2개이상의 파장을 사용하는 리소그래피시스템용정렬시스템 및 정렬방법 document_id 1020030065299

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 제2신호에 대한 상기 제1신호의 상대적인 강도에 따라 달라지는 인자들과 함께 상기 제1 및 제2파장채널로부터 상기 제1 및 제2신호를 가중시킴으로써, 상기 제1 및 제2파장채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 강도가 사전설정된 임계를 초과하는 경우, 상기 제2파장채널에 대한 가중인자설정되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 정렬방사선원은 상기 제1파장에서 방사선을 발생시키는 제1레이저 및 상기 제2파장에서 방사선을 발생시키는제2레이저포함하여이루어지는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호의 신호강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장채널로 가중인자들을 할당하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 검출시스템의 상기 제1파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고,상기 검출시스템의 상기 제2파장채널은 상기 제2파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하며,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호에 기초하여 제1정밀도로상기정렬마크의상기위치판정하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 검출시스템은 상기 제1파장에서의 제3신호채널 및 상기 제1파장에서의 2차 회절차수 서브빔을 더욱 포함하여 이루어지고, 상기 제2파장에서의 제4신호채널 및 상기 제2파장에서의 2차 회절차수 서브빔을 더욱 포함하여 이루어지며, 상기 위치판정유닛은 상기 제1정밀도보다 더욱 정밀한 제2정밀도로 상기 제1 및 제2파장신호에 기초하여상기정렬마크의상기위치판정하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 검출시스템의 상기 제1파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고, 상기 제1파장에서의 상기 회절차수 서브빔의 값은 거쳐간 기판을 처리하는 것을 기초로 하여 동적으로 선택되고, 상기 검출시스템의 상기 제2파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고, 상기 제2파장에서의 상기 회절차수 서브빔의 값은 거쳐간 기판을 처리하는 것을 기초로 하여동적선택되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 9] 제2항에 있어서,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호로부터 정보를 조합하도록 선택가능한 파라미터를 더욱 할당함으로써 상기 제1 및 제2파장채널로부터상기정보처리하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 제1파장신호가 신뢰성의 선택가능한 수준을 만족시키지 않는 경우, 상기 선택가능한 파라미터는상기제1파장신호의정보를상기위치판정제거하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 11] 제9항에 있어서,상기 제1파장신호가 정밀도의 선택가능한 수준을 만족시키지 않는 경우, 상기 선택가능한 파라미터는상기제1파장신호의정보를상기위치판정제거하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 12] 제9항에 있어서,상기 선택가능한 파라미터는 가중치의 상기 할당에 앞서판정되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 13] 제9항에 있어서,상기 선택가능한 파라미터는가중치의상기할당이후판정되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 14] 제2항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호로 할당되는 상기 가중인자는 선택가능한 임계치에 따라 더욱 달라지며, 상기 가중인자는 0에서1이하의내되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호로 할당되는 상기 가중인자는 상기 제1 및 제2파장의 각각에서 상기 기판 또는 상기 기판상의 물질의 반사율에 따라더욱달라지는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 16] 제14항에 있어서,상기 선택가능한 임계값은 신호 강도의 선택된 값에 대하여상대임계인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 17] 제14항에 있어서,상기 선택가능한 임계값은 절대 임계인 것을특징으로하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 18] 제16항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 선택가능한 절대임계치에 따라더욱달라지는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 19] 제2항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 상기 제1파장신호가상기제2파장신호할당되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기 제1파장이 상기 제2파장신호보다 우선하도록 상기 가중인자가 사전에 할당되었을 경우, 상기 제2파장신호가 상기 