리소그래피시스템용 정렬시스템 및 정렬방법 document_id 1020030065268

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1비제로(non-zero)회절차수채널이고, 상기 제2검출기채널은 제2비제로회절차수채널인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2신호에 대한 제1신호의 상대세기에 의존하는 인자로 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 제1 및 제2신호를 가중(weighting)하여 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 제2비제로회절차수채널에 대한 가중 인자는, 상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 세기가 소정의 임계치를 초과할 때,제로설정되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 위치를 제1정밀도로 판정하는 것과 결합하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제3 및 제4검출기채널로부터 정보를 처리하고, 상기 제1정밀도보다 더욱 정밀한 제2정밀도로 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 위치를 판정하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 제1 및 제2신호를 균등하게 가중하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 위치판정유닛은, mcc, minirepro, 신호대잡음비, 신호형상, 신호포락선, 포커스, 경사, 차수채널위치오프셋, 파장채널위치오프셋, 세그먼트와 개략-미세위치편차 사이의 시프트(shift)로 이루어진 측정가능한 정량(quantity)들의 세트로부터 선택된 하나 이상의 측정가능한 정량에 의존하는 인자로, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 제1 및 제2신호를 가중하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 정보를 처리하도록 구성되며,상기 파라미터 mcc는 상기 측정된 신호가 완벽한 정렬마크에 대해 예상된 신호와 얼마나 양호하게 비슷한가를 나타내는 다중상관계수(multiple correlation coefficient)이고, minirepro는 정렬된 위치의 정확성을 나타내는 정렬측정부의 상이한 섹션 또는 부분의 정렬된 위치의 표준편차이며, 신호대잡음비는 측정된 신호의 스펙트럼에 걸쳐 잡음의 상대레벨로 나뉜 핏팅된(fitted) 신호인 한편, 신호형상은 상기 스펙트럼에서의 약간의 이산 주파수의 상대레벨이고, 일반적으로 기저 주파수의 배수들에서, 신호포락선은 측정시의 신호세기의 분산이며, 포커스는 측정시의 웨이퍼 높이의 오프셋이고, 경사는 측정시의 웨이퍼 각도와 검출기 각도 사이의 각도이며, 차수채널위치오프셋은 한 파장의 여러 채널의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이고, 파장채널위치오프셋은 여러 파장채널의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이며, 세그먼트들간의 시프트는 다수 분절된 정렬마크의 여러 세그먼트의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이고, 개략-미세 위치편차는 개략 위상에서의 정렬마크 측정치들에 기초하여 그들의 예상된 위치에 대한 미세 위상에서의정렬마크들의위치간차이인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 결합된 정보를 이용하여 예측방법(predictive recipe)에 의하여 상기 정렬마크의 상기 위치를 판정하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 예측방법은 정해진 데이터 세트에 기초한정적예측값인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 11] 제9항에 있어서,상기 예측방법은, 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 상기 위치를 판정하는 동안에 수정될 수 있는초기데이터 세트기초로하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 12] 제10항에 있어서,데이터 세트는상기작업물상의상기정렬마크의위치의존성포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 13] 제9항에 있어서,상기 예측방법은, 적어도 상기 제1 및 제2검출기채널로부터의 결합된 정보로부터 판정된 상기 정렬마크의 상기 위치에 연속함수를 적용하는 것을포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 14] 제9항에 있어서,상기 예측방법은, 실질적으로 제로인 계통 처리-유도 에러(systematic processing-induced error)를 이용하여정렬마크의위치예측하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 실질적으로 제로인 계통 처리-유도 에러는 화학적 기계적 폴리싱 공정에 의하여 도입된계통에러해당하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 16] 제14항에 있어서,상기 실질적으로 제로인 계통 처리-유도 에러는 구리 다마신 공정에 의하여 도입된계통에러해당하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 17] 제1항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2작업물에서 검출된 정렬마크로부터의 정보를 포함하여 상기 정렬마크의 상기 위치를 판정하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 18] 제1항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1파장채널이고, 상기 제2검출기채널은제2파장채널인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 19] 제1항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제1파장에서레이저제공조명방사선포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제2파장에서제2레이저제공조명방사선더포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 21] 제1항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 복수의 파장에서 조명방사선을 제공하도록 되어 있는광대역 방사원포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 22] 제1항에 있어서,상기 검출시스템은, 제1검출신호를 상기 제1검출기채널에 제공하도록 구성된 제1검출기와, 제2검출신호를 상기 제2검출기채널에 제공하도록 