문맥 (context)
[청구항 2]
제1항에 있어서,제1 고주파를 상기 처리실로 도입하기 위해 배치된 전극 또는 안테나,제2 고주파를 상기 전극 또는 안테나에 인가하는 수단을 포함하고,상기 제2 고주파의 파워를 처리 시간과 함께 변화시킴으로써플라즈마중의래디컬량변화시키는것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 3]
제1항에 있어서,가스 유량을 처리 시간과 함께 변화시킴으로써플라즈마중의래디컬량변화시키는것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 4]
제1항에 있어서,상기 피처리물의 상태 또는 플라즈마 중의 래디컬을 계측하는 수단을 포함하고, 상기 계측하는 수단과 동기하여래디컬량변화시키는것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 5]
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,변화될래디컬인것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 6]
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 피처리물 상에 형성된절연막에칭하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 7]
제6항에 있어서,상기 피처리물 상에 형성된 절연막은 산화막이고, 플라즈마의 계측 수단은 발광 계측기로, sif/cf2의발광 강도비계측하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 8]
제6항에 있어서,상기 피처리물 상에 형성된 절연막은 유기막이고, 플라즈마의 계측 수단은 발광 계측기로, cn의발광 강도측정하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 9]
제2항에 있어서,상기 제2 고주파를 인가하는전극혹은안테나포함하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 10]
제2항에 있어서,상기 제1 고주파의 주파수는 300mhz 내지 900mhz이고, 상기 제1 고주파를 진공 처리 실내에 설치된 평판 안테나를 이용하여 도입하고,상기 플라즈마 처리 시스템은,진공 처리실 주변에 설치되고, 자기장을 인가하여 전자 사이클로트론 공명에 의해 플라즈마를 생성하도록 배치된 솔레노이드 코일을 더 포함하고,상기평판안테나와상기피처리물표면의거리인것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템.
[청구항 21]
제20항에 있어서,상기 발광 분광기는 상기 플라즈마 처리실에 설치된 창에 광 파이버를 통해접속되는것을특징으로 하는드라이 에칭 시스템.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마 중의 래디컬량을 변화시키기 위해 제2 고주파를 인가하는 수단을 포함하는 시스템에서, 제2 고주파의 파워를 조절하는 기준은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation제2 고주파의 파워를 조절하는 기준이 무엇인지 청구항 문맥에서 찾아내는 작업이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 2에서 제2 고주파를 인가하는 수단과 그 파워 조절 방식에 관한 내용을 추출한다.
- 상기 제2 고주파의 파워를 처리 시간과 함께 변화시킴으로써플라즈마중의래디컬량변화시키는것을특징으로 하는플라즈마 처리 시스템
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3근거 선택
evidence_selection제2 고주파의 파워 변화 기준을 명시한 '처리 시간' 구절을 선택한다.
- 상기 제2 고주파의 파워를 처리 시간과 함께 변화시킴으로써
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4논리 통합
logical_integration청구항 2에 따르면 제2 고주파의 파워는 처리 시간과 함께 변화하도록 설정되어 있으므로, 처리 시간이 조절 기준이 된다.
- 상기 제2 고주파의 파워를 처리 시간과 함께 변화시킴으로써
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 직접적인 답변으로 '처리 시간'을 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
최종 답변 (final_answer)
처리 시간
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 제2 고주파의 파워를 처리 시간에 따라 변화시킴으로써 플라즈마 내의 래디컬량을 조절하는 기술적 수단을 제공한다.