기판 상에 박막을 성장시키는 장치 document_id 1020000024933

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 반응 챔버의 부분들은 기판의 처리중에 그리고 기판의 로드 또는 언로드 중에 제 2 챔버(1)내포함되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 제 2 챔버는진공용기구성되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 액츄에이터가이송로드포함하는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 5] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 이동 베이스 부분(18)은 상기 기판 평면에 대해 본질적으로 평행한 방향으로, 또는 선택적으로 직각방향으로 이동하게형성되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 이동 베이스 부분(18)은 상기 기판 평면과 평행한 방향과 수직인 방향의 양 방향으로 이동가능하게형성되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 고정 베이스 부분은 고정 베이스 부분의 에지를 둘러싸는 래빗을 구비하며, 상기 이동 베이스 부분에는 상기 고정 베이스 부분에 대해 상기 이동 부분을 밀봉하도록 래빗 형상에 대응하는 형태로 형성된외측에지제공되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 8] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 반응 챔버의 이동 베이스 부분(18)은 기판이 위치될 수 있는기판지지플랫포옴작용하는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 9] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 반응 챔버의 고정 베이스 부분은 기판이 위치될 수 있는기판지지플랫포옴작용하는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 10] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 반응 챔버(2)는 상기 반응 챔버의 베이스 부분이 진공 용기의 벽들에 지지되거나 상기 베이스 부분이 상기 진공 용기의 벽의 일부를 형성하도록,상기진공용기의내부구성되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 반응 챔버가 밀폐될 때 열에 의한 기계적인 변형이 기판의 위치설정에 영향을 주는 것을 방지하기 위해, 지지 수단의 중심 축선이 기판의 중심 포인트와 일치되도록, 상기 반응 챔버(2)는상기진공용기의벽지지되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 12] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 반응 챔버의 상기 베이스 부분 및 상기 이동 부분 중의 어느 하나에가열부재제공되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 13] 제 10 항에 있어서,상기 반응 챔버의 상기 베이스 부분 및 상기 이동 부분 모두에가열부재제공되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 14] 제 12 항에 있어서,상기 반응 챔버의 상기 베이스 부분(9, 10) 및 상기 이동 베이스 부분(18)은 수동적 열절연 반사형 시일드와 능동적 열절연 부재 중 하나 이상에 의해 진공 용기로부터열적절연되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 15] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 이동 베이스 부분(18)에 기판 상승 수단(20)이 제공되며, 상기 기판 상승 수단(20)의 직립 이동은 상기 기판의 지지 플랫포옴으로부터 기판의 상승 및 이송 수단 상으로의 상기 기판의 연속적인장착하는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기 이송 수단nan은로봇아암구성되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 17] 제 16 항에 있어서,상기 기판 상승 수단은 상기 지지 플랫포옴 표면으로부터 상기 기판을 상승시키도록 상기 지지 플랫포옴에 대해 직각으로 이동가능하도록 기판 지지 플랫포옴에 구성되는핀구비하는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 핀(20)에는 스프링(21)이 장착되며, 상기 기판 지지 플랫포옴에 형성된 구멍속으로 이동하도록구성되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 19] 제 17 항에 있어서,상기 핀(20)들의 상단부들은 기판 지지 플랫포옴에 대해 안착되도록 하향의 테이퍼 형상으로 형성되며, 상기 기판 지지 표면의 시트 구멍들은 상기 핀 단부들의 깊이로 유사하게 하향의 테이퍼 형상으로 형성되어, 핀들이 지지 플랫포옴의 상기 시트 구멍속으로 밀봉 가능하게하강되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 20] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 이동 부분은 금속 및 탄성중합체 중 하나 이상의 시일들에 의해 상기 베이스 부분에 대해밀봉되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 21] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 이동 부분은 보호 가스로 세정되는 진공 펌프-아웃 홈에 의해 상기 베이스 부분에 대해밀봉되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 22] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 이동 부분은 판 형상의 결합 표면에 의해 상기 베이스 부분에 대해밀봉되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 23] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 반응로는 냉각-벽구조구비하는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 24] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,반응물 유입 채널 및 가스 반응 생성물 및 과도한 반응물의 유출 채널들은 상기 압력-밀폐식 용기의 벽 중에서도 바닥을 통해통과되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 25] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,반응물 유입 채널 및 가스 반응 생성물 및 과도한 반응물의 유출 채널들은 상기 압력-밀폐식 용기의 상부 및 하부벽을 통해 압력-밀폐식용기속통과되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 26] 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 반응 챔버의 내부에 구성 가능한 지지 구조물에 의해서, 상기 지지 구조물이 상기 기판상에 박막을 증착하도록 둘이상의기판들을동시유지하는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 27] 제 26 항에 있어서,상기 지지 구조물은 상기 기판을 지지하기 위해 상부에 제공된 플랫포옴 선반 또는 브래킷들을 갖는 래크 또는 선택적으로 적층가능한 모듈러 부재들을 갖는카셋트유닛구성되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 28] 제 27 항에 있어서,상기 모듈러 부재들은서로동일한것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 29] 제 27 항에 있어서,상기 부재들의 일부분 이상이 기판을 수용하도록설계되는것을특징으로 하는박막 성장 장치. [청구항 30] 제 29 항에 있어서,상기 기판-수용 부재들은 상기 기판을 위한지지브래킷또는플랫포옴의역할하는것을특징으로 하는박막 성장 장치.