구성된제2검출기포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 23] 제1항에 있어서,상기 검출시스템은, 다중타겟정렬마크의 제1타겟과 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 24] 제23항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 제1타겟의일부분의위또는아래의구조체중적어도하나포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 25] 제23항에 있어서,상기 검출시스템은, 상기 제1검출신호를 제공하도록 다중타겟정렬마크의 제1타겟을 검출하도록 구성되고, 상기 검출시스템은 상기 제2검출신호를 제공하도록 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 26] 제23항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 소정의 변화를 거치도록 구성되는 프로세스 타겟인 것특징으로 하는정렬시스템. [청구항 27] 제26항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은, 로버스트 백업(robust backup) 타겟을 상기 제1타겟에 제공하기 위하여, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 상기 제1타겟보다는 적은변화구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 28] 제23항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 파괴되도록 구성되는 희생 타겟인 것특징으로 하는정렬시스템. [청구항 29] 제23항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 상기 작업물의 재료의 제1층에 구성되고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은상기작업물의재료의제2층구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 30] 제23항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제1회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제2회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이며, 상기 제1회절차수는 상기 제2회절차수의 정수값과 다른정수값인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 31] 제1항에 있어서,상기 검출시스템은 제3검출채널을 더 포함하여 이루어지고, 상기 위치판정유닛은, 교정 및 능력검정(qualification) 중 적어도 하나를 수행하면서, 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 상기 위치를 판정하는 것과 결합하여 상기 제1, 제2 및 제3검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 33] 제32항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1비제로회절차수채널이고, 상기 제2검출기채널은 제2비제로회절차수채널인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 34] 제33항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2신호에 대한 제1신호의 상대세기에 의존하는 인자로 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 제1 및 제2신호를 가중하여 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 35] 제34항에 있어서,상기 제2비제로회절차수채널에 대한 가중 인자는, 상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 세기가 소정의 임계치를 초과할 때,제로설정되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 36] 제32항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 위치를 제1정밀도로 판정하는 것과 결합하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 37] 제36항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제3 및 제4검출기채널로부터 정보를 처리하고, 상기 제1정밀도보다 더욱 정밀한 제2정밀도로 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 위치를 판정하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 38] 제32항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 제1 및 제2신호를 균등하게 가중하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 39] 제32항에 있어서,상기 위치판정유닛은, mcc, minirepro, 신호대잡음비, 신호형상, 신호포락선, 포커스, 경사, 차수채널위치오프셋, 파장채널위치오프셋, 세그먼트와 개략-미세위치편차 사이의 시프트로 이루어진 측정가능한 정량들의 세트로부터 선택된 하나 이상의 측정가능한 정량에 의존하는 인자로, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 제1 및 제2신호를 가중하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 정보를 처리하도록 구성되며,상기 파라미터 mcc는 상기 측정된 신호가 완벽한 정렬마크에 대해 예상된 신호와 얼마나 양호하게 비슷한가를 나타내는 다중상관계수(multiple correlation coefficient)이고, minirepro는 정렬된 위치의 정확성을 나타내는 정렬측정부의 상이한 섹션 또는 부분의 정렬된 위치의 표준편차이며, 신호대잡음비는 측정된 신호의 스펙트럼에 걸쳐 잡음의 상대레벨로 나뉜 핏팅된 신호인 한편, 신호형상은 상기 스펙트럼에서의 약간의 이산 주파수의 상대레벨이고, 일반적으로 기저 주파수의 배수들에서, 신호포락선은 측정시의 신호세기의 분산이며, 포커스는 측정시의 웨이퍼 높이의 오프셋이고, 경사는 측정시의 웨이퍼 각도와 검출기 각도 사이의 각도이며, 차수채널위치오프셋은 한 파장의 여러 채널의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이고, 파장채널위치오프셋은 여러 파장채널의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이며, 세그먼트들간의 시프트는 다수 분절된 정렬마크의 여러 세그먼트의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이고, 개략-미세 위치편차는 개략 위상에서의 정렬마크 측정치들에 기초하여 그들의 예상된 위치에 대한 미세 위상에서의정렬마크들의위치간차이인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 