평면 조정 기구를 갖는 프로우브 콘택트 시스템 document_id 1020037002345

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 갭 센서는 상기 콘택트 기판의 소정 위치에서 상기 콘택트 기판과 타겟 기판 사이의 갭을 측정하고, 상기 타겟 기판은 평탄 조정을 위해 제공되는피시험반도체 웨이퍼및기준플레이트포함하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 프로우브 카드와 프로우브 카드 링 사이의 갭이 조정되도록 상기 접속 부재의 회전을 조정하는 회전 조정 장치를 더 포함함으로써, 상기 콘택터의 선단부와 콘택트 타겟 사이의 거리가 서로에 대해 균일하게조정하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 도전 엘라스토머는 상기 도전 필라멘트에 의해상기콘택트기판과프로우브카드사이의전기적접속형성하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 프로우브 카드와 프로우브 카드 링을 접속하기 위한 상기 접속 부재는볼트와너트구성되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 프로우브 카드와 프로우브 카드 링을 접속하기 위한 상기 접속 부재는차동 나사구성되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 7] 제2항에 있어서,상기 갭 센서는 갭 센서와 상기 갭 센서에 대향되는 전극 사이의 캐패시턴스를 계측함으로써 상기 콘택트 기판과 타겟기판사이의갭검출하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 8] 제2항에 있어서,상기 갭 센서의 일부는 상기 타겟기판의상부 표면또는상기콘택트기판의바닥표면제공되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 9] 제2항에 있어서,상기 기준 플레이트는 상기 갭 센서에 대향하는 위치에 전극을 가지는세라믹스기판또는알루미나기판인것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 10] 제2항에 있어서,상기 기준 플레이트는 모든 콘택터의 선단부가 기준 플레이트의 표면과 동일한 압력으로 동시에 접촉하도록 콘택트 기판 상에서 복수의 콘택터를 조정하는금속플레이트인것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 프로우브 콘택트 시스템 상의 접속 부재의 3점의 위치는각각정삼각형의정점대응하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 12] 제3항에 있어서,상기 프로우브 카드와 프로우브 카드 링을 접속하는 상기 접속 부재는 볼트와 너트에 의해 구성되어 있고, 상기 너트는 상기 프로우브 카드의 표면에 회전 가능하게 지지되고, 상기 너트와 결합하기 위한 바닥부 개구를 갖는 상기 회전 조정 장치는 복수의 위치에서의 콘택트 기판과 타겟 기판 사이의 갭이 서로 균일해지도록 너트를 회전시키기 위해프로우브카드표면상위치되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 회전 조정 장치는 상부 노브, 하부 노브 및 노브 베이스로 형성되고, 상기 상부 노브와 하부 노브는 서로 기계적으로 접속되어 있고, 상기 하부 노브와 노브 베이스는 서로 회전 가능하게 부착되어 있고, 상기 상부 노브 베이스는 상기 프로우브 카드에 고정적으로 결합되고 바닥부 개구를 가진 하방 연장부를 가지는 상기 상부 노브는 복수의 위치 각각에 있어서 갭을 조정하도록너트회전시키는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 회전 조정 장치의 하부 노브에는 스프링에 의해 생성되는 탄성에 의해 플랜저의 하부 선단부가 하부 노브의 바닥면으로부터 돌출하는 방식으로 플랜저 및 스프링을 탑재하는 복수의 보유 지지 구멍이 제공되고, 상기 회전 조정 장치의 상기 노브 베이스에는 복수의 반경 홈이 제공되어 상기 상부 및 하부 노브가 회전되는 경우 상기 플랜저의 하부 선단부가 상기 홈과 결합하고, 상기 보유 지지 구멍의 피치와 상기 반경 홈의 피치가 서로 다른 것특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 회전 조정 장치 내의 플랜저는 저마찰플라스틱또는윤활플라스틱제조되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 16] 제4항에 있어서,상기 콘택트 기판의 외주부에 제공되는 상기 콘택트 기판을 지지하기 위한 서포트 프레임을 더 포함하고, 상기 고정 수단은상기프로우브카드와서포트프레임사이연장되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 17] 제4항에 있어서,상기 도전 엘라스토머의 