초협대역이고 고 반복율로 동작하는 두개 챔버를 갖는가스 방전 레이저 시스템 document_id 1020037004934

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 레이저 유닛은 마스터 발진기로 구성되어 있고 상기 제 2 레이저 유닛은파워증폭기구성되어있는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 레이저 가스는 아르곤,플루오르및네온포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 4] 제 2 항에 있어서,상기 레이저 가스는 크립톤,플루오르및네온포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 5] 제 2 항에 있어서,상기 레이저 가스는 네온, 헬륨 및 네온과 헬륨의 혼합가스를 포함하는 그룹으로 부터 선택된버퍼가스와플로우로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 6] 제 2 항에 있어서,상기 파워 증폭기는 상기 제 2 방전 영역을 통하여 2개의 빔이 통과하도록구성된것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 방전 챔버와 독립한 상기 제 1 레이저 유닛의 공진 캐비티 광학기기를 지원하기 위한광학테이블더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,상기 광학 테이블은 u자형이고 u자형 캐비티를 형성하고 상기 제 1 방전 챔버는 u자형 캐비티내장착되는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 레이저 챔버의 각각은 방전 영역에서 발생하는 정압 강하를 복구할 수 있도록 상기 전극의 점차로 증가하는 단면 다운스트림을 구비한가스 흐름경로정의하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 10] 제 2 항에 있어서,레이저 시스템 및 상기 챔버는 또한 상기 방전 영역의 가스 속도 업스트림을 정상화하기 위한 상기 방전 영역의 베인구조업스트림포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 11] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 팬 및 상기 제 2 팬의 각각은 탄젠셜 팬이고 각각은 두개의 무브러쉬 dc모터에 의해 구동되는샤프트포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 모터는수냉식모터인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 13] 제 11 항에 있어서,상기 모터의 각각은 고정자를 포함하고 상기 모터의 각각은 상기 고정자를 상기 레이저 가스로 부터 분리하는 압력 컵에 포함된자기회전자포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 14] 제 11 항에 있어서,젠셜 팬은 상기 알루미늄 스톡으로 부터 기계가공된블레이드구조포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 15] 제 11 항에 있어서,상기 블레이드 구조는5인치의외부직경가지는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 16] 제 11 항에 있어서,상기 모터는 무센서 모터이고 상기 모터중 하나를 제어하기 위한 마스터 모터 컨트롤러 및 상기 모터중 다른 모터를 제어하기 위한슬레이브모터컨트롤러더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 17] 제 11 항에 있어서,젠셜 팬의 각각은 상기 샤프트에 관하여 각도를 이룬블레이드포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 18] 제 1 항에 있어서,상기 열교환기 시스템은수냉식인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,상기 열교환기 시스템은 적어도 네개의 개별적인수냉식열교환기포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 20] 제 18 항에 있어서,상기 열교환기 시스템은, 관형상 물 흐름 통로를 가지고 상기 통로에 적어도 하나의 튜불레이터가 위치된적어도하나의열교환기포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 21] 제 20 항에 있어서,개의 열교환기의 각각은 튜불레이터를 포함하는관형상물흐름 통로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 22] 제 1 항에 있어서,상기 펄스 파워 시스템nan은수냉식전기컴포넌트포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 23] 제 22 항에 있어서,상기 수냉식 컴포넌트중 적어도 하나는 12,000볼트를 초과하는 고압에서 작동되는컴포넌트인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 24] 제 23 항에 있어서,상기 고압은 냉각수가 흐르는 인덕터를 사용하여 그라운드로부터절연되는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 25] 제 1 항에 있어서,상기 펄스 파워 시스템은 정확히 제어된 전압으로 충전 커패시터를 충전하는공진충전시스템포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 26] 제 25 항에 있어서,상기 공진 충전 시스템은 드 킹(de-qing)회로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 27] 제 25 항에 있어서,상기 공진 충전 시스템nan은블리드회로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 28] 제 25 항에 있어서,상기 공진 충전 시스템nan은디킹회로및블리드회로포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 29] 제 1 항에 있어서,상기 펄스 파워 시스템은 병렬로 배열된 적어도 세개의 