40] 제32항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 결합된 정보를 이용하여 예측방법에 의하여상기정렬마크의상기위치판정하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 41] 제40항에 있어서,상기 예측방법은 정해진 데이터 세트에 기초한정적예측값인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 42] 제40항에 있어서,상기 예측방법은, 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 상기 위치를 판정하는 동안에 수정될 수 있는초기데이터 세트기초로하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 43] 제41항에 있어서,데이터 세트는상기작업물상의상기정렬마크의위치의존성포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 44] 제40항에 있어서,상기 예측방법은, 적어도 상기 제1 및 제2검출기채널로부터의 결합된 정보로부터 판정된 상기 정렬마크의 상기 위치에 연속함수를 적용하는 것을포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 45] 제40항에 있어서,상기 예측방법은, 실질적으로 제로인 계통 처리-유도 에러(systematic processing-induced error)를 이용하여정렬마크의위치예측하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 46] 제45항에 있어서,상기 실질적으로 제로인 계통 처리-유도 에러는 화학적 기계적 폴리싱 공정에 의하여 도입된계통에러해당하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 47] 제45항에 있어서,상기 실질적으로 제로인 계통 처리-유도 에러는 구리 다마신 공정에 의하여 도입된계통에러해당하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 48] 제32항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2작업물에서 검출된 정렬마크로부터의 정보를 포함하여 상기 정렬마크의 상기 위치를 판정하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 49] 제32항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1파장채널이고, 상기 제2검출기채널은제2파장채널인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 50] 제32항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제1파장에서레이저제공조명방사선포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 51] 제50항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제2파장에서제2레이저제공조명방사선더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 52] 제32항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 복수의 파장에서 조명방사선을 제공하도록 되어 있는광대역 방사원포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 53] 제32항에 있어서,상기 검출시스템은, 제1검출신호를 상기 제1검출기채널에 제공하도록 구성된 제1검출기와, 제2검출신호를 상기 제2검출기채널에 제공하도록 구성된제2검출기포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 54] 제32항에 있어서,상기 검출시스템은, 다중타겟정렬마크의 제1타겟과 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 55] 제54항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 제1타겟의일부분의위또는아래의구조체중적어도하나포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 56] 제54항에 있어서,상기 검출시스템은, 상기 제1검출신호를 제공하도록 다중타겟정렬마크의 제1타겟을 검출하도록 구성되고, 상기 검출시스템은 상기 제2검출신호를 제공하도록 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 57] 제54항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 소정의 변화를 거치도록 구성되는 프로세스 타겟인 것특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 58] 제57항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은, 로버스트 백업 타겟을 상기 제1타겟에 제공하기 위하여, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 상기 제1타겟보다는 적은변화구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 59] 제54항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 파괴되도록 구성되는 희생 타겟인 것특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 60] 제56항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 상기 작업물의 재료의 제1층에 구성되고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은상기작업물의재료의제2층구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 61] 제56항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제1회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제2회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이며, 상기 제1회절차수는 상기 제2회절차수의 정수값과 다른정수값인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 62] 제32항에 있어서,상기 검출시스템은 제3검출채널을 더 포함하여 이루어지고, 상기 위치판정유닛은, 교정 및 능력검정(qualification) 중 적어도 하나를 수행하면서, 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 상기 위치를 판정하는 것과 결합하여 상기 제1, 제2 및 제3검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 80] 제79항에 있어서,상기제1타겟은 주기적인 제1격자패턴을 갖는 제1회절차수증대격자이고,상기 제2타겟은 주기적인 제2격자패턴을 갖는 제2회절차수증대격자이며, 상기 제1타겟은 상기 제2타겟에 