문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 지지 부재는 상기 다관절 아암부의 신축에 따라 상기 선단 아암에 대해 왕복운동하는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 3]
제 2 항에 있어서,상기 지지 부재의 왕복 운동을 상기 다관절 아암부의 신축에 연동시키기 위해, 상기 부 구동 기구가 상기 주 구동 기구에 기계적접속되는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 4]
제 3 항에 있어서,상기 부 구동 기구는 상기 선단 아암에 축 지지된 한쌍의 풀리와, 상기 한쌍의 풀리 사이에 가로걸쳐진 벨트를 가지며, 상기 벨트에는 상기 지지 부재연결되는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 5]
제 3 항에 있어서,상기 부 구동 기구는 상기 선단 아암에 축 지지된 한쌍의 스프로킷과, 상기 한쌍의 스프로킷 사이에 가로걸쳐진 체인을 가지며, 상기 체인에는 상기 지지 부재연결되는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 6]
제 3 항에 있어서,상기 부 구동 기구가 증속기를 지나 상기 주 구동 기구접속되는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 7]
제 1 항에 있어서,상기 부 구동 기구를 상기 주 구동 기구와는 독립적으로 구동시키기 위한 제어부더 구비하는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 8]
제 7 항에 있어서,상기 부 구동 기구는 상기 선단 아암상에 배치된 피스톤 실린더와, 상기 피스톤 실린더에 의해 왕복 운동되는 피스톤 로드를 가지며, 상기 피스톤 로드에는 상기 지지 부재연결되는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 9]
제 7 항에 있어서,상기 부 구동 기구는 상기 선단 아암상에 배치된 볼나사와, 상기 볼나사에 회전 구동력을 부여하기 위해 상기 선단 아암상에 배치된 모터와, 상기 볼나사에 나사 결합되는 볼너트를 가지며, 상기 볼너트에는 상기 지지 부재연결되는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 10]
제 1 항에 있어서,상기 다관절 아암부 및 상기 지지 부재가 수축한 상태에 있어서 상기 지지 부재를 끼우도록 배치되고, 피처리 기판을 지지하기 위한 한쌍의 보관 선반과, 상기 지지 부재와 상기 보관 선반 사이에서 피처리 기판을 주고받도록 상기 지지 부재와 상기 보관 선반을 상대적으로 상하로 구동시키기 위한 수직 구동 기구더 구비하는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 11]
제 10 항에 있어서,상기 다관절 아암부는 상기 지지 베이스에 대하여 수평면내에서 회전이 가능하고, 상기 반송 장치는 상기 다관절 아암부를 회전시키기 위한 회전 구동 기구더 구비하는반도체 처리용 반송 장치.
[청구항 14]
제 13 항에 있어서,상기 리프터 구동 기구를 지나 상기 1 및 제 2 리프터의 동작을 제어하기 위한 제어부를 더 구비하며;상기 제어부는,상기 반송 장치에 의해 반입되는 미처리 피처리 기판을 상기 제 2 리프터 세트에 의해 상기 탑재면 상부 방향의 상측 레벨에 지지하는 단계와,처리 완료된 피처리 기판을 상기 제 1 리프터 세트에 의해 상기 탑재면과 상기 상측 레벨 사이의 중간 레벨에 지지하는 단계와,상기 반송 장치에 의해 상기 처리 완료된 피처리 기판을 상기 중간 레벨로부터 반출한 후에, 상기 미처리 피처리 기판을 상기 상측 레벨로부터 상기 탑재면상으로 하강시키도록 상기 제 1 및 제 2 리프터 세트를 구동하는단계수행하도록설정되는반도체 처리용 수용 장치.
[청구항 15]
제 13 항에 있어서,상기 수용 장치가 반도체 처리 장치로 구성되며,상기 탑재대를 하측 위치와 상측 위치 사이에서 이동시키기 위한 탑재대 구동 기구로서, 상기 하측 위치에 있어서 반송 장치에 의해 상기 탑재대에 대하여 피처리 기판이 로드 및 언로드되고, 상기 상측 위치에 있어서 피처리 기판에 대하여 처리가 실시되는, 상기 탑재대 구동 기구와,상기 상측 위치에 있는 상기 탑재대의 바로 상부에 배치된 공급구를 갖고, 상기 수용실내에 처리 가스를 공급하기 위한 공급 시스템과,상기 하측 위치에 있는 상기 탑재대의 바로 하부에 배치된 배기구를 갖고, 상기 수용실내를 진공 배기시키기 위한 배기 시스템을 더 구비하며,상기 제 1 리프터 세트 및 제 2 리프터 세트는 상기 하측 위치에 있는 상기 탑재대배치되는반도체 처리용 수용 장치.