제1파장신호보다 우세한 상기 제2신호에 후속하는 상기 제1파장신호보다 우선하여 이력현상(hysteresis effect)을 초래하도록 상기 제1 및 제2파장신호에 대한 상기 가중인자재할당되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 21] 제19항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 상기 제2파장신호가 사전설정된 기준을 기초로 상기 제1파장신호보다 우세하도록재할당되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 22] 제1항에 있어서,상기 위치판정유닛은 mcc, minirepro, 신호 대 잡음 비, 신호형상, 신호포락선(signal envelop), 포커스, 경사, 차수 채널 위치 오프셋, 파장 채널 위치 오프셋, 세그먼트들간의 변위, 및 개략-미세 위치 편차로 구성되는 측정가능한 정량의 세트로부터 선택된 하나 이상의 측정가능한 정량에 따라 좌우되는 인자로 상기 제1 및 제2파장채널로부터 제1 및 제2신호를 가중시킴으로써, 상기 제1 및 제2파장채널로부터의 상기 정보를 처리하도록 구성되며,여기서, 상기 파라미터 mcc는 측정된 신호가 완벽한 정렬마크에 대하여 예상되는 신호를 얼마나 양호하게 닮는 지를 나타내는 다중 상관계수이고, minorepro는 정렬된 위치의 정확성을 나타내는, 정렬측정의 상이한 섹션 또는 부분의 정렬된 위치의 표준 편차이며, 신호 대 잡음 비는 측정된 신호의 스펙트럼에 걸친 잡음의 상대적일 레벨로 나눈 적합한(fitted) 신호인 반면, 신호형상은 이 스펙트럼에서 수개의 이산 주파수의 상대적인 레벨, 즉 일반적으로는 기본주파수의 배수이고, 신호포락선은 측정시의 신호강도의 분산이며, 포커스는 측정시의 웨이퍼 높이의 오프셋이고, 경사는 측정시의 웨이퍼각도와 검출기각도사이의 각도이며, 차수 채널 위치오프셋은 하나의 파장의 다양한 채널들의 정렬된 위치에서 측정된 차이이고, 파장 채널 위치 오프셋은 다양한 파장 채널의 정렬된 위치에서 측정된 차이이며, 세그먼트들 간의 변위는 다수로 세그먼트된 정렬마크의 다양한 세그먼트의 정렬된 위치에서 측정된 차이이고, 개략-미세 위치 편차는 개략적 상에서의 정렬마크측정을 기초로 그것들의 예상된 위치에 대한 미세 상에서의정렬마크의위치간차이인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 23] 제2항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 검출되는 회절 차수에 따라선택되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 25] 제24항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 상대적인 강도에 따라 달라지는 인자들로 상기 제1 및 제2파장채널로부터의 상기 제1 및 제2신호를 가중시킴으로써 상기 제1 및 제2파장채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 26] 제25항에 있어서,상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 강도가 사전설정된 임계를 초과하는 경우에, 상기 제2채널에 대한 가중인자설정되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 27] 제24항에 있어서,상기 정렬방사선원은 상기 제1파장에서 방사선을 발생시키는 제1레이저 및 상기 제2파장에서 방사선을 발생시키는제2레이저포함하여이루어지는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 28] 제24항에 있어서,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호의 신호강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장채널로 가중인자들을 할당하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 29] 제24항에 있어서,상기 검출시스템의 상기 제1파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고,상기 검출시스템의 상기 제2파장채널은 상기 제2파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하며,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호에 기초하여 제1정밀도로상기정렬마크의상기위치판정하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 30] 제24항에 있어서,상기 검출시스템은 상기 제1파장에서의 제3신호채널 및 상기 제1파장에서의 2차 회절차수 서브빔을 더욱 포함하여 이루어지고, 상기 제2파장에서의 제4신호채널 및 상기 제2파장에서의 2차 회절차수 서브빔을 더욱 포함하여 이루어지며, 상기 위치판정유닛은 상기 제1정밀도보다 더욱 정밀한 제2정밀도로 상기 제1 및 제2파장신호에 기초하여상기정렬마크의상기위치판정하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 31] 제24항에 있어서,상기 검출시스템의 상기 제1파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고, 상기 제1파장에서의 상기 회절차수 서브빔의 값은 거쳐간 상기 기판을 처리하는 것을 기초로 하여 동적으로 선택되고,상기 검출시스템의 상기 제2파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고, 상기 제2파장에서의 상기 회절차수 서브빔의 값은 거쳐간 기판을 처리하는 것을 기초로 하여동적선택되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 