의하여 증대된 회절빔으로부터 상이한차수의회절빔증대시키는것을특징으로 하는정렬마크. [청구항 81] 제80항에 있어서,제3검출패턴을 갖는 제3타겟을 더 포함하여 이루어지고,상기 제3타겟은 주기적인 제3격자패턴을 갖는 제3회절차수증대격자이며, 상기 제3타겟은 상기 제1 및 제2타겟에 의하여 증대된 상기 회절빔으로부터 상이한차수의회절빔증대시키는것을특징으로 하는정렬마크. [청구항 82] 제81항에 있어서,제4검출패턴을 갖는 제4타겟을 더 포함하여 이루어지고,상기 제4타겟은 상기 주기적인 제1, 제2 및 제3격자패턴으로부터 상이한 주기의 주기패턴을 갖는회절격자인것을특징으로 하는정렬마크. [청구항 97] 제96항에 있어서,상기 정렬마크검출시스템으로부터의 상기 데이터는 다중타겟정렬마크의스캔시지는것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 98] 제97항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크는, 상기 복수의 검출기채널의 대응하는 2개 이상의 검출기채널에 검출신호들을 제공하도록, 상기 정렬마크검출시스템에 의하여 별도로 검출가능한2개이상포함하는것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 99] 제98항에 있어서,상기 2개 이상의 타겟들은 각각 상이한 회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자들이고, 상기 대응하는 2개 이상의 검출기채널은회절차수채널인것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 100] 제98항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 2개 이상의 타겟 중 적어도 하나는, 상기 마이크로디바이스의 처리단계시에, 신호 특성을 실질적으로 예측가능한 방식으로 변화시키는 프로세스 타겟인 것특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 101] 제100항에 있어서,상기 프로세스타겟은 텅스텐으로 채워진 크로스 트렌치들의 하위구조체를 갖는회절격자인것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 102] 제98항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 2개 이상의 타겟 중 적어도 하나는, 그 위에 지향된 정렬 방사선에 대하여 불투명한 재료의 층 위에 형성된 회절격자이고, 상기 불투명한 재료의 층은 상기 회절격자의 유효 심도를 조정하는역할하는것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 103] 제97항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크는 반도체 웨이퍼의 스크라이브라인을 따라 형성된4개이상포함하는것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 104] 제96항에 있어서,상기 정렬마크검출시스템은 리소그래피 노광장치의 오프-액시스정렬시스템인것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 105] 제104항에 있어서,상기 데이터처리유닛은 또한 오프-라인 메트롤로지 툴로부터 데이터를 수신하도록 되어 있고, 상기 데이터처리유닛은 상기 정렬마크검출시스템 및 상기 오프-라인 메트롤로지 툴로부터 수신된 데이터에 기초하여 상기 업데이트된 처리 전략을 결정하며, 상기 업데이트된 처리 전략에 기초하여 상기 처리단계를 변경하도록상기신호출력하는것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 106] 제96항에 있어서,상기 복수의 검출기채널의 2개 이상의 채널은 상이한 파장에서의검출대응하는것을특징으로 하는자동공정제어시스템. [청구항 118] 제117항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1비제로회절차수채널이고, 상기 제2검출기채널은 제2비제로회절차수채널인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 119] 제118항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2신호에 대한 제1신호의 상대세기에 의존하는 인자로 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 제1 및 제2신호를 가중하여 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 120] 제119항에 있어서,상기 제2비제로회절차수채널에 대한 가중 인자는, 상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 세기가 소정의 임계치를 초과할 때,제로설정되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 121] 제117항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 정렬 그리드를 제1정밀도로 판정하는 것과 결합하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 122] 제121항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1정밀도보다 더욱 정밀한 제2정밀도로 상기 정렬 그리드를 판정하기 위하여, 제3 및 제4검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 123] 제117항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 제1 및 제2신호를 균등하게 가중하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 124] 제117항에 있어서,상기 위치판정유닛은, mcc, minirepro, 신호대잡음비, 신호형상, 신호포락선, 포커스, 경사, 차수채널위치오프셋, 파장채널위치오프셋, 세그먼트와 개략-미세위치편차로 이루어진 측정가능한 정량들의 세트로부터 선택된 하나 이상의 측정가능한 정량에 의존하는 인자로, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 제1 및 제2신호를 가중하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 정보를 처리하도록 구성되며,상기 파라미터 mcc는 상기 측정된 신호가 완벽한 정렬마크에 대해 예상된 신호와 얼마나 비슷한가를 나타내는 다중상관계수이고, minirepro는 정렬된 위치의 정확성을 나타내는 정렬측정부의 상이한 섹션 또는 부분의 정렬된 위치의 표준편차이며, 신호대잡음비는 측정된 신호의 스펙트럼에 걸쳐 잡음의 상대레벨로 나뉜 핏팅된 신호인 한편, 신호형상은 상기 스펙트럼에서의 약간의 이산 주파수의 상대레벨이고, 일반적으로 기저 주파수의 배수들에서, 신호포락선은 측정시의 신호세기의 분산이며, 포커스는 측정시의 웨이퍼 높이의 오프셋이고, 경사는 측정시의 웨이퍼 각도와 검출기 각도 사이의 각도이며, 차수채널위치오프셋은 한 파장의 여러 채널의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이고, 