[청구항 17]
제 16 항에 있어서,상기 반송 장치는, 상기 다관절 아암부 및 상기 지지 부재가 수축한 상태에 있어서 상기 지지 부재를 끼우도록 배치되고, 피처리 기판을 지지하기 위한 한쌍의 보관 선반과, 상기 지지 부재와 상기 보관 선반 사이에서 피처리 기판을 주고받도록 상기 지지 부재와 상기 보관 선반을 상대적으로 상하로 구동시키기 위한 수직 구동 기구더 구비하는반도체 처리 시스템.
[청구항 18]
제 16 항에 있어서,상기 탑재대를 감싸도록 배치되고, 피처리 기판을 위한 상이한 높이의 지지 레벨을 제공하는, 상기 탑재면에 대한 피처리 기판의 로드 및 언로드를 보조하기 위한 제 1 리프터 세트 및 제 2 리프터 세트와,상기 제 1 및 제 2 리프터를 상기 탑재대에 대하여 상하로 구동시키기 위한 리프터 구동 기구더 구비하는반도체 처리 시스템.
[청구항 19]
제 16 항에 있어서,상기 지지 부재는 상기 다관절 아암부의 신축에 따라 상기 선단 아암에 대하여 왕복운동하는반도체 처리 시스템.
[청구항 20]
제 16 항에 있어서,상기 부 구동 기구를 상기 주 구동 기구와는 독립적으로 구동시키기 위한 제어부더 구비하는반도체 처리 시스템.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
반도체 처리용 수용 장치에서 제어부가 미처리 피처리 기판과 처리 완료된 피처리 기판을 각각 어느 레벨에 지지하도록 제1 및 제2 리프터 세트를 구동하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation질문은 제어부가 미처리 피처리 기판과 처리 완료된 피처리 기판을 각각 어느 레벨에 지지하도록 리프터 세트를 구동하는지 묻고 있다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 14에서 제어부의 동작 단계 중 미처리 기판과 처리 완료된 기판의 지지 위치에 관한 내용을 추출한다.
- 상기 제어부는,상기 반송 장치에 의해 반입되는 미처리 피처리 기판을 상기 제 2 리프터 세트에 의해 상기 탑재면 상부 방향의 상측 레벨에 지지하는 단계와,처리 완료된 피처리 기판을 상기 제 1 리프터 세트에 의해 상기 탑재면과 상기 상측 레벨 사이의 중간 레벨에 지지하는 단계
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3근거 선택
evidence_selection미처리 피처리 기판은 '상측 레벨'에, 처리 완료된 피처리 기판은 '중간 레벨'에 지지한다는 구절을 선택한다.
- 미처리 피처리 기판을 상기 제 2 리프터 세트에 의해 상기 탑재면 상부 방향의 상측 레벨에 지지하는 단계와,처리 완료된 피처리 기판을 상기 제 1 리프터 세트에 의해 상기 탑재면과 상기 상측 레벨 사이의 중간 레벨에 지지하는 단계
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4논리 통합
logical_integration추출된 정보를 바탕으로 미처리 기판은 제2 리프터 세트를 통해 상측 레벨에, 처리 완료된 기판은 제1 리프터 세트를 통해 중간 레벨에 지지됨을 연결한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation미처리 피처리 기판은 상측 레벨에, 처리 완료된 피처리 기판은 중간 레벨에 지지한다는 결론을 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation질문에 대해 직접적인 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
미처리 피처리 기판은 상기 제 2 리프터 세트에 의해 상기 탑재면 상부 방향의 상측 레벨에 지지하고, 처리 완료된 피처리 기판은 상기 제 1 리프터 세트에 의해 상기 탑재면과 상기 상측 레벨 사이의 중간 레벨에 지지한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
반도체 처리용 수용 장치에서 제어부가 리프터 세트를 이용하여 미처리 기판은 상측 레벨에, 처리 완료된 기판은 중간 레벨에 각각 배치함으로써 기판의 효율적인 반입 및 반출을 제어하는 기술이다.