가변 ＲＦ 커플링을 가지는 코일, 이를 구비한 플라즈마 처리기 및 이를 이용한 ＲＦ 플라즈마 제어방법 document_id 1020017012440

[청구항 6] 한쌍의 r.f.여기 단자들 사이에 연결된 방사상으로 및 원주상으로 확장하는 복수의 회선들과 코일에서의 서로 다른 방사상 및 원주상의 부분들과 플라즈마 사이의 r.f.필드 결합 계수들을 변화시키기 위한 구동 배열 을 포함하는 진공 플라즈마 처리 챔버내의 r.f.플라즈마를 여기하기 위한 코일 [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 구동 배열은 상기 코일에서의 서로 다른 부분들을 상기 플라즈마를 향하여 그리고 그로부터 멀리 구동하기 위해 배열하여, 상기 코일에서의 서로 다른 부분들에게 상기 플라즈마로부터 서로 다른 양만큼공간부여하는것을특징으로 하는코일. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 구동 배열은 상기 코일에서의 서로 다른 부분들에 고정적으로 부착되는 복수의 구동 샤프트를 포함하며,상기 구동 샤프트는 상기 코일에서의 서로 다른 부분들이 상기 플라즈마로부터 서로 다른 공간을 가지도록 상기 코일에서의 서로 다른부분들결합되는것을특징으로 하는코일. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 구동 샤프트에 연결된 상기 코일에서의 서로 다른 부분들은 상대적으로 단단하며, 상대적으로 유연한 금속성 부재에 의하여서로기계적및전기적연결된것을특징으로 하는코일. [청구항 10] 제6항에 있어서,상기 구동 배열은,상기 코일에 의해 유도되는 r.f.플라즈마 여기 필드(excitation field)의 일부분을 차단하고, 차단된 필드(field) 부분의 상기 플라즈마에 대한 결합을 감소시키기 위해 적어도 하나의 이동하는 부분을 가지는 실드와;상기 실드의 서로 다른 지점들로 인해 상기 코일에서의 서로 다른 부분들로부터 상기 플라즈마로 향하는 상기 r.f.플라즈마 여기 필드의 결합량이 상이하도록, 상기 코일과 플라즈마를 기준으로 상기 실드의 적어도 하나의 이동 부분을 이동시키기 위한구동기포함하는것을특징으로 하는코일. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 코일의 나선들nan은상기실드및상기진공플라즈마 처리 챔버를기준고정된것을특징으로 하는코일. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 실드는 기준 전위에 연결되는 전기적, 비-자기적도체인것을특징으로 하는코일. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 실드는 가변 길이를 가지는 내부측 둘레와; 상기 코일의 중심점과 실질적으로 일치하는 중심점을 가지는 부재로 형성되고,상기 부재는 상기 구동기와 결합됨으로써 상기 구동기가상기부재의내부길이변화시키도록하는것을특징으로 하는코일. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 코일과 실드는, 칼라(collar)의 형태로 되어 있으며 상기 진공 플라즈마 처리 챔버의 외부측 둘레와 대략적으로 같은 사이즈와 형태의 외부측 둘레를 가지고 있는 제2 실드에 의해 둘러싸여 있고,상기 제2 실드는 적어도 하나의 이동하는 부분을 가지는 상기 실드의 외부측 둘레에 전기적으로 및 기계적으로 연결된내부측둘레가지는것을특징으로 하는코일. [청구항 15] 제14항에 있어서,적어도 하나의 이동하는 부분을 가지는 상기 실드는 링의 형태로 되어 있고조리개형성되는것을특징으로 하는코일. [청구항 16] 진공 플라즈마 처리 챔버와, 상기 진공 플라즈마 처리 챔버내에서 가스를 r.f.플라즈마로 여기시키기 위한 코일을 포함하며, 상기 코일은, 한쌍의 r.f.여기 단자들 사이에 연결된 방사상으로 및 원주상으로 확장하는 복수의 회선들과, 상기 코일에서의 서로 다른 방사상 및 원주상의 부분들과 상기 플라즈마 사이의 r.f.필드 결합 계수들을 변화시키기 위한 구동 배열을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리기 [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 구동 배열의 이동을 제어하기 위한 설정점을 이끌어내기 위한 신호 소스와;소스에 의해 이끌어낸 신호에 응답하여 상기 구동 배열을 활성화하기 위하여, 상기 신호 소스에 응답하는 신호 커플러더 포함하는플라즈마 처리기. