리모트 플라즈마를 이용한 원자층 형성장치의 기체이송장치 document_id 1020000018739

[청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 여기된 하나의 반응기체와 여기하지 않은 또 다른 하나의 반응기체는 시간에 따라 교번적으로 반응기에 주입하도록 구성하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 3] 제1항상기 에너지공급부는 상기 제1반응기체와 상기 제2반응기체 중 어느 하나가 이온화 되도록 플라즈마 현상을 유도하는 플라즈마발생부인 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 4] 제1항상기 밸브제어수단은 여기된 하나의 반응기체 공급과, 여기되지 않은 다른 하나의 반응기체 공급 사이에 캐리어기체를 공급하여 클리닝 시키는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 6] 제 5항에 있어서,상기 여기된 반응기체는 nh3 또는 h2를 이용하며, 상기 여기하지 않은 다른 하나의 반응기체는 tacl5인 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 7] 제5항상기 밸브구동부에는 상기 플라즈마에 의해 이온화된 기체와 상기 반응기체 중 어느 하나를 공급한 후에 클리닝기체를 공급하여 클리닝 시키는 클리닝기체발생부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 8] 제7항상기 플라즈마발생부와 상기 반응기체발생부와 상기 클리닝기체발생부에서 각각 발생되는 기체는 상기 밸브구동부에 의해서 제어되며 그 공급 순서는 반응기체, 클리닝기체, 플라즈마에 의해 이온화된 기체, 클리닝기체로 이루어지는 사이클이 다수회 반복되는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 9] 제8항상기 클리닝기체는 아르곤과 질소를 포함하는 불활성기체 중 적어도 어느 하나이며, 이는 상기 반응기체와 상기 플라즈마에 의해 이온화된 기체를 상기 챔버에게 이송 시키는 캐리어기체인 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 10] 제8항상기 사이클에 의해서 상기 웨이퍼의 표면에 수 å의 두께를 갖는 박막이 균일하게 증착 되는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 11] 제5항상기 플라즈마발생부와 상기 반응기체발생부에는 각각 플라즈마에 의해 이온화된 기체와 반응기체가 일정하게 공급되도록 제어하는 유량제어부가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 12] 제5항상기 플라즈마발생부는 nh3와 h2 중 어느 하나의 기체소스를 플라즈마 현상으로 유도하며, 상기 반응기체발생부는 tacl5의 고체소스를 승화시킨 반응기체와 ta(oc2h5)5의 액체소스를 기화 시킨 반응기체 중 어느 하나로 유도하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 13] 제12항에 있어서;상기 반응기체 발생부는 tacl5 고체소스의 승화조건이 만족되는 100-150 deg c 까지 가열됨을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 14] 제12항에 있어서;상기 반응기체 발생부의 tacl5 기체소스에 상기 플라즈마발생부의 nh3와 h2 기체소스 중 어느 하나를 합성하여 ta와 tan 중 어느 하나가 상기 웨이퍼에 증착 되도록 하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 15] 제14항에 있어서;상기 ta는 고유전율공정의 확산장벽으로 이루어지며, 상기 tan는 구리배선공정의 확산장벽으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 16] 제5항상기 밸브구동부에는 상기 챔버로 공급되는 플라즈마에 의해 이온화된 기체와 반응기체가 일정한 압력을 유지하도록 한 바이패스수단이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 17] 제16항에 있어서;상기 바이패스수단은 오리피스(orifice)와 메트링밸브(metering valve) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 18] 제5항상기 밸브구동부는,상기 반응기체발생부의 반응기체를 상기 챔버의 웨이퍼에게 공급하는 제1피딩밸브부와;상기 플라즈마발생부의 플라즈마에 의해 이온화된 기체를 상기 챔버의 웨이퍼에게 공급하는 제2피딩밸브부와;상기 제1피딩밸브부와 제2피딩밸브부에 의한 각각의 공급 후 클리닝기체를 상기 챔버를 향하여 공급하는 퍼지밸브부를 포함하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 19] 제18항에 있어서;상기 제1 피딩밸브부에 따른 상기 반응기체를 공급하면서 상기 퍼지밸브부에 의한 캐리어기체를 상기 챔버에게 공급되도록 제어하며;상기 제2피딩밸브부에 따른 상기 플라즈마에 의해 이온화된 기체를 공급하면서 상기 퍼지밸브부에 의한 캐리어기체를 상기 챔버에게 공급되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 20] 제19항에 있어서;상기 제1피딩밸브부와 상기 퍼지밸브부에 의한 제1피딩일 경우,상기 tacl5의 고체소스를 승화시킨 반응기체와 ta(oc2h5)5의 액체소스를 기화 시킨 반응기체 중 어느 하나를 상기 챔버에게 공급하는 제1 피딩밸브부의 v1밸브 및 v3밸브와;상기 불활성기체인 캐리어기체를 상기 반응기체와 함께 상기 챔버에게 공급하는 퍼지밸브부의 v5밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 21] 제20항에 있어서;상기 제1피딩밸브부에 의해서 제1피딩되면서 상기 제2피딩밸브부의 v6밸브와 v8밸브를 개방하여 일정한 압력을 유지하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 22] 제19항에 있어서;상기 제1피딩 이후에 상기 퍼지밸브부의 v4밸브를 개방하여 상기 챔버에게 클리어기체를 공급하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 23] 제19항에 있어서;상기 제2피딩밸브부와 상기 퍼지밸브부에 의한 제2피딩일 경우,상기 nh3와 h2 중 어느 하나로부터 플라즈마에 의해 이온화된 기체를 상기 챔버에게 공급하는 제2피딩밸브부의 v6밸브 및 v7밸브와;상기 불활성기체인 캐리어기체를 상기 반응기체와 함께 상기 챔버에게 공급하는 퍼지밸브부의 v4밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 24] 제23항에 있어서;상기 제2피딩밸브부에 의해서 제2피딩되면서 상기 제1피딩밸브부의 v2밸브와 v9밸브를 개방하여 일정한 압력을 유지하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치. [청구항 25] 제24항에 있어서;상기 제1피딩 이후에 상기 퍼지밸브부의 v5밸브를 개방하여 상기 챔버에게 클리어기체를 공급하는 것을 특징으로 하는 리모트 플라즈마이용한원자층 형성장치의 기체이송장치.