자기 버킷 및 동심 플라즈마와 재료원에 의한 이온화 물리적 기상 증착 방법 및 장치 document_id 1020017010326

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 자기 버킷에 의해 발생된 자계는 밀리-torr의 압력의 약 1.3 배에서 밀리-torr의 압력의 5 배 또는 300 가우스 이하의 실의 벽의 내부 표면의 내측에서 가우스의 적절한세기가지는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 어레이의 자석은 축 두께가 약 1/8 내지 약 1/4 인치 사이이고, 방사 폭이 약 3/8 내지 약 3/4 인치 사이인 플랫 링이며, 약 1/8 및 약 1/4 인치 사이에서 일정한 간격으로 떨어져 있고, 상기 어레이는 코팅 재료의 소스와 기판 사이에서 실의 축 방향 길이를 약 2/3이상연장하는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 자석nan은제각기비자기고전기도전재료코팅되는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 코팅 재료의 소스는 코팅 재료가 상기 처리 스페이스에 공급되는 링형 소스이고, 상기 링형 소스는 진공 처리 스페이스와 통신하는 하나 이상의 표면 및 중심 개구를 가지며,상기 rf 결합 소자는 상기 링형 소스의 중심 개구에 위치되어, 상기 처리 스페이스를 통해 상기 링형 소스로부터 이동하는 코팅 재료를 이온화하기에 충분히 조밀한 처리 스페이스내에 플라즈마를 형성하도록 실내에에너지를반응적결합하는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기rf 결합 소자는 상기 링형 소스의 중심 개구에 위치되어, 상기 처리 스페이스내에 유도 결합된 플라즈마를 형성하도록 실내에 에너지를 유도적으로 결합하는코일인것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 소스의 중심 개구에서의 유전 윈도우 및,상기 실의 진공 밖의 윈도우 외향 및 그 뒤에 위치되어, 상기 실내의 플라즈마를 에너자이즈하도록 상기 윈도우를 통한 rf 에너지를 상기 실내에 결합하도록 동작하는 rf결합소자더포함하는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,상기 윈도우와 상기 처리 스페이스 사이의 윈도우 내의 차폐 구조를 더 포함하는데, 차폐물은 상기 결합 소자에서 상기 처리 스페이스로의 rf 에너지의 효율적인 결합을 행하여, 상기 처리 스페이스로부터의 코팅 재료에서 상기 윈도우를 물리적으로 차폐하도록구성되는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 기판 지지대에 접속되어, 상기 처리 스페이스로부터의 코팅 재료의 양이온을 기판을 향해 지향하도록 플라즈마에 대해 상당히 네가티브한 지지대상의 기판에 dc 전위를 발생시키는바이어스전원더포함하는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 링형 소스는 상기 실의 내측과 통신하는 스퍼터링 표면을 가진 전기 도전 코팅 재료의 하나 이상의 고리형 스퍼터링 타겟 및, 상기 타겟에 접속되어, 상기 타겟의 스퍼터링 표면으로부터 상기 처리 스페이스로 재료를 스퍼터하도록 플라즈마에 대해 전기적으로 상당히 네가티브한 스퍼터링 표면에 dc 전위를 공급하는 타겟전원포함하는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,의 스퍼터링 표면에 근접하여 스퍼터링 플라즈마를 한정하도록 하는 상기 실 외측 타겟뒤의마그네트론자석더포함하는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 영구 자석의 어레이는 상기 실의 벽 주변에서 원주상으로 근접하여 배치되는 축 방향으로 연장하는 다수의 막대 자석을 포함하는데, 상기 막대 자석의 각각은 축 길이 방향 범위 및, 상기 축 길이 방향 범위에 대해 가로로 연장하고, 상기 벽의 내부 표면에 수직인 극 축을 가지며, 상기 어레이의 자석은 교번 극성으로 배치되고, 상기 실 주변의 벽의 내부 표면의 내측에 근접하여 원주상으로 떨어진 축 방향 연장한 다수의 자계 커스프를 가진 자계를 발생시키도록 근접하여배치되는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 14] 제 12 항에 있어서,상기 영구 자석의 어레이는 상기 실의 벽에서 축 방향으로 근접하여 배치되는 원주 상으로 연장하는 다수의 고리형 링 자석을 포함하는데, 상기 링 자석의 각각은 원주 길이 방향 범위 및, 상기 원주 길이 방향 범위에 대해 가로로 연장하고, 상기 벽의 내부 표면에 수직인 극 축을 가지며, 상기 어레이의 자석은 교번 극성으로 배치되고, 상기 실 주변의 벽의 내부 표면의 내측에 근접하여 축 방향으로 떨어진 원주 방향 연장한 다수의 자계 커스프를 가진 자계를 발생시키도록 근접하여배치되는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치. [청구항 15] 제 12 항에 있어서,상기 실의 벽은 상기 고리형 타겟의 중심 개구에 인접한 유전 윈도우를 포함하고, 상기 rf 전극은 상기 처리 스페이스내의 고리형 타겟으로부터 코팅 재료를 이온화하기에 충분히 조밀한 처리 스페이스내에 유도 결합된 플라즈마를 형성하도록 상기 윈도우를 통해 상기 실내에 에너지를 유도적으로 결합하기 위해 상기 rf 에너지 소스에 접속되고, 상기 윈도우에 인접한 상기 실 외측의 코일을 포함하며,상기 장치는 상기 윈도우와 상기 처리 스페이스 사이의 윈도우 내의 차폐 구조를 더 포함하고, 상기 코일에서 상기 처리 스페이스로의 rf 에너지의 효율적인 결합을 행하여, 상기 처리 스페이스로부터의 코팅 재료에서 상기 윈도우를 물리적으로 차폐하도록구성되는것을특징으로 하는이온화 물리적 증착 장치.