32] 제25항에 있어서,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호로부터 정보를 조합하도록 선택가능한 파라미터를 더욱 할당함으로써 상기 제1 및 제2파장채널로부터상기정보처리하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 33] 제32항에 있어서,상기 제1파장신호가 신뢰성의 선택가능한 수준을 만족시키지 않는 경우, 상기 선택가능한 파라미터는 상기 위치판정으로부터상기제1파장신호의정보제거하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 34] 제32항에 있어서,상기 제1파장신호가 정밀도의 선택가능한 수준을 만족시키지 않는 경우, 상기 선택가능한 파라미터는 상기 위치판정으로부터상기제1파장신호의정보제거하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 35] 제32항에 있어서,상기 선택가능한 파라미터는 가중치의 상기 할당에 앞서판정되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 36] 제32항에 있어서,상기 선택가능한 파라미터는가중치의상기할당이후판정되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 37] 제25항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호로 할당되는 상기 가중인자는 선택가능한 임계치에 따라 더욱 달라지며, 상기 가중인자는 0에서1이하의내되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 38] 제37항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호로 할당되는 상기 가중인자는 상기 제1 및 제2파장의 각각에서 상기 기판 또는 상기 기판상의 물질의 반사율에 따라더욱달라지는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 39] 제37항에 있어서,상기 선택가능한 임계값은 신호 강도의 선택된 값에 대하여상대임계인것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 40] 제37항에 있어서,상기 선택가능한 임계값은 절대 임계인 것을특징으로하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 41] 제39항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 선택가능한 절대임계치에 따라더욱달라지는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 42] 제25항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 상기 제1파장신호가상기제2파장신호할당되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 43] 제42항에 있어서,상기 제1파장이 상기 제2파장신호보다 우선하도록 상기 가중인자가 사전에 할당되었을 경우, 상기 제2파장신호가 상기 제1파장신호보다 우세한 상기 제2신호에 후속하는 상기 제1파장신호보다 우선하여 이력현상(hysteresis effect)을 초래하도록 상기 제1 및 제2파장신호에 대한 상기 가중인자재할당되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 44] 제42항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 상기 제2파장신호가 사전설정된 기준을 기초로상기제1파장신호재할당되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 45] 제24항에 있어서,상기 위치판정유닛은 mcc, minirepro, 신호 대 잡음 비, 신호형상, 신호포락선, 포커스, 경사, 차수 채널 위치 오프셋, 파장 채널 위치 오프셋, 세그먼트들간의 변위, 및 개략-미세 위치 편차로 구성되는 측정가능한 정량의 세트로부터 선택된 하나 이상의 측정가능한 정량에 따라 좌우되는 인자로 상기 제1 및 제2파장채널로부터 제1 및 제2신호를 가중시킴으로써, 상기 제1 및 제2파장채널로부터의 상기 정보를 처리하도록 구성되며,여기서, 상기 파라미터 mcc는 측정된 신호가 완벽한 정렬마크에 대하여 예상되는 신호를 얼마나 양호하게 닮는 지를 나타내는 다중 상관계수이고, minorepro는 정렬된 위치의 정확성을 나타내는, 정렬측정의 상이한 섹션 또는 부분의 정렬된 위치의 표준 편차이며, 신호 대 잡음 비는 측정된 신호의 스펙트럼에 걸친 잡음의 상대적일 레벨로 나눈 적합한(fitted) 신호인 반면, 신호형상은 이 스펙트럼에서 수개의 이산 주파수의 상대적인 레벨, 즉 일반적으로는 기본주파수의 배수이고, 신호포락선은 측정시의 신호강도의 분산이며, 포커스는 측정시의 웨이퍼 높이의 오프셋이고, 경사는 측정시의 웨이퍼각도와 검출기각도사이의 각도이며, 차수 채널 위치오프셋은 하나의 파장의 다양한 채널들의 정렬된 위치에서 측정된 차이이고, 파장 채널 위치 오프셋은 다양한 파장 채널의 정렬된 위치에서 측정된 차이이며, 세그먼트들 간의 변위는 다수로 세그먼트된 정렬마크의 다양한 세그먼트의 정렬된 위치에서 측정된 차이이고, 개략-미세 위치 편차는 개략적 상에서의 정렬마크측정을 기초로 그것들의 예상된 위치에 대한 미세 상에서의정렬마크의위치간차이인것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 46] 제25항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 검출되는 회절차수에 따라선택되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 92] 