전원을 포함하는충전시스템포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 30] 제 1 항에 있어서,상기 레이저 빔 측정 및 제어 시스템은 에탈론 유닛, 포토 다이오드 어레이, 프로그램가능 로직 디바이스, 및 상기 에탈론 유닛으로 부터 상기 포토 다이오드 어레이로 레이저 초점을 맞추는 광학기기를 포함하고, 상기 프로그램가능 로직 디바이스는 에탈론 줄무늬의 상기 포토 다이오드 어레이에서의 위치를 결정하기 위하여 상기 포토다이오드 어레이로부터 데이터를 분석하도록프로그래밍된것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 31] 제 30 항에 있어서,상기 레이저빔 측정 및 제어 시스템은 또한 상기 프로그램가능 로직 디바이스에 의하여 위치지정된 줄무늬 데이터로 부터 파장 및 대역폭을 계산하도록 프로그래밍된마이크로프로세서포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 32] 제 30 항에 있어서,상기 프로그램가능 로직 디바이스는 상기 줄무늬의 측정치에 기초하여 파장 및 대역폭을 계산하기 위한알고리즘프로그래밍되는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 33] 제 32 항에 있어서,상기 프로그램가능 로직 디바이스는 1초의 1/4,000보다 빠르게 파장 및 대역폭을 계산하도록구성된것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 34] 제 30 항에 있어서,상기 에탈론 유닛은 회절하는확산엘리먼트포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 35] 제 1 항에 있어서,드라이브에 의하여 적어도 부분적으로 구동되는 튜닝 미러를 포함하는 라인 내로우잉유닛더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 36] 제 35 항에 있어서,상기 튜닝 미러는 또한 스테퍼 모터에 의하여부분적구동되는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 37] 제 35 항에 있어서,프리튜닝 수단을 더 포함하는 것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 38] 제 35 항에 있어서,인식 알고리즘을 포함하는활성튜닝수단더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 39] 제 35 항에 있어서,적응성 피드포워드 알고리즘을 포함하는액티브튜닝수단더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 40] 제 35 항에 있어서,상기 라인 내로우잉 유닛은 회절격자면을 정의하는 회절격자 및 정화가스를 상기 회절격자면에 강제로 근접하게 보내기 위한정화수단포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 41] 제 40 항에 있어서,상기 정화가스는질소인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 42] 제 40 항에 있어서,상기 정화가스는헬륨인것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 43] 제 1 항에 있어서,질소 필터를 포함하는질소정화시스템더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 44] 제 1 항에 있어서,흐름 모니터를 포함하는 정화 모듈을 포함하는 질소를 더 포함하고 상기 레이저는 또한 상기 레이저로 부터 배출된 정화 가스를 운반하기 위한정화배출 튜브포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 45] 제 1 항에 있어서,전기적으로 작동되는 셔터를 포함하는 셔터 유닛 및 명령신호에 의해 레이저 출력 빔 경로에 위치될 수 있는전력계더포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 46] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 챔버의 제 1 윈도우와 라인 내로우잉 유닛사이에 제 1 빔 밀봉재를 제공하고 상기 제 1 챔버의 제 2 윈도우와 출력 커플러 유닛사이에 제 2 빔 밀봉재를 제공하는 빔 밀봉재 시스템을 더 포함하고, 상기 빔 밀봉재의 각각은금속벨로우포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 47] 제 46 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 빔 밀봉재의 각각은 상기 레이저 챔버가 용이하게 대체될 수구성되는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 48] 제 46 항에 있어서,상기 빔 밀봉재의 각각은 어떠한 엘라스토머도 포함하지 않고, 상기 챔버로 부터 진동 격리를 제공하고, 대기 가스로 부터 빔 트레인 격리를 제공하고 그리고 상기 출력 커플러 유닛 또는 상기 라인 내로우잉유닛의방해없이상기레이저챔버를제한대체가능하도록하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 49] 제 1 항에 있어서,상기 측정 및 제어 시스템은 상기 레이저로 부터 출력 펄스의 적은 비율로 분할하기 위한 주된 빔 스플리터, 상기 펄스 에너지 디텍터로 상기 적은 비율의 부분을 향하게하기 위한 제 2 빔 스플리터, 및 부피가 제한된 상기 주된 빔 스플리터와, 상기 제 2 빔 스플리터 및 상기 펄스 에너지 디텍터의 윈도우를 격리된 영역을 정의하기 위하여 상기 측정 및 제어 시스템의 다른 부분으로 부터 격리시키기 위한수단포함하는것을특징으로 하는가스 방전 레이저 시스템. [청구항 50] 제 49 항에 있어서,정화가스로 상기 격리된 영역을 정화하기 위한정화수단더포함하는것을특징으로 하는레이저 시스템. [청구항 51] 제 50 항에 있어서,상기 레이저는 출력 커플러 유닛 및 출력 윈도우 유닛을 더 포함하고 상기 정화 수단은 상기 격리된 영역으로 부터 배출된 상기 정화가스가 상기 출력 커플러 유닛 및 상기 출력 윈도우 유닛을 더 정화하도록구성되는것을특징으로 하는레이저 시스템.