파장채널위치오프셋은 여러 파장채널의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이며, 세그먼트들간의 시프트는 다수 분절된 정렬마크의 여러 세그먼트의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이고, 개략-미세 위치편차는 개략 위상에서의 정렬마크 측정치들에 기초하여 그들의 예상된 위치에 대한 미세 위상에서의정렬마크들의위치간차이인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 125] 제117항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 결합된 정보를 이용하여 예측방법에 의하여 상기 정렬 그리드를 판정하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 126] 제125항에 있어서,상기 예측방법은 정해진 데이터 세트에 기초한정적예측방법인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 127] 제125항에 있어서,상기 예측방법은, 상기 정렬 그리드를 판정하는 동안에 수정될 수 있는초기데이터 세트기초로하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 128] 제126항에 있어서,데이터 세트는상기작업물상의상기정렬마크의위치의존성포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 129] 제117항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2작업물에서 판정된 정렬 그리드로부터의 정보를 포함하여 상기 정렬 그리드를 판정하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 130] 제117항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1파장채널이고, 상기 제2검출기채널은제2파장채널인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 131] 제117항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제1파장에서레이저제공조명방사선포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 132] 제125항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제2파장에서제2레이저제공조명방사선더포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 133] 제117항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 복수의 파장에서 조명방사선을 제공하도록 되어 있는광대역 방사원포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 134] 제117항에 있어서,상기 검출시스템은, 제1검출신호를 상기 제1검출기채널에 제공하도록 구성된 제1검출기와, 제2검출신호를 상기 제2검출기채널에 제공하도록 구성된제2검출기포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 135] 제117항에 있어서,상기 검출시스템은, 다중타겟정렬마크의 제1타겟과 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 136] 제135항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 제1타겟의일부분의위또는아래의구조체중하나이상포함하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 137] 제135항에 있어서,상기 검출시스템은, 상기 제1검출신호를 제공하도록 다중타겟정렬마크의 제1타겟을 검출하도록 구성되고, 상기 검출시스템은 상기 제2검출신호를 제공하도록 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 138] 제135항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 소정의 변화를 거치도록 구성되는 프로세스 타겟인 것특징으로 하는정렬시스템. [청구항 139] 제138항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은, 로버스트 백업 타겟을 상기 제1타겟에 제공하기 위하여, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 상기 제1타겟보다는 적은변화구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 140] 제135항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 파괴되도록 구성되는 희생 타겟인 것특징으로 하는정렬시스템. [청구항 141] 제135항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 상기 작업물의 재료의 제1층에 구성되고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은상기작업물의재료의제2층구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 142] 제135항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제1회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제2회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이며, 상기 제1회절차수는 상기 제2회절차수의 정수값과 다른정수값인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 143] 제117항에 있어서,상기 검출시스템은 제3검출채널을 더 포함하여 이루어지고, 상기 위치판정유닛은, 교정 및 능력검정 중 적어도 하나를 수행하면서, 상기 정렬 그리드를 판정하는 것과 결합하여 상기 제1, 제2 및 제3검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 145] 제144항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1비제로회절차수채널이고, 상기 제2검출기채널은 제2비제로회절차수채널인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 146] 제145항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2신호에 대한 제1신호의 상대세기에 의존하는 인자로 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 제1 및 제2신호를 가중하여 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 147] 제146항에 있어서,상기 제2비제로회절차수채널에 대한 가중 인자는, 상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 세기가 소정의 임계치를 초과할 