양극화성장치, 양극화성시스템, 기판의 처리장치 및처리방법과 기판의 제조방법 document_id 1020000015003

[청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 마이너스전극은 하부 측에 가스가 잔류하는 것을 방지하기 위한가스배출용구멍가지는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 3] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 플러스전극은 양극화성 처리 시에 처리대상의 기판의 하면에 직접 접촉한 상태에서 이 기판에전류공급하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 4] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 플러스전극 중 적어도 처리대상의 기판에 접촉하는 부분은반도체재료형성되어있는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 5] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 플러스전극을 지지하는 전극 지지부를 부가하여 포함하고, 상기 전극 지지부는 상기 플러스전극을 탈착하기 위한기구가지는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 6] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 플러스전극은 처리대상의 기판을 흡착하기 위한흡착기구가지는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 7] 제 6항에 있어서,상기 흡착기구는진공흡착기구인것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 8] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 유지부는처리대상의기판의하면의주변부유지하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 9] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 유지부는 기판의 하면의 주변부를 흡착함으로써 기판을 유지하기 위한흡착부가지는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 10] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 양극화성조는, 바닥부에 개구부를 가지고, 또한 상기 유지부에 의해 처리대상의 기판을 유지할 때 유체를 채울수있는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 11] 제 10항에 있어서,상기 플러스전극은 개구부의 안쪽에서처리대상의기판의하면접촉하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 12] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 플러스전극을 승강시키기 위한 전극용 승강기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 13] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,처리대상의 기판을 대략 수평면에서 회전시키고 이에 의해 기판에 부착되어 있는 액체를 제거하기 위한 회전구동기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 14] 제 6항에 있어서,기판이 상기 유지부로부터 해제된 후 이 기판을 흡착한 상기 플러스전극을 대략 수평면내에서 회전시키고 이에 의해 이 기판을 회전시키기 위한 회전구동기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 15] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 양극화성조는 그 바닥부에 상기 플러스전극을 처리대상의 기판의 하면에 접촉시키기 위한 개구부를 가지고, 상기 유지부는 상기 양극화성조의 바닥부에 상기 개구부를 따라서 원화상으로 배치되어 있고,처리대상의기판의하면의주변부유지하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 16] 제 15항에 있어서,상기 플러스전극을 승강시키는 전극용 승강기구와;처리대상의 기판을 상기 유지부에 접촉하지 않는 부위까지 상승시킨 후 이 기판을 상기 플러스전극에 흡착시켜서 상기 플러스전극을 대략 수평면내에서 회전시킴으로써 이 기판을 회전시키기 위한 회전구동기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 17] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,처리대상의 기판을 반송로보트로부터 수취하여 이 기판을 상기 유지부에 유지하기 위한 기판조작기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 18] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,처리대상의 기판을 반송로보트로부터 수취하여 이 기판을 상기 유지부에 유지시키는 동시에 처리가 종료된 기판을 상기 반송로보트 또는 다른 반송로보트로 인도하기 위한 기판조작기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 19] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 양극화성조의 상부에서 처리대상의 기판을 반송로보트로부터 수취하여 그후 이 기판을 하강시켜서 상기 유지부에 유지시키기 위한 승강기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 20] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 양극화성조에 상부에서 처리대상의 기판을 반송로보트로부터 수취하여 그 후 이 기판을 하강시켜서 상기 유지부에 유지시키는 동시에 처리가 종료된 기판을 상기 유지부로부터 수취하여 그 후 이 기판을 상승시켜서 상기 반송로보트 또는 다른 반송로보트로 인도하기 위한 기판용 승강기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 21] 제 20항에 있어서,상기 승강기구는 처리대상의 기판을 하방으로부터 지지하는 지지부를 가지고 이 지지부위에 이 기판을 위치시켜서 이기판승강시키는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 22] 제 21항에 있어서,처리대상의 기판을 대략 수평한 상태로 반송로보트와의사이받는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 23] 제 21항에 있어서,상기 지지부는 처리대상의 기판을 하방으로부터 지지한 반송로보트와의 사이에서 이 기판을 주고 받는 것이 가능한구조가지는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 24] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 마이너스전극을 이동시키기 위한 구동기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 25] 제 24항에 있어서,상기 구동기구는 처리대상의 기판을 상기 유지부에 유지시키는 때는 상기 양극화성조로부터 상기 마이너스전극을 제거하고 이 기판에 양극화성처리를 실시하는 때는 이 기판에상기마이너스전극대향시키는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 26] 제 1항에 있어서,상기 양극화성조의 조내에 전해질용액을 공급하기 위한 공급부를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 27] 제 1항에 있어서,상기 양극화성조로부터 전해질용액을 배출하기 위한 배출부를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 28] 제 1항에 있어서,상기 양극화성조의 내부에 전해질용액을 공급하는 동시에 상기 양극화성조로부터 상기 전해질용액을 배출하면서 상기 전해질용액을 순환시키는 순환계를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 29] 제 26항 내지 제 28항 중 어느 한 항에 있어서,기판에 양극화성처리를 실시한 후에 상기 양극화성조의 내부에 세정액을 공급하기 위한 공급부를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 30] 제 29항에 있어서,상기 양극화성조로부터 세정액을 배출하기 위한 배출부를 부가하여포함한것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 31] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 양극화성조에 전해질 용액을 채워서 기판에 양극화성처리를 실시하고 그후 상기 양극화성조에 세정액을 채워서 이 기판을 세정하는 장치로 이용할 수있는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 32] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 양극화성조에 전해질용액을 채워서 기판에 양극화성처리를 실시하고 그 후 상기 양극화성조에 세정액을 채워서 이 기판을 세정하고, 그 후 이 기판을 건조시키는 장치로서 이용할 수있는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 34] 제 33항에 있어서,상기 양극화성조 내에서 세정후의 기판을 회전시켜서 이 기판을 건조시키기 위한 회전구동기구를 부가하여포함하는것을특징으로 하는양극화성장치. [청구항 36] 제 35항에 있어서,상기 처리수단은 기판을 대략 수평한 상태로 유지하면서 이 기판에처리실시하는것을특징으로 하는기판의 처리장치. [청구항 37] 제 35항 또는 제 36항에 있어서,상기 처리수단은 기판을 하방으로부터만 지지하면서 이 기판에처리실시하는것을특징으로 하는기판의 처리장치. [청구항 38] 제 35항 또는 제 36항에 있어서,기판을 대략 수평한 상태에서 반송로보트로부터 수취하여 처리하고 처리후의 기판을 대략 수평한 상태에서 반송로보트로 인도하기 위한 기판조작수단을 부가하여포함하는것을특징으로 하는기판의 처리장치. [청구항 39] 제 38항에 있어서,상기 기판조작수단은 기판을 그 하방으로부터만지지조작하는것을특징으로 하는기판의 처리장치.