스퍼터 장치 및 성막 방법 document_id 1020000063763

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 도전 부품은접지되는스퍼터 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 도전 부품은 상기 이온 반사판과 상기 피처리체 사이배치되는스퍼터 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 폐쇄 자계는 상기 타깃의 표면 상에서 루프를 형성하는 자력선을 갖고, 상기 발산 자계는 상기 타깃의 표면 상으로부터 상기 도전 부품으로 연장되는 자력선갖는스퍼터 장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 자계 형성 기구는 상기 타깃의 배부에 배치된 제1 및 제2 마그넷을 갖고, 상기 제1 및 제2 마그넷은 각각 s극 및 n극이 상기 타깃을 향해 배치되며, 또 서로 다른 자속 밀도갖는스퍼터 장치. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 자계 형성 기구는, 상기 플라즈마를 행성하고 또 상기 이온 반사판 및 상기 도전 부품을 접지한 경우, 상기 타깃과 상기 이온 반사판 간의 전기 저항이 상기 타깃과 상기 도전 부품 간의 전기 저항설정되는스퍼터 장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 이온 반사판은 원통 부분을 포함하고, 상기 피처리 기체의 직경을 da, 상기 타깃의 직경을 db, 상기 피처리 기체와 상기 타깃 간의 거리를 dc, 상기 이온 반사판의 원통 부분의 내경을 dd로 한 경우, da≤db≤5da/2, 3da/4≤dc≤5da/2 또 db≤dd≤5db/3의 식만족하는스퍼터 장치. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 이온 반사판의 길이를 l로 한 경우, dc/5≤l≤5dc/6의 식더 만족하는스퍼터 장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기제1 음 바이어스부와 상기 여기 기구는 공통의 전원포함하는스퍼터 장치. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 타깃과 상기 이온 반사판 사이에 개재되는 접지된 실드더 포함하는스퍼터 장치. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 지지 부재는 상기 피처리 기판을 재치하기 위한 재치대와 상기 재치대에 대해 상기 피처리 기판을 고정하기 위한 도전성 클램프를 구비하고, 상기 제2 음 바이어스부는 상기 클램프에 접속되는 전원포함하는스퍼터 장치. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 지지 부재는 상기 피처리 기판을 재치하기 위한 도전성의 재치대를 구비하고, 상기 제2 음 바이어스부는 상기 재치대에 접속된 rf 전원포함하는스퍼터 장치. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 지지 부재는 상기 피처리 기판을 재치하기 위한 도전성의 재치대를 구비하고, 상기 제2 음 바이어스부는 상기 재치대에 접속된 펄스 전원포함하는스퍼터 장치. [청구항 14] 제1항에 있어서,상기 이온 반사판은 서로 분리된 복수의 판 부재를 포함하고, 상기 정 바이어스부는 상기 판부재 각각에 접속된 복수의 전원포함하는스퍼터 장치. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 이온 반사판은 원통 부분을 포함하고, 상기 피처리 기체의 직경을 da, 상기 타깃의 직경을 db, 상기 피처리 기체와 상기 타깃 간의 거리를 dc, 상기 이온 반사판의 원통 부분의 내경을 dd로 한 경우, da≤db≤5da/2, 3da/4≤dc≤5da/2 또 db≤dd≤5db/3의 식만족하는스퍼터 장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 이온 반사판의 길이를 l로 한 경우, dc/5≤l≤5dc/6의 식더 만족하는스퍼터 장치. [청구항 18] 제15항에 있어서,상기 제어 기구는 상기 타깃의 배부에 배치된 제1 및 제2 마그넷을 갖고, 상기 제1 및 제2 마그넷은 각각 s극 및 n극을 상기 타깃을 향해 배치되며, 또 서로 다른 자속 밀도를 가지고, 상기 타깃의 표면 상에 상기 플라즈마 중의 전자를 포착하는 폐쇄 자계와, 상기 플라즈마 중의 전자를 상기 도전 부품으로 지향시키는 발산 자계를 상기 처리실 내형성하는스퍼터 장치.