때,제로설정되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 148] 제144항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 작업물용 정렬 그리드를 제1정밀도로 판정하는 것과 결합하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 149] 제148항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1정밀도보다 더욱 정밀한 제2정밀도로 상기 작업물용 상기 정렬 그리드를 판정하기 위하여, 제3 및 제4검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 150] 제144항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 제1 및 제2신호를 균등하게 가중하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 151] 제144항에 있어서,상기 위치판정유닛은, mcc, minirepro, 신호대잡음비, 신호형상, 신호포락선, 포커스, 경사, 차수채널위치오프셋, 파장채널위치오프셋, 세그먼트와 개략-미세위치편차로 이루어진 측정가능한 정량들의 세트로부터 선택된 하나 이상의 측정가능한 정량에 의존하는 인자로, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 제1 및 제2신호를 가중하여 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 정보를 처리하도록 구성되며,상기 파라미터 mcc는 상기 측정된 신호가 완벽한 정렬마크에 대해 예상된 신호와 얼마나 비슷한가를 나타내는 다중상관계수이고, minirepro는 정렬된 위치의 정확성을 나타내는 정렬측정부의 상이한 섹션 또는 부분의 정렬된 위치의 표준편차이며, 신호대잡음비는 측정된 신호의 스펙트럼에 걸쳐 잡음의 상대레벨로 나뉜 핏팅된 신호인 한편, 신호형상은 상기 스펙트럼에서의 약간의 이산 주파수의 상대레벨이고, 일반적으로 기저 주파수의 배수들에서, 신호포락선은 측정시의 신호세기의 분산이며, 포커스는 측정시의 웨이퍼 높이의 오프셋이고, 경사는 측정시의 웨이퍼 각도와 검출기 각도 사이의 각도이며, 차수채널위치오프셋은 한 파장의 여러 채널의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이고, 파장채널위치오프셋은 여러 파장채널의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이며, 세그먼트들간의 시프트는 다수 분절된 정렬마크의 여러 세그먼트의 정렬된 위치에서의 측정된 차이이고, 개략-미세 위치편차는 개략 위상에서의 정렬마크 측정치들에 기초하여 그들의 예상된 위치에 대한 미세 위상에서의정렬마크들의위치간차이인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 152] 제144항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제1 및 제2검출기채널로부터 상기 결합된 정보를 이용하여 예측방법에 의하여상기정렬마크의상기위치판정하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 153] 제152항에 있어서,상기 예측방법은 정해진 데이터 세트에 기초한정적예측방법인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 154] 제152항에 있어서,상기 예측방법은, 상기 작업물 상의 상기 정렬마크의 상기 위치를 판정하는 동안에 수정될 수 있는초기데이터 세트기초로하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 155] 제153항에 있어서,데이터 세트는상기작업물상의상기정렬마크의위치의존성포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 156] 제144항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2작업물에서 판정된 정렬 그리드로부터의 정보를 포함하여 상기 정렬 그리드를 판정하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 157] 제144항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1파장채널이고, 상기 제2검출기채널은제2파장채널인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 158] 제144항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제1파장에서레이저제공조명방사선포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 159] 제158항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제2파장에서제2레이저제공조명방사선더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 160] 제144항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 복수의 파장에서 조명방사선을 제공하도록 되어 있는광대역 방사원포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 161] 제144항에 있어서,상기 검출시스템은, 제1검출신호를 상기 제1검출기채널에 제공하도록 구성된 제1검출기와, 제2검출신호를 상기 제2검출기채널에 제공하도록 구성된제2검출기포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 162] 제144항에 있어서,상기 검출시스템은, 다중타겟정렬마크의 제1타겟과 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 163] 제162항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 제1타겟의일부분의위또는아래의구조체중적어도하나포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 164] 제162항에 있어서,상기 검출시스템은, 상기 제1검출신호를 제공하도록 다중타겟정렬마크의 제1타겟을 검출하도록 구성되고, 상기 검출시스템은 상기 제2검출신호를 제공하도록 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 165] 제162항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 소정의 변화를 거치도록 구성되는 프로세스 타겟인 것특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 166] 제165항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은, 로버스트 백업 타겟을 상기 제1타겟에 제공하기 위하여, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 상기 제1타겟보다는 적은변화구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 167] 