디바이스의 제조방법, 그것에 이용하는 포토마스크, 및 그포토마스크의 제조방법 document_id 1020010076885

[청구항 6] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 포토마스크 제조장치는, 포토마스크용 노광장치, 포토마스크용 패턴 묘화장치, 레지스트 도포장치, 레지스트 현상장치, 포토마스크 치수 측정장치, 포토마스크 검사장치, 포토마스크 수정장치,포토마스크반송장치하나인것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 7] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 포토마스크는 금속에 의해 형성된 패턴을 더 가지며, 상기 포토마스크 제조장치, 상기 포토마스크 용기, 상기 포토마스크용 치구, 상기 페리클 프레임 또는 상기 반도체장치와의 접촉부는 상기 금속에 의해 형성된패턴부인것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 8] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 포토마스크는위상시프터를상기면상에가지는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 9] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 투광성기체는 상기 면측에 위상을 시프트시키기 위한개구부가지는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 10] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 레지스트는 네가티브형레지스트인것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 11] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 레지스트와 상기 투광성기체 사이에도전성재설치되어있는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 12] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 레지스트는화학증폭계레지스트인것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 13] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 레지스트는 아크릴수지, 노볼락수지, 페놀수지, 블랙카본 또는 금속산화물이 적어도 어느하나포함하고있는것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 14] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 레지스트는 적어도 g선, i선, arf 엑시머 레이저선, krf 엑시머 레이저선, f2 레이저선 노광의 어느 하나의 감광 혹은 차광에 이용되는레지스트인것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 15] 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,상기 투광성기체는석영기판인것을특징으로 하는포토마스크. [청구항 42] 반도체 집적회로의 레이아웃 설계장치에 있어서, 반도체 집적회로의 패턴 데이터를 저장하는 수단과, 마스크 제조장치 또는 반도체 집적회로장치 제조용의 노광장치와의 접촉영역에 관한 데이터를 저장하는 수단과, 상기 반도체 집적회로의 패턴 데이터와 상기 접촉영역에 관한 데이터를 이용하여 레지스트 첨부 포토마스크의 레이아웃 패턴 데이터를 작성하는 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 집적회로의 레이아웃 설계장치