반도체 제조 장비의 웨이퍼 세정 장비 document_id 1020010060432

[청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 세정 수단은웨이퍼를 브러시로 세정하는 브러시 세정 장치; 웨이퍼를 초음파로 세정하는 초음파 세정 장치; 및세정을 위한 용액을 공급하는용액 공급 노즐로이루어진것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 3] 제 1항에 있어서,상기 회전 장치는회전 테이블;상기 회전 테이블 상에 설치되고, 웨이퍼가 놓여지는 지지핀;상기 회전 테이블 아래에 부착되고, 상기 회전 테이블을 회전시키기 위한 회전축;상기 회전축을 구동시키기 위한 모터; 및상기 회전 테이블을 감싸도록 설치되고, 세정 공정 시 용액이 밖으로 튀는 것을 방지하기 위한커버구비하는것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 4] 제 3항에 있어서,상기 지지핀은다수개로이루어진것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 5] 제 2항에 있어서,상기 초음파 세정장치는지지축;상기 지지축의 일단에 수평으로 연결된 제 1아암; 상기 지지축에 장착되고, 상기 제 1아암을 상,하로 이동시키기 위한 실린더;상기 제 1아암의 일단에 수직으로 장착되고, 세정을 위한 초음파가 발진되는 진동자; 및상기 지지축을 회전 가능하게 하는모터구비하는것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 6] 제 5항에 있어서,상기 지지축은 상기 실린더에 의해 상기 제 1아암이 상,하로 이동될 때, 상기 제 1아암이 수직으로 회동 가능하게 유도하는가이드홈더포함하는것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 7] 제 5항에 있어서,상기 모터에 의한 상기 지지축의 회전은 상기 초음파 장치가 웨이퍼의 중앙부로부터 둘레 가장자리부까지 세정을 할 수 있도록 움직이는각운동인것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 8] 제 2항에 있어서,상기 브러시 세정장치는엘엠(lm) 레일;상기 엘엠(lm) 레일 상단에 직교하는 수평단과, 상기 수평단으로부터 연장되어 형성되는 수직단을 갖는 'l'자형의 제 2아암; 상기 제 2아암의 수직단의 일단에 설치되고, 세정 공정을 수행하는 브러시; 및상기 제 2아암의 일 측면에 부착되고, 상기 제 2아암을 웨이퍼 중앙부와 둘레 가장자리부로 좌우 이동하게 하는이동수단구비하는것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 9] 제 8항에 있어서,상기 이동 수단은상기 제 2아암과 연결된 링크바; 및상기 링크바를 왕복 운동시키기 위한 캠장치를 구비하되;상기 캠장치는 상기 캠 장치의 운동 경로인 제 1캠홈과 상기 제 1캠홈에 연결된 일단과 상기 링크바와 연결된 타단을 가진제1캠레버로이루어진것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 10] 제 8항에 있어서,상기 이동 수단은상기 제 2아암과 연결된 링크바; 및상기 링크바를 왕복 운동시키기 위한 캠장치를 구비하되;상기 캠장치는 상기 캠장치의 운동 경로인 제 1캠홈과 상기 제 1캠홈에 연결된 일단과 상기 링크바와 연결된 타단을 가진 제 1캠레버로 이루어지고,상기 브러시 세정 장치는상기 엘엠(lm) 레일을 따라 상,하로 이동하는 엘엠(lm) 블록과;상기 엘엠 레일의 일 측면에 장착되고, 상기 엘엠(lm) 블록을 상,하로 구동시키기 위한 실린더를 더 포함하되;상기 엘엠(lm) 블록은 상기 제 1캠레버와 연결되고, 상기 제 1캠레버를 상,하로이동시키는것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 11] 제 1항에 있어서,상기 웨이퍼 반전 유닛은프레임;웨이퍼의 로딩과 반전을 위한 홀딩이 이루어지는 반전부;상기 반전부를 상기 프레임상에서 상,하 이동시키기 위한 승강 수단; 및상기 프레임상에서 상,하 이동하는 상기 반전부의 직선운동을 회전운동으로 바꾸어주는 반전 수단을 구비하되;상기 승강 수단은 상기 프레임에 수직으로 설치되는 가이드 레일;상기 가이드 레일에 미끄럼 이동 가능하게 장착되고, 상기 반전부가 회전 가능하게 장착되는 슬라이더; 및상기 슬라이더를 상기 가이드 레일을 따라 상,하 이동시키기 위한실린더포함하는것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 12] 제 11항에 있어서,상기 반전 수단은 상기 프레임에 상기 반전부의 이동 방향과 동일하게 형성되고, 반전 구간을 갖는 제 2캠홈;상기 반전부에 고정된 센터핀과 상기 제 2캠홈에 끼워지는 캠핀으로 이루어진 제 2캠레버; 및상기 제 2캠레버가 상기 센터핀을 축으로 90도 회동되었을 때, 상기 캠핀이 상기 센터핀보다 늦게 이동되도록 하기 위한 지연 수단을 구비하되;상기 지연 수단은 상기 캠핀으로부터 연장된 제 2캠레버의 끝단에 장착되는 걸림핀; 및상기 제 2캠레버가 90도 회동되었을 때, 상기 걸림핀이 끼워질 수 있도록 상기 프레임에 설치되는삽입부포함하는것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 13] 제 11항에 있어서,상기 승강 수단은상기 프레임에 수직으로 설치되는 가이드 레일;상기 가이드 레일에 미끄럼 이동 가능하게 장착되고, 상기 반전부가 회전 가능하게 장착되는 슬라이더; 및상기 슬라이더를 상기 가이드 레일을 따라 상,하 이동시키기 위한 실린더를 포함하고;상기 반전부는상기 슬라이더에 회전 가능하게 장착되는 헤드;상기 헤드에 장착되고, 웨이퍼가 놓여지는 로딩부; 및상기 로딩부의 상부에 위치되도록 상기 헤드에 장착되고, 웨이퍼의 반전시 상기 로딩부에 놓여진 웨이퍼를 홀딩하기 위한 홀딩부를포함하는것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 14] 제 13항에 있어서,상기 홀딩부는 웨이퍼의 양 측면을 척킹하는 한쌍킹아암으로이루어진것을특징으로 하는반도체 제조 장비. [청구항 15] 제 13항에 있어서,상기 로딩부는 웨이퍼의 로딩/언로딩시 상기 홀딩부와의 충돌을 방지하기 위해 소정의 간격을 가지고 상기 홀딩부의 아래에 위치하고, 웨이퍼 척킹시 상기 홀딩부가 웨이퍼의 둘레를 척킹할 수 있도록위쪽이동하는것을특징으로 하는반도체 제조 장비.