탄성 시트는 실리콘 고무 시트이고, 상기 도전 필라멘트는 상기 프로우브 콘택트 시스템의 수직 방향으로 이어지는 금속 필라멘트로서 상기 수직 방향으로만통신형성하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 19] 제18항에 있어서,상기 갭 센서는 상기 콘택트 기판의 소정 위치에서 상기 콘택트 기판과 타겟 기판 사이의 갭을 측정하고, 상기 타겟 기판은 평탄 조정을 위해 제공되는피시험반도체 웨이퍼및기준플레이트포함하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 20] 제18항에 있어서,상기 중간 링과 프로우브 카드 링 사이의 갭이 조정되도록 상기 접속 부재의 회전을 조정하는 회전 조정 장치를 더 포함함으로써, 상기 콘택터의 선단부와 콘택트 타겟 사이의 거리가 서로에 대해 균일하게조정하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 21] 제18항에 있어서,상기 도전 엘라스토머는 상기 도전 필라멘트에 의해상기콘택트기판과프로우브카드사이의전기적접속형성하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 22] 제19항에 있어서,상기 갭 센서는 갭 센서와 상기 갭 센서에 대향되는 전극 사이의 캐패시턴스를 계측함으로써 상기 콘택트 기판과 타겟기판사이의갭검출하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 23] 제19항에 있어서,상기 갭 센서의 일부는 상기 타겟기판의상부 표면또는상기콘택트기판의바닥표면제공되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 24] 제19항에 있어서,상기 기준 플레이트는 상기 갭 센서에 대향하는 위치에 전극을 가지는세라믹스기판또는알루미나기판인것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 25] 제18항에 있어서,상기 중간 링과 프로우브 카드 링을 접속하는 상기 접속 부재는 볼트와 너트에 의해 구성되어 있고, 상기 너트는 상기 중간 링의 표면에 회전 가능하게 지지되고, 상기 너트와 결합하기 위한 바닥부 개구를 갖는 상기 회전 조정 장치는 3점 이상의 위치에서의 콘택트 기판과 타겟 기판 사이의 갭이 서로 균일해지도록 너트를 회전시키기 위해프로우브카드표면상위치되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 26] 제21항에 있어서,상기 콘택트 기판의 외주부에 제공되는 상기 콘택트 기판을 지지하기 위한 서포트 프레임을 더 포함하고, 상기 고정 수단는상기프로우브카드와서포트프레임사이연장되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 28] 제27항에 있어서,상기 갭 센서는 갭 센서와 상기 갭 센서에 대향되는 전극 사이의 캐패시턴스를 계측함으로써 상기 콘택트 기판과 타겟기판사이의갭검출하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 29] 제27항에 있어서,상기 갭 센서는 상기 타겟기판의상부 표면또는상기콘택트기판의바닥표면제공되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 31] 제30항에 있어서,상기 갭 센서는 상기 콘택트 기판의 소정 위치에서 상기 콘택트 기판과 타겟기판사이의거리측정하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 32] 제30항에 있어서,상기 콘택트 기판과 프로우브 카드 사이에 제공되는 상기 도전 엘라스토머는 상기 콘택트 기판과 프로우브 카드 사이에 전기적 접속을 형성하는탄성 시트인것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 33] 제31항에 있어서,상기 갭 센서는 갭 센서와 상기 갭 센서에 대향되는 전극 사이의 캐패시턴스를 계측함으로써 상기 콘택트 기판과 타겟기판사이의갭검출하는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 34] 제30항에 있어서,기판은 평탄을 조정하기 위한 반도체 기판 또는 평탄 조정을 위해 제공되는기준플레이트인것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 35] 제34항에 있어서,상기 기준 플레이트는 상기 갭 센서에 대향하는 위치에 전극을 가지는세라믹스기판또는알루미나기판인것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구. [청구항 36] 제32항에 있어서,상기 콘택트 기판의 외주부에 제공되는 상기 콘택트 기판을 지지하기 위한 서포트 프레임을 더 포함하고, 상기 고정 수단은상기프로우브카드와서포트프레임사이연장되는것을특징으로 하는프로우브 콘택트 시스템의 평면 조정 기구.