유도 결합 플라즈마 처리 장치 document_id 1020000024869

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 처리실의 상측에 배치되고, 상기 고주파 안테나를 수용하는 안테나실을 더 포함하고, 상기 안테나실의 천정은 상기 상방 프레임기능하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 처리실 및 상기 안테나실은 기밀 본체 용기를 상기 유전체 벽에 의해상하구획함형성되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 샤워 케이스는 상기 고주파 안테나가 연장되는 방향에 대하여 실질적으로 직교하는 방향으로 연장되는 형상갖는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 6] 제 4 항에 있어서,상기 샤워 케이스가접지되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,스펜더는 상기 처리 가스 공급 시스템으로부터 상기 가스 공급 구멍으로 상기 처리 가스를 공급하기 위한 가스관포함하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 유전체 벽은 하면내에 상기 샤워 케이스를 수용하는 오목부갖는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 유전체 벽 및 상기 샤워 케이스의 하면을 피복하는 유전체 커버를 더 포함하며, 상기 가스 공급 구멍에 대응하여 상기 유전체 커버에 구멍형성되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 유전체 벽은 상기 샤워 케이스상에서 서로 인접하는 다수의 세그먼트를 조합구성되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 지지 비임이 상기 고주파 안테나가 연장되는 방향에 대하여 실질적으로 직교하는 방향으로 연장되는 형상갖는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 13] 제 11 항에 있어서,상기 지지 비임이접지되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 14] 제 11 항에 있어서,상기 유전체 벽은 하면내에 상기 지지 비임을 수용하는 오목부갖는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기 유전체 벽 및 상기 지지 비임의 하면을 피복하는 유전체 커버더 포함하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 16] 제 11 항에 있어서,상기 유전체 벽은 상기 지지 비임상에서 서로 인접하는 다수의 세그먼트를 조합구성되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 17] 제 11 항에 있어서,스펜더에 배치되고, 상기 유전체 벽을 가열하기 위한 히터더 포함하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,상기 지지 부재는 상기 유전체 벽과 평행하게 연장되는 부분을 갖고, 상기 지지 부재상에 상기 유전체 벽탑재되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 유전체 벽은 상기 지지 부재상에서 서로 인접하는 다수의 세그먼트를 조합구성되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 22] 제 21 항에 있어서,상기 유전체 벽은 하면내에 상기 지지 비임을 수용하는 오목부갖는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 23] 제 21 항에 있어서,상기 탑재대와 상기 유전체 벽 사이에 배치되고, 상기 처리 가스 공급 시스템에 접속된 가스 유로와 상기 탑재대에 대하여 개방되는 다수의 가스 공급 구멍을 갖는 샤워 케이스를 포함하는 샤워 헤드를 더 포함하며, 상기 샤워 케이스는 상기 지지 비임으로서 기능하고, 상기 가스 공급 구멍에 대응하여 상기 유전체 커버에 구멍형성되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 24] 제 21 항에 있어서,상기 유전체 벽의 상방에 배치된 상방 프레임과, 상기 유전체 벽의 주연부로부터 떨어진 위치에 있어서, 상기 유전체 벽의 하중이 상기 상방 프레임에 걸리도록 배치된 서스펜더더 포함하는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 26] 제 25 항에 있어서,상기 샤워 케이스는 상기 고주파 안테나가 연장되는 방향에 대하여 실질적으로 직교하는 방향으로 연장되는 형상갖는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 27] 제 26 항에 있어서,상기 고주파 안테나는 나선형 안테나를 포함하고, 상기 샤워 케이스는 방사 방향으로 연장되는 형상갖는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 28] 제 26 항에 있어서,상기 고주파 안테나는 서로 평행하게 연장되는 다수의 긴 직선 부분을 갖는 안테나를 포함하며, 상기 샤워 케이스는 상기 직선 부분에 직교하도록 서로 평행하게 연장되는 다수의 부분갖는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 29] 제 25 항에 있어서,상기 샤워 케이스가접지되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 30] 제 25 항에 있어서,상기 샤워 케이스의 하면을 피복하는 유전체 커버를 더 포함하며, 상기 가스 공급 구멍에 대응하여 상기 유전체 커버에 구멍형성되는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 31] 제 25 항에 있어서,상기 고주파 안테나에 직렬로 접속되고, 임피던스의 절대치가 상기 고주파 안테나에 대하여 대략 절반의 값을 갖는 1개의 콘덴서를 더 포함하며, 상기 콘덴서가 안테나 임피던스저하시키는유도 결합 플라즈마 처리 장치. [청구항 32] 제 25 항에 있어서,상기 고주파 안테나는 다수의 안테나 세그먼트로 분할되어, 상기 안테나 세그먼트간에 콘덴서가 직렬로 접속되고, 상기 콘덴서가 안테나 임피던스저하시키는유도 결합 플라즈마 처리 장치.