전자기장 포커싱 장치 및 이를 채용한 전자빔 리소그라피시스템 document_id 1020040109269

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 상부 및 하부 폴피이스는강자성체로이루어지는것을특징으로 하는전자기장 포커싱 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 자기장 발생부는 상기 상부 및 하부 폴피이스를 코어로 하는 전자석으로서, 상기 진공챔버의 외부로 돌출된 상부 및 하부 폴피이스의 외주면에 각각 권선된코일포함하는것을특징으로 하는전자기장 포커싱 장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 자기장 발생부에서 발생한 자속이 상기 상부 폴피이스로부터 진공챔버 내부를 관통하여 하부 폴피이스를 지나 다시 상부 폴피이스로 순환하도록 하는 자로형성부더포함하는것을특징으로 하는전자기장 포커싱 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 자로 형성부는, 상기 진공챔버의 외부로 돌출된 상부 및 하부 폴피이스에 각각 그 양단부가 자기적으로 접촉되도록, 상기 진공챔버의 좌우측면 중 적어도 한 측면을 둘러싸는강자성체로이루어진것을특징으로 하는전자기장 포커싱 장치. [청구항 6] 제 2 항에 있어서,상기 자기장 발생부는: 상기 진공챔버의 외부로 돌출된 상부 및 하부 폴피이스에 각각 그 양단부가 자기적으로 접촉된 자로 형성부; 및 상기 자로 형성부의 외주면에 권선된 코일;을 포함하는전자석인것을특징으로 하는전자기장 포커싱 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 자로 형성부는 상기 진공챔버의 좌우측면 중 적어도 한 측면을 둘러싸는강자성체인것을특징으로 하는전자기장 포커싱 장치. [청구항 8] 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 진공챔버의 천정벽과 바닥벽을 각각 관통하여 설치된 것으로, 상기 상부 및 하부 폴피이스의 외주면을 각각 둘러싸는 강자성체로 이루어진 상부 및 하부 보강부재를 더 포함하며, 상기 상부 및 하부 보강부재의 내주면과 상기 상부 및 하부 폴피이스의 외주면이 각각에 형성된 나사산을 통해 각각 이동 가능하게결합되어있는것을특징으로 하는전자기장 포커싱 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 진공챔버의 내부에서, 상기 상부 및 하부 보강부재의 단부는 각각 상기 상부 및 하부 폴피이스의 단부에 비해 진공챔버의 내부로 더 돌출되어 링 형상의 자기장 보정부를형성하는것을특징으로 하는전자기장 포커싱 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 상부 및 하부 폴피이스는강자성체로이루어지는것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 자기장 발생부는 상기 상부 및 하부 폴피이스를 코어로 하는 전자석으로서, 상기 진공챔버의 외부로 돌출된 상부 및 하부 폴피이스의 외주면에 각각 권선된코일포함하는것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 자기장 발생부에서 발생한 자속이 상기 상부 폴피이스로부터 진공챔버 내부를 관통하여 하부 폴피이스를 지나 다시 상부 폴피이스로 순환하도록 하는 자로형성부더포함하는것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,상기 자로 형성부는, 상기 진공챔버의 외부로 돌출된 상부 및 하부 폴피이스에 각각 그 양단부가 자기적으로 접촉되도록, 상기 진공챔버의 좌우측면 중 적어도 한 측면을 둘러싸는강자성체로이루어진것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 15] 제 11 항에 있어서,상기 자기장 발생부는: 상기 진공챔버의 외부로 돌출된 상부 및 하부 폴피이스에 각각 그 양단부가 자기적으로 접촉된 자로 형성부; 및 상기 자로 형성부의 외주면에 권선된 코일;을 포함하는전자석인것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기 자로 형성부는 상기 진공챔버의 좌우측면 중 적어도 한 측면을 둘러싸는강자성체인것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 17] 제 10 항에 있어서,상기 진공챔버는비자성체로이루어진것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 18] 제 10 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 진공챔버의 천정벽과 바닥벽을 각각 관통하여 설치된 것으로, 상기 상부 및 하부 폴피이스의 외주면을 각각 둘러싸는 강자성체로 이루어진 상부 및 하부 보강부재를 더 포함하며, 상기 상부 및 하부 보강부재의 내주면과 상기 상부 및 하부 폴피이스의 외주면이 각각에 형성된 나사산을 통해 각각 이동 가능하게결합되어있는것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,상기 진공챔버의 내부에서, 상기 상부 및 하부 보강부재의 단부는 각각 상기 상부 및 하부 폴피이스의 단부에 비해 진공챔버의 내부로 더 돌출되어 링 형상의 자기장 보정부를형성하는것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 20] 제 18 항에 있어서,상기 상부 및 하부 보강부재의 단부에는 상기 전자빔 이미터와 웨이퍼 사이에 전기장을 형성시키기 위한 상부 및 하부 전극판이 각각 소정의 간격을 두고 서로 대향하도록설치되는것을특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 21] 제 20 항에 있어서,상기 웨이퍼를 고정하기 위한 웨이퍼 홀더가 상기 하부 전극판에 설치되며, 상기 전자빔 이미터는 상기 웨이퍼 홀더와 대향하도록 상기 상부 전극판설치되는 것을특징으로 전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 22] 제 20 항에 있어서,상기 상부 및 하부 보강부재 각각의 내경은 상기 웨이퍼의 외경보다 큰 것특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템. [청구항 23] 제 20 항에 있어서,상기 상부 및 하부 전극판 각각의 외경은 상기 웨이퍼의 외경보다 큰 것특징으로 하는전자빔 리소그라피 시스템.