문맥 (context)
[청구항 2]
제 1항에 있어서,웨이퍼 준비는 웨이퍼의 세척, 웨이퍼의 에칭 및 세척, 웨이퍼의 상태조절 중 하나포함하는,용매전달시스템.
[청구항 3]
제 2항에 있어서,상기 탈이온수분배실이 비임계성 웨이퍼 준비작업을 위해 급수설비로부터 탈이온수의 초기흐름을 주입구로 받아들이며 직접 화학실에 탈이온수의 초기흐름을 공급하는 고속흐름라인을 추가구비하는,용매전달시스템.
[청구항 4]
제 2항에 있어서,상기 탈이온수분배실이 제 1압력조절기와 화학실 사이를 연결하고서, 화학실에 실제로 안정된 탈이온수흐름의 유속을 조절하도록 된 유량계를 추가구비하는,용매전달시스템.
[청구항 5]
제 4항에 있어서,상기 탈이온수분배실이 급수설비로부터 탈이온수의 초기흐름을 제공하는 주입구를 수용하는 주요 주입구를 갖추고서, 다수의 배출구를 구비하되, 적어도 하나의 배출구는 제 1압력조절기에 탈이온수의 초기흐름을 공급하도록 된 다기관을 추가구비하는,용매전달시스템.
[청구항 6]
제 4항에 있어서,상기 화학실은 제 2압력조절기와 혼합다기관 사이를 연결하고서, 혼합다기관으로 전달되는 실제로 안정된 화학물질흐름의 유속을 조절하도록 된 유량계를 추가구비하는,용매전달시스템.
[청구항 7]
제 3항에 있어서,상기 고속흐름라인은 화학실의 혼합다기관에 연결되고, 이 혼합다기관은 비임계성 웨이퍼 준비작업이 이행될 때, 급수설비로부터 탈이온수의 초기흐름하는,용매전달시스템.
[청구항 8]
제 7항에 있어서,상기 비임계성 웨이퍼 준비작업은 웨이퍼 준비시스템내에서 비화학적 유체의 사용포함하는,용매전달시스템.
[청구항 9]
제 1항에 있어서,상기 제어된 농도를 갖는 화학용매는 웨이퍼에 화학용매를 도포하는 웨이퍼 준비부로이송되는,용매전달시스템.
[청구항 10]
제 9항에 있어서,상기 웨이퍼 준비부는 브러쉬박스구비한,용매전달시스템.
[청구항 11]
제 10항에 있어서,상기 브러쉬박스는 브러쉬를 관통하여 화학용매를 받아들이도록 된 한쌍의 브러쉬구비한,용매전달시스템.
[청구항 12]
제 11항에 있어서,상기 브러쉬박스는 브러쉬쌍 중 적어도 하나의 브러쉬로 화학용매를 도포하는 점적주입막대구비한,용매전달시스템.
[청구항 14]
제 13항에 있어서,비임계성 웨이퍼 준비작업을 위해 급수설비로부터 탈이온수의 초기흐름을 주입구로 받아들이고 직접 화학실로 탈이온수의 초기흐름을 공급하도록 된 고속흐름라인을 추가구비하는,유체전달시스템.
[청구항 15]
제 13항에 있어서,유체전달시스템내에서 제 1압력조절기 다음에 배치된 제 1유량계와, 유체전달시스템내에서 제 2압력조절기 다음에 배치된 제 2유량계를 추가구비한유체전달시스템.
[청구항 16]
제 13항에 있어서,상기 유체전달시스템은 제 1탈이온수출력을 제 1화학실로 전달하고, 제 2탈이온수출력을 제 1화학실전달하도록 된,유체전달시스템.
[청구항 17]
제 16항에 있어서,상기 제 1화학실은 실제로 안정된 제 1탈이온수흐름을 브러쉬박스시스템의 제 1브러쉬로 전달하고, 실제로 안정된 제 2탈이온수흐름을 브러쉬박스시스템의 제 2브러쉬전달하도록 된,유체전달시스템.
[청구항 19]
제 18항에 있어서,상기 화학모듈은 수원으로부터 받아들여진 탈이온수흐름과 실제로 안정된 화학물질흐름을 혼합하면서, 제어된 농도를 갖는 화학용매를 배출하도록 된 혼합다기관을 추가구비하는,화학물질전달시스템.
[청구항 20]
제 19항에 있어서,상기 수원은 물분배모듈을 통해 제공되되, 이 물분배모듈은 급수설비로부터 탈이온수의 초기흐름을 받아들이는 주입구를 갖추고서, 탈이온수의 초기흐름을 안정화시키고 탈이온수분배기의 제 1탈이온수출력으로 실제로 안정된 제 1탈이온수흐름을 만드는 제 1압력조절기와, 탈이온수의 초기흐름을 안정화시키고 탈이온수분배기의 제 2탈이온수출력으로 실제로 안정된 제 2탈이온수흐름을 만드는 제 2압력조절기를 구비하며, 상기 제 1탈이온수출력과 제 2탈이온수출력은 화학모듈에 제공되는 탈이온수분배실갖춘,화학물질전달시스템.
[청구항 21]
제 19항에 있어서,상기 화학모듈은 한쌍의 브러쉬를 갖춘 적어도 하나의 브러쉬박스연결되는,화학물질전달시스템.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
비임계성 웨이퍼 준비작업이 수행될 때, 급수설비로부터 유입된 탈이온수의 초기흐름이 화학실의 혼합다기관으로 직접 공급되도록 하는 구성 요소는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation비임계성 웨이퍼 준비작업 시 급수설비의 탈이온수 초기흐름을 화학실의 혼합다기관으로 직접 공급하는 구성 요소를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 3과 청구항 7에서 비임계성 웨이퍼 준비작업과 관련된 탈이온수 공급 경로를 확인한다.
- 비임계성 웨이퍼 준비작업을 위해 급수설비로부터 탈이온수의 초기흐름을 주입구로 받아들이며 직접 화학실에 탈이온수의 초기흐름을 공급하는 고속흐름라인
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3근거 선택
evidence_selection탈이온수 초기흐름을 화학실의 혼합다기관에 연결하여 공급한다고 명시된 '고속흐름라인'을 핵심 근거로 선택한다.
- 상기 고속흐름라인은 화학실의 혼합다기관에 연결되고, 이 혼합다기관은 비임계성 웨이퍼 준비작업이 이행될 때, 급수설비로부터 탈이온수의 초기흐름하는
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4논리 통합
logical_integration청구항 3과 7을 종합하면, 고속흐름라인이 비임계성 작업 시 탈이온수 초기흐름을 화학실로 직접 공급하며, 이 라인은 혼합다기관에 연결되어 있다.
- 상기 고속흐름라인은 화학실의 혼합다기관에 연결되고
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에서 요구하는 구성 요소는 '고속흐름라인'임을 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 답변인 '고속흐름라인'을 최종 답변으로 작성한다.
- 고속흐름라인
최종 답변 (final_answer)
고속흐름라인
핵심 해석 (core_interpretation)
비임계성 웨이퍼 준비작업 시 탈이온수의 초기흐름을 화학실의 혼합다기관으로 직접 전달하기 위해 고속흐름라인을 구비하여 유체 공급의 효율성을 높이는 기술이다.