제91항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 상대적인 강도에 따라 달라지는 인자들로 상기 제1 및 제2파장채널로부터 상기 제1 및 제2신호를 가중시킴으로써, 상기 제1 및 제2파장채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 93] 제92항에 있어서,상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 강도가 사전설정된 임계를 초과하는 경우, 상기 제2파장채널에 대한 가중인자설정되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 94] 제91항에 있어서,상기 정렬방사선원은 상기 제1파장에서 방사선을 발생시키는 제1레이저 및 상기 제2파장에서 방사선을 발생시키는제2레이저포함하여이루어지는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 95] 제91항에 있어서,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호의 신호강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장채널로 가중인자들을 할당하도록구성되는것을특징으로 하는정렬시템. [청구항 96] 제91항에 있어서,상기 검출시스템의 상기 제1파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고,상기 검출시스템의 상기 제2파장채널은 상기 제2파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하며,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호에 기초하여 제1정밀도로상기정렬마크의상기정렬격자판정하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 97] 제91항에 있어서,상기 검출시스템은 상기 제1파장에서의 제3신호채널 및 상기 제1파장에서의 2차 회절차수 서브빔을 더욱 포함하여 이루어지고, 상기 제2파장에서의 제4신호채널 및 상기 제2파장에서의 2차 회절차수 서브빔을 더욱 포함하여 이루어지며, 상기 위치판정유닛은 상기 제1정밀도보다 더욱 정밀한 제2정밀도로 상기 제1 및 제2파장신호에 기초하여상기정렬격자판정하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 98] 제91항에 있어서,상기 검출시스템의 상기 제1파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고, 상기 제1파장에서의 상기 회절차수 서브빔의 값은 거쳐간 상기 기판을 처리하는 것을 기초로 하여 동적으로 선택되고,상기 검출시스템의 상기 제2파장채널은 상기 제2파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고, 상기 제2파장에서의 상기 회절차수 서브빔의 값은 거쳐간 상기 기판을 처리하는 것을 기초로 하여동적선택되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 99] 제92항에 있어서,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호로부터 정보를 조합하도록 선택가능한 파라미터를 더욱 할당함으로써 상기 제1 및 제2파장채널로부터상기정보처리하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 100] 제99항에 있어서,상기 제1파장신호가 신뢰성의 선택가능한 수준을 만족시키지 않는 경우, 상기 선택가능한 파라미터는 상기 위치판정으로부터상기제1파장신호의정보제거하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 101] 제99항에 있어서,상기 제1파장신호가 정밀도의 선택가능한 수준을 만족시키지 않는 경우, 상기 선택가능한 파라미터는 상기 위치판정으로부터상기제1파장신호의정보제거하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 102] 제99항에 있어서,상기 선택가능한 파라미터는 가중치의 상기 할당에 앞서판정되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 103] 제99항에 있어서,상기 선택가능한 파라미터는가중치의상기할당이후판정되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 104] 제92항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호로 할당되는 상기 가중인자는 선택가능한 임계치에 따라 더욱 달라지며, 상기 가중인자는 0에서1이하되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 105] 제104항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호로 할당되는 상기 가중인자는 상기 제1 및 제2파장의 각각에서 상기 기판 또는 상기 기판상의 물질의 반사율에 따라더욱달라지는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 106] 제104항에 있어서,상기 선택가능한 임계값은 신호 강도의 선택된 값에 대하여상대임계인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 107] 제104항에 있어서,상기 선택가능한 임계값은 절대 임계인 것을특징으로하는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 108] 제106항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 선택가능한 절대임계치에 따라더욱달라지는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 