문맥 (context)
[청구항 2]
제1항에 있어서,상기 가상선을 따른 상기 저항 소자 각 부의 포텐셜이 상기 가상선을 따른 상기 반도체 기판 표면의 각부의포텐셜있는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 3]
제1항에 있어서,상기 가상선의 단위 길이당의 상기 저항 소자의 저항값nan은최외주의상기필드제한링의내측과외측서로상이한것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 4]
제1항에 있어서,상기 가상선의 단위 길이당의 상기 저항 소자의 저항값nan은단계적변화하고있는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 5]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는, 저항 소자의 시단과 종단 사이에 사행(蛇行)부분갖는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 6]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는 저항 소자의 시단과 종단 사이에 사행 부분을 가짐과 함께,상기사행부분의사행피치상이한것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 7]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는 사행 부분을 가짐과 함께 사행하는 폭이 넓은 부분과, 사행하는 폭이 좁은부분갖는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 8]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는 저항 소자의 시단과 종단 사이에 사행하는 사행 부분과, 상기 가상 선분을 따른직선부분갖는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 9]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는선폭상이한것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 10]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는 상기 가상선을 따른 직선 형상의 저항 소자로 됨과 함께, 선폭이일부상이한것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 11]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는 불순물이 첨가된폴리실리콘층형성되어있는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 12]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는 금속 부분과, 이 금속 부분에 전기적으로 접속되는 불순물이 첨가된폴리실리콘층형성되어있는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 13]
제1항에 있어서,상기 저항 소자는 그 위치에 따라시트저항상이한것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 15]
제1항에 있어서,상기 저항 소자의 하측에 위치하는 상기 필드 절연막의 두께는 3 ∼ 5㎛정도있는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 16]
제1항에 있어서,필드 제한 링과, 각 필드 제한 링에 중첩되는 상기 저항 소자 부분은각각전기적접속되어있는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 17]
제1항에 있어서,신호가 공급되는 제1 단자와, 기준 전위가 공급되는 제2 단자와, 제어 단자와, 기동 회로용 제어 단자와, 기동 회로용 기준 전위가 공급되는 기동 회로용 제2 단자와, 상기 제1 단자에 접속되는 제1 전극과, 상기 제2 단자에 접속되는 제2 전극과, 상기 제어 단자에 접속되는 제어 전극을 갖는 주 스위치용 트랜지스터와, 상기 제1 단자에 접속되는 기동용 제1 전극과, 상기 기동 회로용 제2 단자에 접속되는 기동용 제2 전극과, 상기 기동 회로용 제어 단자에 접속되는 기동용 제어 전극을 갖는 기동 스위치용 트랜지스터를 더 가지며, 상기 저항 소자는 상기 제1 단자와 상기 기동용 제어 전극 사이에직렬접속되는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 18]
제1항에 있어서,신호가 공급되는 제1 단자와, 기준 전위가 공급되는 제2 단자와, 제어 단자와, 전류 검출 단자와, 기동 회로용 제어 단자와, 기동 회로용 기준 전위가 공급되는 기동 회로용 제2 단자와, 상기 제1 단자에 접속되는 제1 전극과, 상기 제2 단자에 접속되는 제2 전극과, 상기 제어 단자에 접속되는 제어 전극과, 상기 전류 검출 단자에 접속되며 상기 제1 전극의 출력 전류를 검출하는 전류 검출 전극을 갖는 주 스위치용 트랜지스터와, 상기 제1 단자에 접속되는 기동용 제1 전극과, 상기 기동 회로용 제2 단자에 접속되는 기동용 제2 전극과, 상기 기동 회로용 제어 단자에 접속되는 기동용 제어 전극을 갖는 기동 스위치용 트랜지스터를 더 가지며, 상기 저항 소자는 상기 제1 단자와 상기 기동용 제어 전극 사이에직렬접속되는것을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 27]
제26항에 있어서,상기 저항 소자의 시단과 종단을 직선적으로 연결하는 선분의 저항 소자 각 부의 포텐셜이, 상기 시단과 종단을 직선적으로 연결하는 선분에 대응하는 상기 반도체 기판 표면의 각부의포텐셜일치하거나있는반도체 장치.
[청구항 28]
제26항 또는 제27항에 있어서,최외주의 상기 필드 제한 링 부분을 사이에 두고 그 내측과 외측의 상기 선분에서의 단위 길이당의 저항값은 상이하며, 상기 저항 소자의 각 부의 포텐셜과 상기 반도체 기판 표면의 각부의포텐셜일치하거나있는반도체 장치.
[청구항 29]
제26항 또는 제28항에 있어서,상기 선분에서의 단위 길이당의 저항값은 단계적으로 변화하며, 상기 저항 소자의 각 부의 포텐셜과 상기 반도체 기판 표면의 각부의포텐셜일치하거나있는반도체 장치.
[청구항 30]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는, 저항 소자의 시단과 종단 사이에 사행 부분갖는반도체 장치.
[청구항 31]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는, 저항 소자의 시단과 종단 사이에 사행 부분을 가짐과 함께, 상기 사행 부분의 복수 부분에서는 사행 피치상이한반도체 장치.
[청구항 32]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는 사행 부분을 가짐과 함께, 사행하는 폭이 넓은 광사행 부분과, 사행하는 폭이 좁은 협사행 부분갖는반도체 장치.
[청구항 33]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는, 저항 소자의 시단과 종단 사이에 사행하는 사행 부분과, 상기 선분을 따른 직선 부분갖는반도체 장치.
