문맥 (context)
[청구항 1]
측정 반사기가 부착된 가동 부재
기준 반사기가 부착된 고정 부재
광빔을 제공하는 광원; 및
제 1 및 제 2 빔스플리터가 장착된 광학 지지 블럭을 구비하며,
상기 제 1 빔스플리터는, 상기 광빔을 제 1 의 빔쌍으로 변환하도록 동작가능하고, 또한 상기 제 1 의 빔쌍 중 한 빔을 기준 경로를 따라 상기 기준 반사기로 향하게 하고, 상기 제 1 의 빔쌍 중 다른 빔을 측정 경로를 따라 상기 측정 반사기로 향하게 하도록 배열되어 상기 가동 부재의 위치를 측정하기 위한 상기 제 1 의 빔쌍간의 측정 간섭 패턴을 생성하고,
상기 제 2 빔스플리터는, 제 2 의 빔쌍을 형성하도록 동작가능하고, 또한 상기 제 2 의 빔쌍을 지지 블럭 측정 경로를 따라 상기 기준 반사기로 향하게 하도록 배열되어 있고, 상기 광학 지지 블럭의 움직임에 의한 상기 가동 부재의 측정된 위치의 오차를 결정하기 위한 상기 제 2 의 빔쌍간의 보정 간섭 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 간섭계 측정 시스템
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 기준 경로에 위치된 제 1 의 1/4 파장판, 상기 측정 경로에 위치된 제 2 의 1/4 파장판, 및 상기 기준 경로 및 상기 측정 경로가 통과하는 분석기를 더 구비하며, 상기 제 1 빔스플리터는 편광된 빔 스플리터이고, 상기 제 1 의 빔쌍은 제 1 의 편광된빔쌍인것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 빔스플리터는 중심축을 따라 상기 측정 반사기와 광학적으로 정렬되어 있고또한상기광원과상기측정반사기사이개재되어있는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 의 빔쌍 중한 빔을 상기 기준 반사기 쪽으로 다시 향하게 하도록 상기 제 1 빔스플리터와 상기 기준 반사기와의 사이의 상기 기준 경로에 위치된직각반사기더구비하는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,상기 광원nan은레이저구비하는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 6]
제 1 항에 있어서,상기 측정 간섭 패턴을 수신하는 제 1 센서 및 상기 보정 간섭 패턴을 수신하는제2센서더구비하는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 7]
제 1 항에 있어서,상기 측정 간섭 패턴과 상기 보정 간섭 패턴으로부터 상기 가동 부재의 보정된 위치를 계산하는제어기더구비하는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 8]
제 1 항에 있어서,제 2 광빔을 제공하는 제 2 광원을 더 구비하며,상기 제 2 빔스플리터는 상기 제 2 광빔을 상기 제 2 의 빔쌍으로 변환할 수있는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,2 개의 직각 반사기를 더 구비하며.상기 직각 반사기들 중 한 직각 반사기는 상기 제 2 의 빔쌍 중 한 빔을 상기 기준 반사기로 향하게 하도록 위치되어 있고, 상기 직각 반사기들 중 다른 직각 반사기는 상기 제 1 의 빔쌍 중 한빔을상기기준반사기위치되어있는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 10]
제 1 항에 있어서,상기 광원의 하류에 개재되어 상기 제 1 빔스플리터 및 상기 제 2 빔스플리터 쪽으로 상기 광빔을 분할하는제3빔스플리터더구비하는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 11]
제 10 항에 있어서,상기 기준 경로내에 위치된 제 1 직각 반사기 및 상기 블럭 측정 경로들 중 한 경로내에 위치된제2직각반사기더구비하는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 12]
제 10 항에 있어서,상기 광원nan은상기제3빔스플리터와광학적정렬되어있는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 13]
제 10 항에 있어서,상기 기준 경로 및 상기 지지 블럭 측정 경로들내에 위치된 3개의 절대 간섭계를 더 구비하며, 상기 절대 간섭계 각각은기준미러및센서구비하는것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 14]
제 1 항에 있어서,상기 가동 부재는 웨이퍼 스테이지이고,상기 고정 부재는투영렌즈인것을특징으로 하는간섭계 측정 시스템.
[청구항 20]
측정 반사기가 부착된 가동 스테이지
기준 반사기가 부착된 고정 렌즈
광빔을 제공하는 광원; 및
제 1 및 제 2 빔스플리터가 장착된 광학 지지 블럭을 구비하며,
상기 제 1 빔스플리터는, 상기 광빔을 제 1 의 빔쌍으로 변환하도록 동작가능하고, 또한 상기 제 1 의 빔쌍 중 한 빔을 기준 경로를 따라 상기 기준 반사기로 향하게 하고, 상기 제 1 의 빔쌍 중 다른 빔을 측정 경로를 따라 상기 측정 반사기 로 향하게 하도록 배열되어 상기 가동 스테이지의 위치를 측정하기 위한 상기 제 1 의 빔쌍간의 측정 간섭 패턴을 생성하고,
상기 제 2 빔스플리터는, 제 2 의 빔쌍을 형성하도록 동작가능하고, 또한 상기 제 2 의 빔쌍을 지지 블럭 측정 경로를 따라 상기 기준 반사기로 향하게 하도록 배열되어 있고, 상기 광학 지지 블럭의 움직임에 의한 상기 가동 스테이지의 측정된 위치의 오차를 결정하기 위한 상기 제 2 의 빔쌍간의 보정 간섭 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 간섭계 측정 시스템
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
간섭계 측정 시스템에서 제 2 빔스플리터가 형성하는 보정 간섭 패턴은 어떠한 목적을 위해 사용되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation질문에서 요구하는 제 2 빔스플리터가 형성하는 보정 간섭 패턴의 목적을 청구항 문맥에서 찾아야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 제 2 빔스플리터의 기능과 보정 간섭 패턴에 관한 설명을 추출한다.
- 상기 제 2 빔스플리터는, 제 2 의 빔쌍을 형성하도록 동작가능하고, 또한 상기 제 2 의 빔쌍을 지지 블럭 측정 경로를 따라 상기 기준 반사기로 향하게 하도록 배열되어 있고, 상기 광학 지지 블럭의 움직임에 의한 상기 가동 부재의 측정된 위치의 오차를 결정하기 위한 상기 제 2 의 빔쌍간의 보정 간섭 패턴을 형성하는 것
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3근거 선택
evidence_selection보정 간섭 패턴의 목적을 직접적으로 명시한 구절을 선택한다.
- 상기 광학 지지 블럭의 움직임에 의한 상기 가동 부재의 측정된 위치의 오차를 결정하기 위한 상기 제 2 의 빔쌍간의 보정 간섭 패턴
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4논리 통합
logical_integration제 2 빔스플리터가 형성하는 보정 간섭 패턴은 광학 지지 블럭의 움직임으로 인해 발생하는 가동 부재의 측정 위치 오차를 결정하기 위해 사용됨을 연결한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation보정 간섭 패턴의 목적은 광학 지지 블럭의 움직임에 의한 가동 부재의 측정된 위치 오차를 결정하는 것이다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
광학 지지 블럭의 움직임에 의한 가동 부재의 측정된 위치의 오차를 결정하기 위해 사용된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 광학 지지 블럭의 움직임으로 인해 발생할 수 있는 가동 부재의 위치 측정 오차를 보정하기 위해, 제 2 빔스플리터를 이용한 보정 간섭 패턴을 생성하는 기술을 포함한다.