상기 노출부분은 상기 틈새에 접근함에 따라 상기 기판홀더의 상기 기판재치면에서 이격되는 방향으로 경사져있는것을특징으로 하는플라스마 처리장치.
[청구항 5]
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 전력도입부는 실질적으로 원환형상의 구형도파관으로, 이 구형도파관의 상기 진공용기 내부공간에 노출되어 있는 표면에 유전체제의 창이 형성되어 있고, 이 구형도파관에마이크로파전력공급되는것을특징으로 하는플라스마 처리장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라스마 처리장치에서 유도체의 노출된 부분이 기판재치면으로부터 보이지 않도록 배치되기 위한 위치 관계는 어떠한가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation플라스마 처리장치에서 유도체의 노출된 부분이 기판재치면으로부터 보이지 않도록 배치되는 구체적인 위치 관계를 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 유도체의 노출된 부분에 대한 위치 정보를 추출한다.
- 상기 유도체의 상기 노출된 부분은 플라스마 처리시의 위치에 있는 상기 기판홀더의 기판재치면에서는 보이지 않는 위치에 있고, 상기 기판재치면과 상기 배기구 사이에 위치하고 있는
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3근거 선택
evidence_selection질문에 직접적으로 대응하는 '기판재치면과 배기구 사이'라는 위치 관계 구절을 선택한다.
- 상기 기판재치면과 상기 배기구 사이에 위치하고 있는
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4논리 통합
logical_integration유도체의 노출된 부분이 기판재치면에서 보이지 않기 위한 조건이 기판재치면과 배기구 사이에 위치하는 것임을 연결한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation유도체의 노출된 부분은 기판재치면과 배기구 사이에 위치함으로써 기판재치면에서 보이지 않게 된다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 상기 기판재치면과 상기 배기구 사이에 위치하고 있는
최종 답변 (final_answer)
상기 기판재치면과 상기 배기구 사이에 위치하고 있는
핵심 해석 (core_interpretation)
플라스마 처리 시 유도체의 노출된 부분이 기판재치면에서 직접적으로 보이지 않도록, 유도체를 기판재치면과 배기구 사이의 공간에 배치하는 위치 관계를 정의함.