109] 제92항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 상기 제1파장신호가상기제2파장신호할당되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 110] 제109항에 있어서,상기 제1파장이 상기 제2파장신호보다 우선하도록 상기 가중인자가 사전에 할당되었을 경우, 상기 제2파장신호가 상기 제1파장신호보다 우세한 상기 제2신호에 후속하는 상기 제1파장신호보다 우선하여 이력현상을 초래하도록 상기 제1 및 제2파장신호에 대한 상기 가중인자재할당되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 111] 제109항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 상기 제2파장신호가 사전설정된 기준을 기초로 상기 제1파장신호보다 우세하도록재할당되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 112] 제91항에 있어서,상기 위치판정유닛은 mcc, minirepro, 신호 대 잡음 비, 신호형상, 신호포락선, 포커스, 경사, 차수 채널 위치 오프셋, 파장 채널 위치 오프셋, 세그먼트들간의 변위, 및 개략-미세 위치 편차로 구성되는 측정가능한 정량의 세트로부터 선택된 하나 이상의 측정가능한 정량에 따라 좌우되는 인자로 상기 제1 및 제2파장채널로부터 제1 및 제2신호를 가중시킴으로써, 상기 제1 및 제2파장채널로부터의 상기 정보를 처리하도록 구성되며,여기서, 상기 파라미터 mcc는 측정된 신호가 완벽한 정렬마크에 대하여 예상되는 신호를 얼마나 양호하게 닮는 지를 나타내는 다중 상관계수이고, minorepro는 정렬된 위치의 정확성을 나타내는, 정렬측정의 상이한 섹션 또는 부분의 정렬된 위치의 표준 편차이며, 신호 대 잡음 비는 측정된 신호의 스펙트럼에 걸친 잡음의 상대적일 레벨로 나눈 적합한 신호인 반면, 신호형상은 이 스펙트럼에서 수개의 이산 주파수의 상대적인 레벨, 즉 일반적으로는 기본주파수의 배수이고, 신호포락선은 측정시의 신호강도의 분산이며, 포커스는 측정시의 웨이퍼 높이의 오프셋이고, 경사는 측정시의 웨이퍼각도와 검출기각도사이의 각도이며, 차수 채널 위치오프셋은 하나의 파장의 다양한 채널들의 정렬된 위치에서 측정된 차이이고, 파장 채널 위치 오프셋은 다양한 파장 채널의 정렬된 위치에서 측정된 차이이며, 세그먼트들 간의 변위는 다수로 세그먼트된 정렬마크의 다양한 세그먼트의 정렬된 위치에서 측정된 차이이고, 개략-미세 위치 편차는 개략적 상에서의 정렬마크측정을 기초로 그것들의 예상된 위치에 대한 미세 상에서의정렬마크의위치간차이인것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 113] 제92항에 있어서,상기제1 및 제2신호에 할당되는 상기 가중인자는 검출되는 소정 회절차수에 따라선택되는것을특징으로 하는정렬시스템. [청구항 115] 제114항에 있어서,상기 위치판정유닛은, 상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 상대적인 강도에 따라 달라지는 인자들로 상기 제1 및 제2파장채널로부터 상기 제1 및 제2신호를 가중시킴으로써, 상기 제1 및 제2파장채널로부터 상기 정보를 처리하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 116] 제115항에 있어서,상기 제2신호에 대한 상기 제1신호의 강도가 사전설정된 임계를 초과하는 경우, 상기 제2파장채널에 대한 가중인자설정되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 117] 제114항에 있어서,상기 정렬방사선원은 상기 제1파장에서 방사선을 발생시키는 제1레이저 및 상기 제2파장에서 방사선을 발생시키는제2레이저포함하여이루어지는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 118] 제114항에 있어서,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호의 신호강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장채널로 가중인자들을 할당하도록구성되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 119] 제114항에 있어서,상기 검출시스템의 상기 제1파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고,상기 검출시스템의 상기 제2파장채널은 상기 제2파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하며,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호에 기초하여 제1정밀도로상기정렬마크의상기정렬격자판정하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 120] 제114항에 있어서,상기 검출시스템은 상기 제1파장에서의 제3신호채널 및 상기 제1파장에서의 2차 회절차수 서브빔을 더욱 포함하여 이루어지고, 상기 제2파장에서의 제4신호채널 및 상기 제2파장에서의 2차 회절차수 서브빔을 더욱 포함하여 이루어지며, 상기 위치판정유닛은 상기 제1정밀도보다 더욱 정밀한 제2정밀도로 상기 제1 및 제2파장신호에 기초하여상기정렬격자판정하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 121] 제114항에 있어서,상기 검출시스템의 상기 제1파장채널은 상기 제1파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고, 상기 제1파장에서의 상기 회절차수 서브빔의 값은 거쳐간 상기 기판을 처리하는 것을 기초로 하여 동적으로 선택되고,상기 검출시스템의 