리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 마스크 및 마스크및/또는 펠리클을 특성화하는 방법 document_id 1020040030548

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 패터닝 디바이스는 마스크이고, 상기 지지구조체는 마스크테이블이며, 상기 층은 그것과 이격된 관계로 장착된펠리클인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 장치내로의 마스크의 로딩과 연계하여 상기 정보를 수신하는인터페이스더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 4] 제2항에 있어서,상기 마스크테이블에 의하여 지지된 마스크에 고정된 상기 펠리클의 물리적 특성, 광학적 특성, 또는 물리적 및 광학적 특성을 측정하는 센서를 더 포함하고, 상기 컨트롤러는 상기 펠리클을 특성화하도록 상기 센서, 상기 마스크테이블, 또는 상기 센서 및 상기 마스크테이블을 제어하여 상기 저장수단에 저장되는 상기 정보를 생성하도록더욱적응된것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 센서는투과 이미지 센서인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 6] 제4항에 있어서,상기 센서는백색광 간섭계인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 7] 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 마스크 스테이지, 상기 마스크, 상기 펠리클 및 상기 마스크에 상기 펠리클을 장착하는 임의의 프레임 중 하나에 부착된 스포일러를 더 포함하고, 상기 스포일러는, 상기 마스크가 노광 중에 이동하는 경우 상기 펠리클을 왜곡시키게 될 베르누이 영향을 감소시키도록형상화되는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 8] 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,스캐닝 노광 중에 퍼지 가스의 흐름이 상기 마스크의 이동과 평행하고 같은 감각이도록 상기 마스크의 부근에 상기 퍼지 가스를 공급하도록 적응된퍼지가스 공급 시스템더포함하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 9] 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 저장 디바이스는 스캐닝 노광 중에 상기 마스크의 이동 속력에 관한 이미지 수차의 종속성에 관련된정보저장하는것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 패터닝수단은 프로그램가능한 패터닝 디바이스이며, 상기 층은 상기 프로그램가능한 패터닝수단을 포함하는박스내윈도우인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 층은 상기 투영시스템과 상기 기판사이의 액체필름인것을특징으로 하는리소그래피 투영장치. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 펠리클은, 리소그래피 투영장치에서 노광에 사용되는 방위에 있는 경우 실질적으로 1차원 형상을 채택하도록 2개의 평행한 에지를 따라 상기 프레임에 고정되고 여타의 에지를 따라장착되는것을특징으로 하는마스크. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 펠리클은, 상기 펠리클이 중력하에서 자유롭게 휘도록 허용된다면 채택될 수 있는 각도와 동일한 각도로 상기 2개의 평행한 에지들에서상기프레임고정되는것을특징으로 하는마스크. [청구항 15] 제13항에 있어서,상기 펠리클은 0°의 각도로 상기 평행한 에지들의 양 쪽 모두에서상기프레임장착되는것을특징으로 하는마스크.