대상물의 입자광 이미지용 검사 시스템과 하전입자용편향장치 및 그 작동방법 document_id 1020020037942

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 조명된 필드는 상기 위치 감지 검출기상에 이미지된 상기 선택가능한 영역(7)과 일치하는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 3] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 대상물(3) 및 상기 고정된 빔 횡단면(27) 사이에 배치되고 집속 렌즈처럼 상기 위치 감지 검출기(5)상에 이미지된 선택가능한 영역(7)으로부터 방출된 하전 입자에 작용하는 편향장을 제공하기 위한 제 1 집속 렌즈장치(15)를 더 구비한 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 편향장은 가변적이고, 상기 제어장치는 상기 집속 렌즈의 광축(59)이 상기 광축 방향에 횡으로 변위될 수 있도록 상기 제 1 집속 렌즈장치(15)를 제어하기 위해 또한 제공되는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 제어장치(25)는 상기 제 1 집속 렌즈장치의 광축(59)이 상기 선택가능한 영역(7)의 위치와 무관하게 상기 선택가능한 영역(7)의 중심을 가로지르도록 상기 제 1 집속 렌즈장치(15)를 제어하기 위해 또한 제공되는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 6] 제 3 항에 있어서,상기 제 1 집속 렌즈장치(15)는 하전 입자의 빔에 집속 효과를 가지는 편향장을 제공하기 위한 입자광 집속장치이며;빔 방향(z)으로 서로 이격되고 전기 절연되어 있고, 각각 자유 빔 횡단을 위한 연속 개구부를 갖는 영역을 포함하는 적어도 3개의 개구 구조를 구비하고,상기 개구부 각각은 상기 빔 방향에 수직인 제 1 방향(x)으로 연장된 길이 및 상기 빔 방향 및 상기 제 1 방향에 수직인 제 3 방향(y)으로 연장된 폭을 가지며, 상기 길이가 상기 폭보다 크고,상기 빔 방향으로 서로 인접 위치된 2개의 개구 구조들 사이에 배치된 적어도 하나의 개구 구조는 상기 제 1 방향(x)으로 볼 때, 전기적으로 절연되고 상기 제 1 방향(x)으로 서로 이격 배치된 다수의 전극을 개구부의 각 측면상에 구비한 콤브 개구 구조로 제공된 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,적어도 3개의 개구 구조는 상기 콤브 개구 구조와는 다른 제 1 개구 구조를 포함하고, 상기 제 1 개구 구조는 상기 개구부의 폭보다 0.25배 더 큰 거리 위에 상기 빔 방향으로 상기 개구부의 영역에 연장된 적어도 하나의 전극 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 8] 제 6 항에 있어서,적어도 3개의 개구 구조는 상기 콤브 개구 구조와는 다르고 빔 방향으로 서로 이격되어 있으며 서로에 대해 직접적으로 인접해 있는 제 2 개구 구조 및 제 3 개구 구조를 포함하며, 상기 제 2 및 제 3 개구 구조 각각은 상기 개구부 영역에 적어도 하나의 전극 영역을 구비하고, 상기 전극 영역은 상기 개구부의 폭보다 0.5배 더 큰 거리만큼 빔 방향으로 서로 이격 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 9] 제 6 항에 있어서,상기 입자광 집속장치는 다수의 전극이 4중극장(a quadrupole field)을 생산하도록 상기 콤브 개구 구조의 다수의 전극에 전위를 인가하기 위한 편향장 제어장치를 더 구비하며, 상기 4중극장의 대칭축은 상기 개구부 내에서 빔 방향으로 연장된 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 편향장 제어장치는 상기 대칭축이 상기 제 1 방향으로 서로 오프셋트된 몇 개의 선택가능한 위치에 위치될 수 있도록 전위를 인가하기 위해 제공된 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 대칭축은 상기 제 1 방향(x)에 연속적으로 변위될 수 있는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 12] 제 9 항에 있어서,상기 편향장 제어장치는 서로에 대해 적어도 2개 개구 구조의 평균 전위를 조절하도록 제공된 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 13] 제 6 항에 있어서,상기 콤브 개구 구조의 전극들은 빔 방향으로 상기 개구부 폭의 0.5배 내지 1.5배의 치수를 갖는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 14] 제 9 항에 있어서,적어도 3개의 개구 구조 중 적어도 하나는 콤브 개구 구조로 제공되고, 상기 콤브 개구 구조의 전극들에는 상기 편향장 제어장치에 의해 선택가능한 전위가 공급될 수 있는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 15] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 조명장치는 상기 정해진 필드를 조명하기 위한 광자 소오스(91)를 구비하고, 상기 선택가능한 영역(7)으로부터 방출된 하전 입자는 상기 광자 소오스(91)의 광자들에 의해 생성된 광전자를 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기 조명된 필드를 변위시키기 위한 이동가능한 미러를 갖는 조명편향장치(95)를 더 구비하며, 상기 조명된 필드는 상기 이동가능한 미러의 이동에 의해 변위되는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 17] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 조명장치는 상기 정해진 필드를 조명하기 위한 전자 소오스(31)를 구비하고, 상기 선택가능한 영역(7)으로부터 방출된 하전 입자는 상기 전자 소오스(31)의 전자에 의해 생성된 2차 전자, 후방산란 전자, 투과 전자 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 조명장치는 상기 정해진 필드를 조명하는 조명 빔(29)을 형성하고 상기 조명의 개구 수치를 조절하기 위한 적어도 하나의 개구 구조(35)를 구비한 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 19] 제 3 항에 있어서,상기 조명장치(31c)와 상기 제 1 집속 렌즈장치(15c')는 상기 대물면의 대향측면에 배치되고, 상기 검사 시스템은 상기 정해진 필드를 변위시키기 위해 상기 빔을 편향하도록 제 2 편향장치(23c,24c)를 구비하며, 상기 제 2 편향장치는 상기 제어장치(25c)에 의해 제어될 수 있는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 20] 제 3 항에 있어서,상기 조명장치(31;31a;31b)와 상기 제 1 집속 렌즈장치(15;15a;15b)는 상기 대물면에 대해 동일한 측면에 배치되는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 21] 제 20 항에 있어서,상기 조명 장치(31; 31a; 31b)는 상기 정해진 필드를 조명하기 위한 전자 소오스를 포함하고, 상기 검사 시스템은 상기 전자 소오스에 의해 방출된 전자를 상기 고정 빔 횡단면(27;27a;27b)을 지나 상기 대상물(3)로 향하게 안내하도록 제공되는 빔 안내장치를 더 포함하며, 상기 대상물(3)을 향해 이동한 전자는 또한 상기 제 1 편향장치(23,24)와 상기 제 1 집속 렌즈장치(15)를 지나는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 22] 제 21 항에 있어서,상기 제 1 편향장치(23,24)를 지날 때, 상기 대상물(3)을 향해 이동한 전자는 상기 대상물(3)로부터 상기 위치 감지 검출기(5)까지 이동한 전자보다 더 큰 운동 에너지를 가지고, 상기 제 1 편향장치(23,24)는 상기 제1 편향장치에 의해 발생된 편향장이 상기 대상물(3)로 향해 이동한 전자와 상기 대상물(3)로부터 상기 검출기(5)까지 이동한 전자에 대해 동일한 편향(m)을 제공하도록 하는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 23] 제 22 항에 있어서,상기 제 1 편향장치는 상기 제어장치(25)에 의해 가변될 수 있는 전기 편향장과 상기 제어장치에 의해 가변될 수 있는 자기 편향장(40)을 갖는 적어도 하나의 공간(36)을 포함하고, 상기 전기 편향장 및 자기 편향장의 필드 방향 뿐만 아니라 상기 공간(36)에서 전자의 이동 방향이 쌍으로 서로 수직하게 지향되는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 24] 제 23 항에 있어서,상기 제어장치(25)는 상기 적어도 하나의 한 공간(36)에서 관계식b = k ·e(여기서, b는 상기 공간(36)에서 자기장의 세기이고, e는 상기 공간(36)에서 전기장의 세기이며, k는 상수이다)이 충족되도록 상기 제 1 편향장치(23,24)를 제어하는 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 25] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,하전 입자에 대한 이미징 에너지 필터(67)가 상기 고정 횡단면(27) 및 상기 위치 감지 검출기(5) 사이의 빔 경로에 제공된 것을 특징으로 하는 대상물이미징하기 위한검사 시스템. [청구항 27] 제 26 항에 있어서,상기 전류도체 권선장치는 축 방향으로 서로 이격되고 고(high)자기 침투율 재료로 만들어진 하나 이상의 링(43)을 구비하고, 각각의 상기 전류도체 권선(47)은 상기 링(43) 중 적어도 하나 주위에 맞물려 있는 것을 특징으로 하는 하전 입자의 제 1 빔편향하는편향장치. [청구항 28] 제 27 항에 있어서,진공 관을 더 구비하고, 상기 링은 외부 반경방향으로 배치되고 상기 전극은 상기 진공 관의 내부 반경방향으로 배치된 것을 특징으로 하는 하전 입자의 제 1 빔편향하는편향장치.