회로 기판의 제조 방법 및 그 장치 document_id 1020017002481

[청구항 13] 제12항에 있어서,상기 산란광 검출 수단에는 상기 처리실 내의 이물질에 의해서 산란된 상기 후방 산란광을 상기 동일한 관찰창을 통해서 촬상하는 촬상 수단이 포함되고, 이 촬상 수단으로 촬상한 화상과 상기한 주파수 성분의 검출 신호로부터 상기 신호 처리 수단은 이물질의 갯수, 크기,분포판정하는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 14] 제12항에 있어서,상기 관측용 창은 무반사 처리되고 또한 원하는경사설정되어있는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 원하는 편광은 p편광이고, 상기 관측용 창의 상기한 경사는 p편광인 입사 비임에 대하여 브뤼스터 각을 이루는경사인것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 16] 제12항에 있어서,상기 조사 수단에는 상기 관측용 창을 통해서 상기 처리실 내에 조사하는 조사 비임을 수평 방향으로 회전 주사하는 수단이 포함되고, 상기 신호 처리 수단은 이물질의2차원분포를판정가능하게하는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 관측용 창은 만곡한형상형성된것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 18] 제12항에 있어서,상기 산란광 검출 수단은 상기 이물질로부터의 산란광을 상기 처리실 수단의 벽면으로부터의 반사광과 분리하여검출하는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 19] 제12항에 있어서,상기 출력 수단은 상기 처리실 내에서 검출한 이물질의 크기와 분포에 관한정보출력하는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 레이저광 조사 수단은 p편광의 레이저광을 상기 관찰창부를 거쳐서 상기 처리실 내부의 상기 설치부에 설치한피처리체의상부를주사조사하는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 22] 제20항에 있어서,상기 관찰창부는무반사처리실시되어있는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 23] 제20항에 있어서,상기 산란광 검출 수단은 상기 이물질로부터의 산란광을 상기 처리실 수단의 내부에 발생시킨 플라즈마의 발광으로부터 파장 및 주파수의 두 영역으로 분리하여검출하는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 24] 제20항에 있어서,상기 산란광 검출 수단은 상기 이물질로부터의 산란광을 상기 처리실 수단의 벽면으로부터의 반사광과 분리하여검출하는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치. [청구항 25] 제20항에 있어서,상기 출력 수단은 상기 처리실 내에서 검출한 이물질의 크기와 분포에 관한정보출력하는것을특징으로 하는회로 기판의 제조 장치.