가공 특허 1020007007335

출원번호: 1020007007335
분류: 전기(H섹션)

문맥 (context)

[청구항 19] 제 18 항에 있어서,플라즈마의 불안정한 경향을 표시하기 위하여 제어기가 반응하는 상기 전기적 변수의 함수는, 네트워크를 통하여 소스와 로드 사이에서 커플링되는 전류로 인한 함수의 분포값의 측정값인, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 20] 제 18 항에 있어서,상기 제어기는 플라즈마의 불안정한 경향에 대한 탐지기를 포함하며, 상기 불안정 탐지기는, 네트워크를 통하여 소스에서 로드로 흐르는 r.f.전류에 부과되는 하나 이상의 소정의 주파수 대역에 반응하는 진폭 변조 탐지기를 포함하는, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 21] 제 20 항에 있어서,상기 주파수 대역중의 하나는 2~200㎑인 것인, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 22] 제 20 항에 있어서,상기 주파수 대역중의 하나는 50~200㎑인, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 23] 제 22 항에 있어서,상기 주파수 대역중의 다른 하나는 2~20㎑인, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 24] 제 18 항에 있어서,상기 가변 임피던스 특성은 네트워크의 제 1 및 제 2 가변 리액턴스를 포함하며, 상기 제어기는 불안정한 방식으로 변화하려는 플라즈마 경향의 개시가 표시될 때까지 매칭 달성시키기 위한 방향으로 상기 두 가변 리액턴스 양자를 실질적으로 동시에 변화시키며, 상기 제어기는, 상기 리액턴스 값들이 궤도로부터 분리되고, 불안정한 방식으로 변화하려는 플라즈마의 경향의 개시의 탐지에 반응하여 상기 영역을 실질적으로 회피하도록, 리액턴스들의 값들을 변화시키는, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 25] 제 24 항에 있어서,플라즈마의 불안정한 영역의 x-y 그래프의 둘레의 인근에 있는 일련의 직선궤도들을 수립하기 위하여 두 리액턴스들의 값을 동시에 변화시키는 제어기에 의해 상기 영역을 피하고, 상기 x 와 y 는 리액턴스의 값을 나타내는, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 26] 제 25 항에 있어서,상기 제어기는: (a) 모든 다른 궤도가 바로 선행하는 궤도에 대해서 직각으로 존재하도록 리액턴스들을 변화시키며, (b) 바로 선행하는 궤도의 기울기와 다른 기울기를 한정하는 최적의 임피던스 매칭의 두개의 가장 최근 값들로서의 리액턴스들의 값들로부터 바로 선행하는 궤도의 기울기를 결정하는, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 27] 제 26 항에 있어서,상기 제어기는, 불안정한 영역이 탐지될 때까지 소정 궤도들이 우회되고, 다른 궤도들은 임피던스 매칭의 측정값의 감소가 탐지될 때까지 우회되도록, 리액턴스들을 변화시키는, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 28] 제 26 항에 있어서,상기 제어기는: (a) 일련의 어떤 궤도들이 상기 영역 내로 연장하고, 일련의 다른 궤도들은 상기 영역의 둘레에 가까이 연장하도록, 리액턴스들을 제어하며, (b) 리액턴스들의 크기를 교환하므로써, 불안정성과 안정성의 사이를 지나가는 플라즈마의 탐지에 반응하여 일련의 상기 어떤 궤도들 및 상기 다른 궤도들 사이에서 직각으로 변화시키는, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 29] 제 28 항에 있어서,상기 제어기는, (a) 플라즈마 안정성의 표시에 의해 결정된 인자와 (b) 소스에 의해서 리액티브 임피던스 소자로 전달된 전력 백분율의 표시를 결합시키므로써 플라즈마 안정성의 측정값을 결정하며,상기 측정값은 상기 어떤 궤도들은 우회되어지고 플라즈마가 안정한 동안 제 1 방향으로 값을 변화시키고,상기 제어기는, 상기 어떤 일련의 궤도들이 우회하는 동안 상기 측정값이 제 2 방향으로 변화 방향이 반전될 때, 플라즈마가 안정에서 불안정으로 변화되는 것을 탐지하고, 플라즈마가 안정에서 불안정으로 변화하는 것을 감지하는 때에 리액턴스가 가지는 값에 상기 다른 일련의 궤도들의 시작점을 확립하고,상기 측정값이 제 1 방향으로부터 제 2 방향으로 반전하는 것이 감지될 때까지 상기 다른 일련의 궤도들이 우회되도록 리액턴스의 값들을 변화시키는, 진공 플라즈마 챔버 내의 플라즈마로 r.f.에너지공급하는장치. [청구항 39] 제 38 항에 있어서,상기 함수는 분산인, 플라즈마 프로세서에서 플라즈마의 불안정한 상태탐지하는장치. [청구항 41] 제 40 항에 있어서,상기 주파수는 2~20㎑ 범위인, 플라즈마 프로세서에서 플라즈마의 불안정한 상태탐지하는장치. [청구항 42] 제 40항에 있어서,상기 주파수는 50~200㎑ 범위인, 플라즈마 프로세서에서 플라즈마의 불안정한 상태탐지하는장치. [청구항 43] 제 40 항에 있어서,상기 반송은 다른 범위들의 복수의 주파수들에서 변조된 진폭이며, 상기 탐지기는 상기 복수의 주파수들에서 상기 진폭변조를 탐지하기 위해 배치되는, 플라즈마 프로세서에서 플라즈마의 불안정한 상태탐지하는장치.