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 플라즈마 처리기를 위한 콘트롤러를 더 포함하고,상기 콘트롤러는 상기 플라즈마 처리기에 의해 처리되도록 적응되는 적어도 하나의 제조공정품의 상이한 처리 단계들을 위한 복수의 처리법을 저장하는 메모리를 포함하고,각 처리법은 상기 플라즈마 처리기의 다양한 파라미터들을 위한 설정점들을 포함하고,상기 설정점들은 (a)상기 진공 플라즈마 처리 챔버내로 흘러들어가는 가스의 유속, (b)상기 진공 플라즈마 처리 챔버내의 진공 압력, (c)상기 코일에 적용되는 전력, (d)구동기 부재의 위치를 위한 설정점들을 포함하고,상기 콘트롤러는 (a)상기 진공 플라즈마 처리 챔버내로 흘러들어가는 가스의 유속, (b)상기 진공 플라즈마 처리 챔버내의 진공 압력, (c)상기 코일에 적용되는 전력, (d)구동기 부재의 위치를 제어하기 위해 저장되는설정점 신호들응답하는것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 19] 제16항에 있어서,상기 구동 배열은 상기 코일에서의 서로 다른 부분들을 상기 플라즈마를 향하여 그리고 그로부터 멀리 구동하기 위해 배열하여, 상기 코일에서의 서로 다른 부분들에게 상기 플라즈마로부터 서로 다른 양만큼공간부여하는것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기 구동 배열은 상기 코일에서의 서로 다른 부분들에 고정적으로 부착되는 복수의 구동 샤프트를 포함하며,상기 구동 샤프트는 상기 코일에서의 서로 다른 부분들이 상기 플라즈마로부터 서로 다른 공간을 가지도록 상기 코일에서의 서로 다른부분들결합되는것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 구동 샤프트에 연결된 상기 코일에서의 서로 다른 부분들은 상대적으로 단단하며, 상대적으로 유연한 금속성 부재에 의하여서로기계적및전기적연결된것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 22] 제16항에 있어서,상기 구동 배열은,상기 코일에 의해 유도되는 r.f.플라즈마 여기 필드(excitation field)의 일부분을 차단하고, 차단된 필드(field) 부분의 상기 플라즈마에 대한 결합을 감소시키기 위해 적어도 하나의 이동하는 부분을 가지는 실드와;상기 실드의 서로 다른 지점들로 인해 상기 코일에서의 서로 다른 부분들로부터 상기 플라즈마로 향하는 상기 r.f.플라즈마 여기 필드의 결합량이 상이하도록, 상기 코일과 플라즈마를 기준으로 상기 실드의 적어도 하나의 이동 부분을 이동시키기 위한구동기포함하는것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 23] 제22항에 있어서,상기 코일의 나선들nan은상기실드및상기진공플라즈마 처리 챔버를기준고정된것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 24] 제23항에 있어서,상기 실드는 기준 전위에 연결되는 전기적, 비-자기적도체인것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 25] 제24항에 있어서,상기 실드는 가변 길이를 가지는 내부측 둘레와; 상기 코일의 중심점과 실질적으로 일치하는 중심점을 가지는 부재로 형성되고,상기 부재는 상기 구동기와 결합됨으로써 상기 구동기가상기부재의내부길이변화시키도록하는것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 26] 제25항에 있어서,상기 코일과 실드는, 칼라(collar)의 형태로 되어 있으며 상기 진공 플라즈마 처리 챔버의 외부측 둘레와 대략적으로 같은 사이즈와 형태의 외부측 둘레를 가지고 있는 제2 실드에 의해 둘러싸여 있고,상기 제2 실드는 적어도 하나의 이동하는 부분을 가지는 상기 실드의 외부측 둘레에 전기적으로 및 기계적으로 연결된가변내부측둘레가지는것을특징으로 하는플라즈마 처리기. [청구항 27] 제26항에 있어서,적어도 하나의 이동하는 부분을 가지는 상기 실드는 링의 형태로 되어 있고조리개형성되는것을특징으로 하는플라즈마 처리기.