[청구항 34]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는, 복수 부분에서 저항선 폭상이한반도체 장치.
[청구항 35]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는, 상기 선분을 따른 직선 형상의 저항 소자로 됨과 함께, 선 폭이 일부상이한반도체 장치.
[청구항 36]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는 불순물이 첨가된 폴리실리콘층형성되는반도체 장치.
[청구항 37]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는, 금속 부분과, 상기 금속 부분에 전기적으로 접속되는 불순물이 첨가된 폴리실리콘층형성되는반도체 장치.
[청구항 38]
제26항에 있어서,상기 저항 소자는, 복수 부분에서 시트 저항상이한반도체 장치.
[청구항 40]
제26항에 있어서,상기 저항 소자각 부의 포텐셜과 상기 반도체 기판 표면의 각 부의 포텐셜의 차를 작게 하도록 상기 필드 절연막의 두께는 3 ∼5 ㎛정도있는반도체 장치.
[청구항 41]
제26항에 있어서,필드 제한 링과, 각 필드 제한 링에 중첩되는 상기 저항 소자 부분은 각각 전기적접속되는반도체 장치.
[청구항 42]
제26항에 있어서,신호가 공급되는 제1 단자와, 기준 전위가 공급되는 제2 단자와, 제어 단자와, 기동 회로용 제어 단자와, 기동 회로용 기준 전위가 공급되는 기동 회로용 제2 단자와, 상기 제1 단자에 접속되는 제1 전극과, 상기 제2 단자에 접속되는 제2 전극과, 상기 제어 단자에 접속되는 제어 전극을 갖는 주 스위치용 트랜지스터와, 상기 제1 단자에 접속되는 기동용 제1 전극과, 상기 기동 회로용 제2 단자에 접속되는 기동용 제2 전극과, 상기 기동 회로용 제어 단자에 접속되는 기동용 제어 전극을 갖는 기동 스위치용 트랜지스터와, 상기 제1 단자와 상기 기동용 제어 전극 사이에 직렬로 접속되는 기동 저항을 가지며, 상기 기동 저항은 상기 저항 소자구조인반도체 장치.
[청구항 43]
제26항에 있어서,신호가 공급되는 제1 단자와, 기준 전위가 공급되는 제2 단자와, 제어 단자와, 전류 검출 단자와, 기동 회로용 제어 단자와, 기동 회로용 기준 전위가 공급되는 기동 회로용 제2 단자와, 상기 제1 단자에 접속되는 제1 전극과, 상기 제2 단자에 접속되는 제2 전극과, 상기 제어 단자에 접속되는 제어 전극과, 상기 전류 검출 단자에 접속되며 상기 제1 전극의 출력 전류를 검출하는 전류 검출 전극을 갖는 주 스위치용 트랜지스터와, 상기 제1 단자에 접속되는 기동용 제1 전극과, 상기 기동 회로용 제2 단자에 접속되는 기동용 제2 전극과, 상기 기동 회로용 제어 단자에 접속되는 기동용 제어 전극을 갖는 기동 스위치용 트랜지스터와, 상기 제1 단자와 상기 기동용 제어 전극 사이에 직렬로 접속되는 기동 저항을 갖고, 상기 기동 저항은 상기 저항 소자구조인반도체 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
반도체 장치에서 저항 소자의 각 부의 포텐셜과 반도체 기판 표면의 각 부의 포텐셜 차를 작게 하기 위해 설정되는 필드 절연막의 두께 범위는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
-
1과제 해석
task_interpretation질문에서 요구하는 '저항 소자 각 부의 포텐셜과 반도체 기판 표면의 각 부의 포텐셜 차를 작게 하기 위해 설정되는 필드 절연막의 두께 범위'를 찾는다.
-
2정보 추출
information_extraction청구항 문맥에서 필드 절연막의 두께와 포텐셜 차를 줄이는 목적이 명시된 구절을 추출한다.
- 상기 저항 소자각 부의 포텐셜과 상기 반도체 기판 표면의 각 부의 포텐셜의 차를 작게 하도록 상기 필드 절연막의 두께는 3 ∼5 ㎛정도있는
-
3근거 선택
evidence_selection질문의 조건(포텐셜 차를 작게 함)과 일치하는 청구항 40의 내용을 근거로 선택한다.
- 상기 저항 소자각 부의 포텐셜과 상기 반도체 기판 표면의 각 부의 포텐셜의 차를 작게 하도록 상기 필드 절연막의 두께는 3 ∼5 ㎛정도있는
-
4논리 통합
logical_integration추출된 근거 구절에 따르면, 포텐셜 차를 작게 하기 위한 필드 절연막의 두께는 3 ~ 5 ㎛ 정도이다.
- 상기 필드 절연막의 두께는 3 ∼5 ㎛정도있는
-
5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 직접적인 답변인 두께 범위를 도출한다.
- 3 ∼5 ㎛정도
-
6답변 생성
answer_generation추출형(extractive) 답변 형식에 맞춰 최종 답변을 작성한다.
- 3 ∼5 ㎛정도
최종 답변 (final_answer)
3 ∼5 ㎛정도
핵심 해석 (core_interpretation)
저항 소자와 반도체 기판 표면 사이의 포텐셜 차를 최소화하기 위해 필드 절연막의 두께를 3 ~ 5 ㎛ 범위로 설정하는 기술적 구성에 관한 것이다.