제162항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 파괴되도록 구성되는 희생 타겟인 것특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 168] 제164항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 상기 작업물의 재료의 제1층에 구성되고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은상기작업물의재료의제2층구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 169] 제164항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제1회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제2회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이며, 상기 제1회절차수는 상기 제2회절차수의 정수값과 다른정수값인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 170] 제144항에 있어서,상기 검출시스템은 제3검출채널을 더 포함하여 이루어지고, 상기 위치판정유닛은, 교정 및 능력검정 중 적어도 하나를 수행하면서, 상기 작업물용 상기 정렬 그리드를 판정하는 것과 결합하여 상기 제1, 제2 및 제3검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 185] 제184항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1비제로회절차수채널이고, 상기 제2검출기채널은 제2비제로회절차수채널인것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 186] 제185항에 있어서,상기 처리유닛은, 제2신호에 대한 제1신호의 상대세기에 의존하는 인자로 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 제1 및 제2신호를 가중하여 상기 제1 및 제2비제로회절차수채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 187] 제186항에 있어서,상기 제2비제로회절차수채널에 대한 가중 인자는, 상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 세기가 소정의 임계치를 초과할 때,제로설정되는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 188] 제184항에 있어서,상기 제1검출기채널은 제1파장채널이고, 상기 제2검출기채널은제2파장채널인것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 189] 제184항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제1파장에서레이저제공조명방사선포함하는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 190] 제189항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 제2파장에서제2레이저제공조명방사선더포함하는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 191] 제184항에 있어서,상기 정렬 방사선의 방사원은 복수의 파장에서 조명방사선을 제공하도록 되어 있는광대역 방사원포함하는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 192] 제184항에 있어서,상기 검출시스템은, 제1검출신호를 상기 제1검출기채널에 제공하도록 구성된 제1검출기와, 제2검출신호를 상기 제2검출기채널에 제공하도록 구성된제2검출기포함하는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 193] 제184항에 있어서,상기 검출시스템은, 다중타겟정렬마크의 제1타겟 및 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 194] 제193항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 제1타겟의일부분의위또는아래의구조체중적어도하나포함하는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 195] 제193항에 있어서,상기 검출시스템은, 상기 제1검출신호를 제공하도록 다중타겟정렬마크의 제1타겟을 검출하도록 구성되고, 상기 검출시스템은 상기 제2검출신호를 제공하도록 상기 다중타겟정렬마크의 제2타겟을 검출하도록구성되는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 196] 제193항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 소정의 변화를 거치도록 구성되는 프로세스 타겟인 것특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 197] 제196항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은, 로버스트 백업 타겟을 상기 제1타겟에 제공하기 위하여, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 상기 제1타겟보다는 적은변화구성되는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 198] 제193항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은, 상기 작업물의 상기 제조공정 동안에 파괴되도록 구성되는 희생 타겟인 것특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 199] 제193항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 상기 작업물의 재료의 제1층에 구성되고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은상기작업물의재료의제2층구성되는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 200] 제193항에 있어서,상기 다중타겟정렬마크의 상기 제1타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제1회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이고, 상기 다중타겟정렬마크의 상기 제2타겟은 순수하게 주기적인 격자에 비해, 그로부터 회절된 방사선의 제2회절차수를 증대시키는 회절차수증대격자이며, 상기 제1회절차수는 상기 제2회절차수의 정수값과 다른정수값인것을특징으로 하는메트롤로지 시스템. [청구항 201] 제184항에 있어서,상기 검출시스템은 제3검출채널을 더 포함하여 이루어지고, 상기 처리유닛은, 교정 및 능력검정 중 적어도 하나를 수행하면서, 상기 포커스, 에너지, 도즈, 선폭, 콘택홀의 폭 또는 임계치수 중 적어도 하나를 판정하는 것과 결합하여 상기 제1, 제2 및 제3검출기채널로부터 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는메트롤로지 시스템.