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포토마스크의 제조 방법 및 포토마스크 document_id 1020010040670

출원번호
1020010040670
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 24] 제23항에 있어서,상기 메탈로 이루어진 차광 패턴은 상기 레지스트막으로 이루어진 차광 패턴에 연결되는부분포함하는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 25] 제23항에 있어서,상기 마스크 기판 상에대전방지막설치한것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 26] 제23항에 있어서,상기 마스크 기판 상에, 상기 레지스트막으로 이루어진 차광 패턴에 의해 형성된고객정보패턴전사용의차광패턴설치한것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 27] 제23항에 있어서,상기 차광 패턴을 형성하는 레지스트막은노볼락계수지포함하는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 28] 제23항에 있어서,상기 차광 패턴을 형성하는 레지스트막은폴리비닐페놀수지포함하는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 29] 제23항에 있어서,상기 메탈은 고융점 금속막 또는 고융점 금속막실리사이드로이루어지는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 30] 제23항에 있어서,노광 광의 파장이 100㎚ 이상 250㎚ 미만인노광 처리이용되는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 33] 제23항에 있어서,상기 집적 회로 패턴 전사용의 위상 시프터 및 상기 집적 회로 패턴 전사용의 패턴은, 상기 레지스트막과는 상이한 재료로 이루어진상기집적 회로패턴전사용의하프톤패턴포함하는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 34] 제23항에 있어서,상기 집적 회로 패턴 전사용의 위상 시프터 및 상기 집적 회로 패턴 전사용의 패턴은, 집적 회로 패턴 전사용의 레지스트막으로 이루어진 하프톤 패턴 및 상기 레지스트막과는 상이한 재료로 이루어진상기집적 회로패턴전사용의하프톤패턴포함하는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 35] 제23항에 있어서,상기 집적 회로 패턴 전사용의 위상 시프터 및 상기 집적 회로 패턴 전사용의 패턴은, 레벤손형(levenson type)위상 시프트패턴인것을특징으로 하는포토마스크.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
제23항의 포토마스크에서 집적 회로 패턴 전사용의 위상 시프터 및 패턴이 포함하는 하프톤 패턴의 구성 요소는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    제23항의 포토마스크에서 위상 시프터와 패턴이 포함하는 하프톤 패턴의 구성 요소를 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 34를 통해 위상 시프터 및 패턴의 구성 요소에 대한 정보를 추출한다.

    • 상기 집적 회로 패턴 전사용의 위상 시프터 및 상기 집적 회로 패턴 전사용의 패턴은, 집적 회로 패턴 전사용의 레지스트막으로 이루어진 하프톤 패턴 및 상기 레지스트막과는 상이한 재료로 이루어진상기집적 회로패턴전사용의하프톤패턴포함하는것을특징으로 하는포토마스크
  3. 3근거 선택evidence_selection

    질문에서 요구하는 하프톤 패턴의 구성 요소가 명시된 청구항 34의 구절을 선택한다.

    • 집적 회로 패턴 전사용의 레지스트막으로 이루어진 하프톤 패턴 및 상기 레지스트막과는 상이한 재료로 이루어진상기집적 회로패턴전사용의하프톤패턴
  4. 4논리 통합logical_integration

    위상 시프터와 패턴은 두 가지 종류의 하프톤 패턴(레지스트막으로 이루어진 것과 상이한 재료로 이루어진 것)을 포함한다는 논리를 도출한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    하프톤 패턴의 구성 요소는 레지스트막으로 이루어진 하프톤 패턴과 레지스트막과는 상이한 재료로 이루어진 하프톤 패턴이다.

    • 집적 회로 패턴 전사용의 레지스트막으로 이루어진 하프톤 패턴 및 상기 레지스트막과는 상이한 재료로 이루어진상기집적 회로패턴전사용의하프톤패턴
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 구성 요소를 리스트 형식으로 정리하여 최종 답변을 생성한다.

최종 답변 (final_answer)
집적 회로 패턴 전사용의 레지스트막으로 이루어진 하프톤 패턴, 상기 레지스트막과는 상이한 재료로 이루어진 집적 회로 패턴 전사용의 하프톤 패턴
핵심 해석 (core_interpretation)
포토마스크의 위상 시프터 및 패턴은 레지스트막 기반의 하프톤 패턴과 이와 다른 재료로 구성된 하프톤 패턴을 모두 포함하여 구성된다.