반도체 기판 세정 장치 및 세정 방법 document_id 1020030059118

[청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 조절부는, 상기 배기로를 차단하거나 상기 배기로의 적어도 일부를 개방하는 차단판과; 상기 차단판을 이동시키는구동부포함하는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 3] 제 2항에 있어서,상기 조절부는, 상기 챔버 내의 압력을 측정하는 압력측정부와; 상기 압력측정부에서 측정된 값에 따라 상기 구동부를 제어하는제어부더구비하는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 4] 제 1항에 있어서,상기 조절부는, 상기 배기로와 연결되는 몸체와; 상기 몸체 내에 설치된 탄성체와; 상기 몸체 내에 위치되며, 상기 탄성체에 의해 제공되는 압축력에 의해 상기 배기로를 개폐하는 차단로드를 구비하며, 상기 챔버 내부의 압력에 의해 상기 탄성체가 압축되는 정도에 따라 상기 배기로의개방율조절되는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 5] 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 배기로는 상기 챔버 내에 위치되는 상기 지지부보다아래형성되는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 6] 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 배기nan로의단면직사각형 형상으로이루어지는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 7] 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 공급부는,분사구가 형성된 분사관과;상기 분사관으로 제 1유체를 공급하는, 그리고 유량조절밸브가 설치된 제 1공급관과;상기 분사관과 상기 유량조절밸브가 설치된 지점 사이에서 상기 제 1공급관으로부터 분기되며 제 2유체를 공급하는, 그리고 유량조절밸브가 설치된제2공급관가지는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 8] 제 7항에 있어서,상기 제 1유체는 알코올 증기이고, 상기 제 2유체는 건조가스이며, 상기 알코올 증기가 상기 챔버로 공급될 때, 상기 분사관을 통해 공급되는 유체의 총량은 일정하게 유지되도록 상기 분사관으로 공급되는 상기 알코올 증기의 변화량에 따라 상기 제 2공급관을 흐르는건조가스의량조절되는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 9] 제 7항에 있어서,상기 분사관은 그 길이방향으로 상기 챔버의 측벽 내에 삽입되도록설치되는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 10] 제 9항에 있어서,상기 공급부는 상기 분사관을 가열하는히터더구비하는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 11] 제 7항에 있어서,상기 분사관에 형성된 분사구들은상부형성된것을특징으로 하는세정장치. [청구항 12] 제 11항에 있어서,상기 분사관에는 제 1분사구들, 제 2분사구들, 그리고 제 3분사구들이 형성되며, 상기 제 1분사구들은 수평면으로부터 5°내지 20°의 각도를 가지도록 형성되고, 상기 제 2분사구들은 수평면으로부터 30°내지 50°의 각도를 가지도록 형성되고, 상기 제 3분사구들은 수평면으로부터 60°내지 80°의각도형성되는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 13] 제 11항에 있어서,상기 챔버의 상부면은돔형상형성된것을특징으로 하는세정장치. [청구항 14] 제 7항에 있어서,상기 분사관은 상기 제 1공급관에서 멀어질수록 단면적이점진적적어지는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 15] 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 장치는 상기 챔버 내로 세정액을 분사하는 세정액 공급관을 더 구비하되,상기 세정액 공급관은,상기 챔버 내에 위치되는 상기 반도체 기판보다 높은 곳에 설치되는 상부공급관과;상기 챔버 내에 위치되는 상기 반도체 기판보다 낮은 곳에 설치되는하부공급관가지는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 16] 제 7항에 있어서,상기 장치는, 상기 알코올 증기를 발생시키는, 그리고 상기 제 1공급관이 연결되는 기화부와; 상기 기화부 내의 증기가 배기되는 통로를 제공하며, 개폐밸브가 설치된벤트관더구비하는것을특징으로 하는세정장치. [청구항 22] 제 21항에 있어서,상기 챔버는,상기 지지부가 배치되며 상기 세정액 공급관으로부터 세정액이 공급되는 내조와;상기 내조의 측벽을 감싸도록 배치되며, 상기 내조로부터 오버플로우되는 세정액을 수용하는 외조를 구비하고,상기 세정액은린스액인것을특징으로 하는세정장치.