지시문 (instruction)

주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.

질문 (question)

제어기가 플라즈마의 불안정한 경향을 탐지하기 위해 리액턴스 값들을 변화시킬 때, 불안정 영역을 회피하기 위해 사용하는 궤도 수립 방식과 그 궤도들의 기하학적 특징은 무엇인가?

추론 과정 (compact_reasoning)

1과제 해석task_interpretation

제어기가 리액턴스 값을 변화시켜 플라즈마 불안정 영역을 회피할 때 사용하는 궤도 수립 방식과 그 궤도들의 기하학적 특징을 찾는 것이다.
2정보 추출information_extraction

청구항 25항에서 불안정 영역의 x-y 그래프 둘레 인근에 일련의 직선궤도들을 수립하기 위해 두 리액턴스 값을 동시에 변화시킨다는 점을 추출한다.
- 플라즈마의 불안정한 영역의 x-y 그래프의 둘레의 인근에 있는 일련의 직선궤도들을 수립하기 위하여 두 리액턴스들의 값을 동시에 변화시키는
3근거 선택evidence_selection

궤도 수립 방식(두 리액턴스 값의 동시 변화를 통한 직선궤도 수립)과 기하학적 특징(직선궤도, 직각 관계)에 관한 구절을 선택한다.
- 모든 다른 궤도가 바로 선행하는 궤도에 대해서 직각으로 존재하도록
4논리 통합logical_integration

제어기는 두 리액턴스 값을 동시에 변화시켜 불안정 영역 둘레 인근에 일련의 직선궤도들을 수립하며, 이 궤도들은 서로 직각으로 존재한다는 논리를 결합한다.
- 모든 다른 궤도가 바로 선행하는 궤도에 대해서 직각으로 존재하도록
5결론 도출conclusion_formulation

궤도 수립 방식은 두 리액턴스 값을 동시에 변화시켜 불안정 영역 둘레 인근에 일련의 직선궤도들을 수립하는 방식이며, 기하학적 특징은 궤도들이 서로 직각으로 존재하는 것이다.
6답변 생성answer_generation

질문에 대해 추출된 정보를 바탕으로 완성된 답변을 작성한다.

최종 답변 (final_answer)

불안정 영역을 회피하기 위한 궤도 수립 방식은 두 리액턴스들의 값을 동시에 변화시켜 플라즈마 불안정 영역의 x-y 그래프 둘레 인근에 일련의 직선궤도들을 수립하는 방식이며, 이 궤도들의 기하학적 특징은 모든 다른 궤도가 바로 선행하는 궤도에 대하여 직각으로 존재하는 것이다.

핵심 해석 (core_interpretation)

플라즈마 불안정 영역을 회피하기 위해 두 리액턴스 값을 동시 제어하여 영역 둘레에 직각 형태의 직선궤도들을 형성함으로써 안정적인 임피던스 매칭을 유지하는 기술이다.