문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 유전체층의 체적 고유 저항값이상인정전 흡착 장치.
[청구항 3]
제 2 항에 있어서,상기 기판의 온도를 제어하기 위한 전열 가스의 관통 구멍이 상기 서셉터로부터 상기 제 2 유전체층의 상면까지 관통하여 설치되며, 상기 전극층이 상기 관통 구멍의 내벽면노출되지 않는정전 흡착 장치.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 기판의 온도를 제어하기 위한 전열 가스의 관통 구멍이 상기 서셉터로부터 상기 제 2 유전체층의 상면까지 관통하여 설치되고, 상기 전극층이 상기 관통 구멍의 내벽면노출되지 않는정전 흡착 장치.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,셉터에 소망하는 전력으로 고주파를 출력하는 고주파 전원이 전기적접속되어 있는정전 흡착 장치.
[청구항 6]
제 5 항에 있어서,상기dc 전압 인가부가 상기 dc 전압을 출력하는 전류 전원과, 상기 고주파 전원으로부터의 고주파를 실질적으로 차단하고, 또한 상기 dc 전압을 통과시키는 저항체 또는 저역 필터갖는정전 흡착 장치.
[청구항 7]
제 6 항에 있어서,셉터가 저항체를 거쳐서 지면접지되어 있는정전 흡착 장치.
[청구항 8]
제 7 항에 있어서,상기 저항체가 1mω 내지 10mω의 저항값갖는정전 흡착 장치.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 유전체층과 상기 서텝터 사이에, 상기 제 1 유전체층의 팽창률과 상기 서셉터의 팽창률의 중간 팽창률을 갖는 열응력 완충재삽입되어 있는정전 흡착 장치.
[청구항 10]
제 1 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 유전체층이 al2o3 및 zro2 중 적어도 한쪽주성분으로하는세라믹스로 이루어지는정전 흡착 장치.
[청구항 11]
제 1 항에 있어서,셉터가 al 금속으로 이루어지고, 상기 열응력 완충재합금으로 이루어지는정전 흡착 장치.
[청구항 12]
제 1 항에 있어서,셉터에 상기 기판을 냉각하기 위한 냉각 기구설치되는정전 흡착 장치.
[청구항 13]
제 1 항에 있어서,셉터에 상기 기판을 가열하기 위한 가열 기구설치되는정전 흡착 장치.
[청구항 16]
제 15 항에 있어서,상기 전열 가스 공급부로부터 상기 기판의 이면으로 공급되는 상기 전열 가스의 공급 유량을 모니터링하는 가스 유량 모니터부와, 상기 공급 유량의 측정값을 소정의 기준값과 비교하여, 비교 결과에 따라 상기 플라즈마 생성부를 작동시킬지의 여부를 결정하는 시퀀스 제어부갖는플라즈마 처리 장치.
[청구항 17]
제 15 항에 있어서,상기 전열 가스는 he 가스이고, 상기 기판의 이면에 공급하는 가스 압력은 1torr 내지 10torr의 범위내로 설정되며, 상기 정전 흡착 장치의 전극층에 인가하는 dc 전압은 2kv 내지 5kv의 범위내설정되는플라즈마 처리 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마 처리 장치에서 시퀀스 제어부가 플라즈마 생성부의 작동 여부를 결정하기 위해 참조하는 정보는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation플라즈마 처리 장치의 시퀀스 제어부가 플라즈마 생성부의 작동 여부를 결정할 때 참조하는 정보가 무엇인지 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 16에서 시퀀스 제어부의 역할과 관련된 구절을 추출한다.
- 상기 공급 유량의 측정값을 소정의 기준값과 비교하여, 비교 결과에 따라 상기 플라즈마 생성부를 작동시킬지의 여부를 결정하는 시퀀스 제어부
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3근거 선택
evidence_selection시퀀스 제어부가 비교의 대상으로 삼는 '공급 유량의 측정값'이 핵심 정보임을 확인한다.
- 상기 공급 유량의 측정값을 소정의 기준값과 비교하여
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4논리 통합
logical_integration가스 유량 모니터부가 모니터링한 전열 가스의 공급 유량 측정값을 시퀀스 제어부가 참조하여 작동 여부를 결정함을 연결한다.
- 상기 전열 가스 공급부로부터 상기 기판의 이면으로 공급되는 상기 전열 가스의 공급 유량을 모니터링하는 가스 유량 모니터부
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5결론 도출
conclusion_formulation시퀀스 제어부가 참조하는 정보는 가스 유량 모니터부가 측정한 전열 가스의 공급 유량 측정값이다.
- 상기 공급 유량의 측정값을 소정의 기준값과 비교하여
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6답변 생성
answer_generation질문에 대한 직접적인 답변을 추출형 형식으로 작성한다.
- 상기 공급 유량의 측정값
최종 답변 (final_answer)
상기 공급 유량의 측정값
핵심 해석 (core_interpretation)
플라즈마 처리 장치에서 가스 유량 모니터부가 측정한 전열 가스의 공급 유량 측정값을 기준값과 비교함으로써 플라즈마 생성부의 작동 여부를 제어하는 기술적 구성에 관한 것이다.