상기 제2파장채널은 상기 제2파장에서의 1차 회절차수 서브빔에 대응하고, 상기 제2파장에서의 상기 회절차수 서브빔의 값은 거쳐간 상기 기판을 처리하는 것을 기초로 하여동적선택되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 122] 제115항에 있어서,상기 위치판정유닛은 상기 제1 및 제2파장신호로부터 정보를 조합하도록 선택가능한 파라미터를 더욱 할당함으로써 상기 제1 및 제2파장채널로부터상기정보처리하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 123] 제122항에 있어서,상기 제1파장신호가 신뢰성의 선택가능한 수준을 만족시키지 않는 경우, 상기 선택가능한 파라미터는 상기 위치판정으로부터상기제1파장신호의정보제거하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 124] 제122항에 있어서,상기 제1파장신호가 정밀도의 선택가능한 수준을 만족시키지 않는 경우, 상기 선택가능한 파라미터는 상기 위치판정으로부터상기제1파장신호의정보제거하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 125] 제122항에 있어서,상기 선택가능한 파라미터는 가중치의 상기 할당에 앞서판정되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 126] 제122항에 있어서,상기 선택가능한 파라미터는가중치의상기할당이후판정되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 127] 제115항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호로 할당되는 상기 가중인자는 선택가능한 임계치에 따라 더욱 달라지며, 상기 가중인자는 0에서1이하의내되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 128] 제127항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호로 할당되는 상기 가중인자는 상기 제1 및 제2파장의 각각에서 상기 기판 또는 상기 기판상의 물질의 반사율에 따라더욱달라지는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 129] 제127항에 있어서,상기 선택가능한 임계값은 신호 강도의 선택된 값에 대하여상대임계인것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 130] 제127항에 있어서,상기 선택가능한 임계값은 절대 임계인 것을특징으로하는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 131] 제129항에 있어서,상기제1 및 제2신호 강도에 따라 달라지는 상기 제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 선택가능한 절대임계치에 따라더욱달라지는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 132] 제115항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 상기 제1파장신호가상기제2파장신호할당되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 133] 제132항에 있어서,상기 제1파장이 상기 제2파장신호보다 우선하도록 상기 가중인자가 사전에 할당되었을 경우, 상기 제2파장신호가 상기 제1파장신호보다 우세한 상기 제2신호에 후속하는 상기 제1파장신호보다 우선하여 이력현상을 초래하도록 상기 제1 및 제2파장신호에 대한 상기 가중인자재할당되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 134] 제132항에 있어서,상기제1 및 제2파장신호에 상기 가중인자를 할당하는 단계는 상기 제2파장신호가 사전설정된 기준을 기초로 상기 제1파장신호보다 우세하도록재할당되는것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 135] 제114항에 있어서,상기 위치판정유닛은 mcc, minirepro, 신호 대 잡음 비, 신호형상, 신호포락선, 포커스, 경사, 차수 채널 위치 오프셋, 파장 채널 위치 오프셋, 세그먼트들간의 변위, 및 개략-미세 위치 편차로 구성되는 측정가능한 정량의 세트로부터 선택된 하나 이상의 측정가능한 정량에 따라 좌우되는 상기 제1 및 제2파장채널로 가중인자를 할당하도록 구성되며,여기서, 상기 파라미터 mcc는 측정된 신호가 완벽한 정렬마크에 대하여 예상되는 신호를 얼마나 양호하게 닮는 지를 나타내는 다중 상관계수이고, minorepro는 정렬된 위치의 정확성을 나타내는, 정렬측정의 상이한 섹션 또는 부분의 정렬된 위치의 표준 편차이며, 신호 대 잡음 비는 측정된 신호의 스펙트럼에 걸친 잡음의 상대적일 레벨로 나눈 적합한 신호인 반면, 신호형상은 이 스펙트럼에서 수개의 이산 주파수의 상대적인 레벨, 즉 일반적으로는 기본주파수의 배수이고, 신호포락선은 측정시의 신호강도의 분산이며, 포커스는 측정시의 웨이퍼 높이의 오프셋이고, 경사는 측정시의 웨이퍼각도와 검출기각도사이의 각도이며, 차수 채널 위치오프셋은 하나의 파장의 다양한 채널들의 정렬된 위치에서 측정된 차이이고, 파장 채널 위치 오프셋은 다양한 파장 채널의 정렬된 위치에서 측정된 차이이며, 세그먼트들 간의 변위는 다수로 세그먼트된 정렬마크의 다양한 세그먼트의 정렬된 위치에서 측정된 차이이고, 개략-미세 위치 편차는 개략적 상에서의 정렬마크측정을 기초로 그것들의 예상된 위치에 대한 미세 상에서의정렬마크의위치간차이인것을특징으로 하는리소그래피장치. [청구항 136] 제115항에 있어서,상기제1 및 제2신호에 할당되는 상기 가중인자는 검출되는 소정 회절차수에 따라선택되는것을특징으로 하는리소그래피장치.