정전기 시일드를 갖는 플라즈마 생성 장치 document_id 1020007005390

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 시일드는 원통형상이며, 상기 다수의 개구들은 상기 시일드의 원주 둘레를 따라 실질적으로 동일한 간격으로 이격되어 있으며, 상기 개구들은 시일드의 전체 영역의 약 50%까지노출영역형성하는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 다수의 개구들은 각각 실질적으로 동일한너비가지는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 다수의 개구들은 0.06 내지 0.63인치의너비갖는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 다수의 개구들은 약 0.62인치의너비갖는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기 다수의 개구들중의 하나 이상의 개구는 그너비변화되는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 다수의 개구들중의 하나 이상의 개구는 그길이변화되는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 시일드는 원통형상이며, 상기 다수의 개구들은 상기 시일드의 둘레를 따라 서로 상이한간격이격되어있는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 전자기 에너지의 공급원nan은나선형공진기인것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 다수의 개구들 중 하나 이상의 개구는 두개의 넓은 개구 영역들 사이의 중간에 위치하는 좁은 개구 영역을 포함하여 개구들의 중간에서 전자기 에너지의 보다 작은용량성 결합제공하는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 11] 제 9 항에 있어서,개구 영역은 약 0.06인치의너비갖는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 12] 제 9 항에 있어서,개의 넓은 개구 영역들 중 하나 또는 둘 모두는 약 1.25인치 내지 1.50인치의너비갖는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 13] 제 1 항에 있어서,상기 전자기 에너지의 공급원들은 나선형 코일이며, 상기 정전기 시일드는 두 단부 표면을 구비하며, 상기 두 단부 표면들중의 하나 또는 모두가접지되는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 14] 제 1 항에 있어서,상기 전자기 에너지의 공급원은 접지형(grounded) 단부 및 개방형 단부를 구비한 나선형 코일이며, 상기 정전기 시일드는 폐쇄형 단부 표면과 개방형 단부 표면을 구비하며, 상기 다수의 개구들 중 하나 이상의 개구는 개방형 단부 표면 전체를 통해 연장되며, 상기 폐쇄형 단부 표면은 접지되고상기나선형코일의개방형단부대면하는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 15] 제 1 항에 있어서,상기 정전기 시일드는 두 단부 표면들을 포함하며, 상기 전자기 에너지의 공급원들은 코일이며, 상기 코일은 정전기 시일드의 단부 표면들 중 하나 이상의 표면을 넘어축선방향연장되는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 16] 제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 생성 장치는 플라즈마 함유 영역의 중간부에서 전자기 에너지의 공급원에 의해서 발생된 전기장의 크기를 감소시키도록형성되는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 17] 제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 생성 장치는 플라즈마 함유 영역에서 플라즈마의 이온 밀도를 증가시키도록형성되는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 18] 제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 생성 장치는 플라즈마 함유 영역에서 플라즈마를 실질적으로 균일하게 분포시키도록형성되는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 19] 제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 생성 장치는 자기 점화할 수형성되는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 22] 제 21 항에 있어서,상기 시일드는 원통형상이며, 상기 다수의 개구들은 상기 시일드의 원주 둘레를 따라 실질적으로 동일한 간격으로 이격되어 있으며, 상기 개구들은 시일드의 전체 영역의 약 50%까지노출영역형성하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 23] 제 21 항에 있어서,상기 다수의 개구들은 각각 실질적으로 동일한너비가지는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 24] 제 21 항에 있어서,상기 다수의 개구들은 0.06 내지 0.63인치의너비갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 25] 제 21 항에 있어서,상기 다수의 개구들은 약 0.62인치의너비갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 26] 제 21 항에 있어서,상기 다수의 개구들중의 하나 이상의 개구는 그너비변화되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 27] 제 21 항에 있어서,상기 다수의 개구들중의 하나 이상의 개구는 그길이변화되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 28] 제 21 항에 있어서,상기 시일드는 원통형상이며, 상기 다수의 개구들은 상기 시일드의 둘레를 따라 서로 상이한간격이격되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 29] 제 21 항에 있어서,상기 전자기 에너지의 공급원nan은나선형공진기인것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 30] 제 21 항에 있어서,상기 다수의 개구들 중 하나 이상의 개구는 두개의 넓은 개구 영역들 사이의 중간에 위치하는 좁은 개구 영역을 포함하여 개구들의 중간에서 전자기 에너지의 보다 작은용량성 결합제공하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 31] 제 30 항에 있어서,개구 영역은 약 0.06인치의너비갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 32] 제 30 항에 있어서,개의 넓은 개구 영역들은 약 1.25인치 내지 1.50인치의너비갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 33] 제 21 항에 있어서,상기 전자기 에너지의 공급원들은 나선형 코일이며, 상기 정전기 시일드는 두 단부 표면을 구비하며, 상기 두 단부 표면들중의 하나 또는 모두가접지되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 34] 제 21 항에 있어서,상기 전자기 에너지의 공급원은 접지형(grounded) 단부 및 개방형 단부를 구비한 나선형 코일이며, 상기 정전기 시일드는 폐쇄형 단부 표면과 개방형 단부 표면을 구비하며, 상기 다수의 개구들 중 하나 이상의 개구는 개방형 단부 표면 전체를 통해 연장되며, 상기 폐쇄형 단부 표면은 접지되고상기나선형코일의개방형단부대면하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 35] 제 21 항에 있어서,상기 반응로는 플라즈마 함유 영역의 중간부에서 전기장의 크기를 감소시키도록형성되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 36] 제 21 항에 있어서,상기 반응로는 플라즈마 함유 영역에서 플라즈마의 이온 밀도를 증가시키도록형성되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 37] 제 21 항에 있어서,상기 반응로는 플라즈마 함유 영역에서 플라즈마를 실질적으로 균일하게 분포시키도록형성되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 38] 제 21 항에 있어서,상기 반응로는 자기 점화할 수형성되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 39] 제 21 항에 있어서,상기 정전기 시일드는 두 단부 표면들을 포함하며, 상기 다수의 개구중 하나 이상은 상기 단부면들 중 하나의 전체를 통해서연장하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 40] 제 21 항에 있어서,상기 정전기 시일드는 두 단부 표면들을 포함하며, 상기 전자기 에너지의 공급원들은 코일이며, 상기 코일은 정전기 시일드의 단부 표면들 중 하나 이상의 표면을 넘어축선방향연장되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 44] 제 1 항에 있어서,상기 전자기 에너지의 공급원은 접지형 단부 및 개방형 단부를 구비한 나선형 코일이며, 상기 접지형 단부는 처리될 웨이퍼에 인접 배치되어 상기 웨이퍼에 인접한곳의플라즈마밀도증가시키는것을특징으로 하는플라즈마 생성 장치. [청구항 45] 제 21 항에 있어서,상기 전자기 에너지의 공급원은 접지형 단부 및 개방형 단부를 구비한 나선형 코일이며, 상기 접지형 단부는 처리될 웨이퍼에 인접 배치되어 상기 웨이퍼에 인접한곳의플라즈마밀도증가시키는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.