플라즈마 처리장치 및 플라즈마 처리방법 document_id 1020027002155

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 이동기구는 상기 급전부재의 급전위치를 실질적으로 상기 제1전극의 급전면에서 제1전극과 동심적인소정반경의원주상이동시키는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 급전위치는 제1전극의 상기 제2전극에 대향하는 면과 반대측의 면에서 제1전극과 동심적인소정반경의원주상이동하는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 급전위치의 회전수는 20rpm이상인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 6] 제3항에 있어서,상기 고주파 전원과 상기 급전부재는수은을매개접속되는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 7] 제3항에 있어서,상기 제1전극과 상기 급전판에 의해서 형성되는 정전결합의 정전용량은 상기 정합기내에서 급전부재와 직렬로 형성된 정전용량 보다도 큰 것특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 스위치기구는, 상기 복수의 수전단자부에 각각 접속된 수전단자판과, 상기 급전부에 접속됨과 더불어 상기 각 수전단자부의 수전단자판의 바로 위 또는 바로 아래를 통과 가능하게 되면서 상기 각 수전단자판과 대향할 때에 그 수전단자판과의 사이에서 정전결합 가능한 급전단자판 및, 상기 급전단자판을 이동시켜서 상기 각 수전단자부의 수전단자판의 바로 위 또는 바로 아래에 순차 위치시키는구동기구갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 스위치기구는 상기 급전단자판이 장착되면서 상기 구동기구에 의해 회전되는 회전부재를 갖고, 상기 급전단자판으로는상기회전부재를매개급전되는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 11] 제9항 또는 제10항에 있어서,상기 스위치기구를 감압분위기로 존재시키는감압수단더갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 12] 제9항에 있어서,수전단자부에 접속된 수전단자판은 각각의 수전단자부에 복수 매씩 설치되면서 각 수전단자부의 복수의 수전단자판과 정전결합 가능하도록복수의급전단자판갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 13] 제8항에 있어서,상기 급전부와 상기 스위치기구는수은을매개접속되는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 14] 제9항에 있어서,상기 수전단자판과 상기 급전단자판에 의해서 형성된 정전결합의 정전용량은 상기 정합기내의 급전부재와 직렬로 형성된 정전용량보다도 큰 것특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 스위치기구는, 상기 복수의 급전라인에 설치된 스위치소자와, 이들 스위치소자를 순차 온상태로 하는제어수단갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 스위치소자는 pin다이오드갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 18] 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 수전단자부는 상기 제1전극의 상기 제2전극에 대향하는 면과 반대측의 면에서 그 중심을 통과하지 않은원주상배치되는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 19] 제18항에 있어서,상기 복수의 수전단자부는 상기 제1전극의 상기 제2전극에 대향하는 면과 반대측의 면에서 제1전극과 동심적인 소정 반경의 원주상에등간격배치되는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 20] 제18항에 있어서,상기 원주상에 배치된 급전단자부를 순차 절환할 때의 주기가 20회/분이상인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 21] 제8항 또는 제15항에 있어서,상기 수전단자부는적어도3개인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 22] 제1항, 제3항, 제8항, 제15항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2전극에 고주파를 인가하는 다른고주파전원더구비하는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치.