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리소그래피 투영장치, 회절격자모듈, 센서모듈,파면수차를 측정하는 방법 document_id 1020020007419

출원번호
1020020007419
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 패터닝수단은 마스크이고 상기 지지구조체는마스크테이블인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 간섭계 측정시스템은 마스크를 잡아주는 위치에서 상기 마스크테이블에 의하여 잡혀있게 되는, 회절격자가 제공되는회절격자모듈포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 회절격자는 상기 패터닝수단을 잡아주는 위치로부터 떨어져 있는 위치에서상기지지구조체제공되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 패터닝 수단은 추가로 상기 회절격자패턴에 따라 투영빔을 패터닝하는역할하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 6] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 측정시스템은 양의 후방초점거리를 갖는 렌즈를 더욱 포함하며, 상기 렌즈는 상기 후방초점거리와 실질적으로 동일한 상기 격자면과의 거리에서상기방사선시스템과상기회절격자의사이위치되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 7] 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 검출기는상기기판테이블제공되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 8] 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 핀홀판nan은상기기판테이블제공되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 9] 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 측정시스템은 상기 기판을 잡아주는 위치에서 상기 기판테이블에 의하여 잡혀있게 되는 센서모듈을 포함하며, 상기 센서모듈은검출기및핀홀판포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 회절격자패턴은 상기 회절격자패턴가 주기적인 제1방향을 따라 회절격자주기를 가지며, 방사선을 검출한 후 회절격자패턴의 상기 제2위치에서 방사선의 검출을 반복하기 위해서 제1위치로부터 상기 제2위치로 위상스텝과 동일한 거리에 걸쳐상기제1방향이동되는것을특징으로 하는파면수차 측정법. [청구항 12] 제11항에 있어서,위상스텝과 동일한 거리는 최대한 회절격자 주기의 n배와 회절격자 주기의 (n+i)배의 합이며, 여기서 0.3 < n < 0.4이고정수인것을특징으로 하는파면수차 측정법. [청구항 13] 제10항에 있어서,상기 회절격자패턴은 상기 회절격자패턴이 주기적인 제1축선을 따라 회절격자주기를 가지며, 상기 핀홀패턴 및 상기 검출기는 모두 제1위치를 가지고 방사선을 검출한 후 상기 핀홀패턴 및 상기 검출기의 제2위치에서 방사선의 검출을 반복하기 위해서 상기 제2위치로 위상스텝과 동일한 거리에 걸쳐 상기 제1축선을 따라이동되는것을특징으로 하는파면수차 측정법. [청구항 14] 제10항에 있어서,상기 회절격자패턴은 제1방향으로 회절격자주기를 가지며, 상기 핀홀을 지나는 방사선을 검출하는 동안, 상기 기판테이블이 상기 투영시스템의 배율에 상기 지지구조체의 속도를 곱한 속도를 가지고 상기 지지구조체 및 상기 기판테이블이 상기 제1방향과 평행한방향이동되는것을특징으로 하는파면수차 측정법. [청구항 15] 제10항에 있어서,검출기 표면에서의 위치 대 퓨필을 포함하는 평면내의 대응하는 위치를 연관시키는 소정의 복수의 계수의 캘리브레이션은,- 소정의 영역점에 대하여 제1파면수차를 나타내는 복수의 제1측정데이터를 획득하는 단계,- 핀홀 및 검출기에 투영시스템의 광축과 평행한 소정의 변위를 적용하는 단계,- 상기 핀홀 및 상기 검출기의 상기 소정의 변위된 위치에서 상기 소정의 영역점에 대하여 제2파면수차를 나타내는 복수의 제2측정데이터를 획득하는 단계,- 광학시스템 시뮬레이션 컴퓨터 프로그램을 사용하여 제1 및 제2파면수차간의 예상되는 차이를 계산하는 단계,- 상기 소정의 복수의 계수와 상기 복수의 제1 및 제2측정데이터를 사용하여 제1 및 제2파면수차간의 측정된 차이를 계산하는 단계,- 검출면에서의 위치 대 퓨필을 포함하는 평면내의 위치를 연관시키는 상기 복수의 계수를 조정함으로써 상기 예상되는 차이와 측정된 차이간의 차이를 최소화하는 단계, 및- 소정의 복수의 계수를 상기 조정된 복수의 계수로 대체하는 단계를 포함하는방법지는것을특징으로 하는파면수차 측정법.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
리소그래피 투영장치에서 간섭계 측정시스템이 포함하는 회절격자모듈은 어떤 구성요소에 의해 고정되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    리소그래피 투영장치의 간섭계 측정시스템 내 회절격자모듈을 고정하는 구성요소를 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 3에서 간섭계 측정시스템이 회절격자모듈을 포함하며, 해당 모듈이 무엇에 의해 잡혀있는지 확인한다.

    • 상기 간섭계 측정시스템은 마스크를 잡아주는 위치에서 상기 마스크테이블에 의하여 잡혀있게 되는, 회절격자가 제공되는회절격자모듈포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치
  3. 3근거 선택evidence_selection

    회절격자모듈이 '마스크테이블'에 의해 잡혀있다는 구절을 선택한다.

    • 상기 마스크테이블에 의하여 잡혀있게 되는, 회절격자가 제공되는회절격자모듈
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 2에서 지지구조체가 마스크테이블임을 명시하고 있으므로, 회절격자모듈은 마스크테이블에 의해 고정됨을 알 수 있다.

    • 상기 지지구조체는마스크테이블인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    회절격자모듈은 마스크테이블에 의해 고정(잡혀있게)된다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 대해 추출된 정보를 바탕으로 답변을 생성한다.

최종 답변 (final_answer)
마스크테이블
핵심 해석 (core_interpretation)
리소그래피 투영장치의 간섭계 측정시스템에 포함된 회절격자모듈은 마스크를 지지하는 위치에서 마스크테이블에 의해 고정된다.