라인 선택되고 두 챔버를 갖춘 에프 투 레이저 시스템 document_id 1020047003032

[청구항 1] 초 협대역이고 2 챔버를 갖는 고 반복율 f 2 가스 방전 레이저 시스템에 있어서, a) 1) a) 제1 레이저 가스와, b) 제1 방전 영역을 정의하는 제1 쌍의 신장되고 이격된 전극을 포함하는, 제1 방전 챔버, 2) 초당 4,000 펄스 이상의 범위의 반복율로 동작하는 경우, 각각의 펄스에 뒤이어지는, 다음 펄스 이전에 거의 모든 방전 산출된 이온을 상기 제1 방전 영역으로부터 클리어시키기에 충분한 상기 제1 레이저 가스의 속도를 상기 제1 방전 영역에 발생시키기 위한 제1 팬, 및 3) 상기 제 1 레이저 가스로부터 적어도 16kw의 열 에너지를 제거할 수 있는 제1 열 교환기를 포함하는, 제1 레이저 유닛; b) 상기 제1 레이저 방전 챔버에 산출된 광 펄스의 스펙트럼 대역폭을 협소화하기 위한 라인 협소화 유닛 c) 1) a) 제2 레이저 가스와, b) 제2 방전 영역을 정의하는 제2 쌍의 신장되고 이격된 전극을 포함하는, 제2 방전 챔버, 2) 초당 4,000 펄스 이상의 범위의 반복율로 동작하는 경우, 각각의 펄스에 뒤이어지는, 다음 펄스 이전에 거의 모든 방전 산출된 이온을 상기 제2 방전 영 역으로부터 클리어시키기에 충분한 상기 제2 레이저 가스의 속도를 상기 제2 방전 영역에 발생시키기 위한 제2 팬, 및 3) 상기 제 2 레이저 가스로부터 적어도 16kw의 열 에너지를 제거할 수 있는 제2 열 교환기를 포함하는, 제2 레이저 유닛; d) 약 5mj을 초과하는 정밀하게 제어된 펄스 영역로 초당 약 4,000펄스의 반복율로 펄스를 생성하기에 충분한 상기 제2 쌍의 전극과 상기 제1 쌍의 전극에 전기 펄스를 공급하도록 구성된 펄스 파워 시스템; 및 e) 상기 2 챔버 레이저 시스템에 의해 산출된 레이저 펄스의 펄스 에너지, 파장 및 대역폭을 측정하고 상기 레이저 출력 펄스를 피드백 제어 장치에서 제어하기 위한 레이저 빔 측정 및 제어 시스템을 포함하고, 상기 제1 레이저 유닛으로부터의 출력 레이저 빔은 상기 제2 레이저 유닛을 시딩하기 위한 시드 빔으로서 이용되는 것을 특징으로 하는 고 반복율 f 2 가스방전 레이저 시스템 [청구항 2] 제1 항에 있어서,상기 제1 레이저 유닛은 마스터 오실레이터로서 구성되고 상기 제2 레이저 유닛은전력 증폭기구성되는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 3] 제2 항에 있어서,상기 제1 레이저 가스는플루오르및네온지는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 4] 제2 항에 있어서,상기 제1 레이저 가스는플루오르및네온지는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 5] 제2 항에 있어서,상기제1 및 제2 레이저 가스는 네온, 헬륨 또는 네온과 헬륨의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된버퍼가스와플루오르지는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 6] 제2 항에 있어서,상기 전력 증폭기는 단일 빔이 제2 방전 영역을 통과하도록구성된것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 7] 제2 항에 있어서,상기 전력 증폭기는 복수의 빔이 제2 방전 영역을 통과하도록구성된것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 8] 제2 항에 있어서,상기 마스터 오실레이터는 상기 제1 방전 영역을 통하는 두 패스를 만드는 공진 경로를 제공하는광학컴포넌트포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 9] 제2 항에 있어서,상기 마스터 오실레이터는 상기 제1 방전 영역을 통하는 두 패스를 만드는 공진 경로를 제공하는 광학 컴포넌트를 포함하고 상기 전력 증폭기는 제2 방전 영역을 통과하는 복수의 빔을 제공하는광학컴포넌트포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 10] 제1 항에 있어서,상기 방전 챔버와 무관하게 상기 레이저 유닛의 공진 캐비티 광학기기를 지지하기 위한광학테이블더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 11] 제10 항에 있어서,상기 광학 테이블은 거의 u자 형상이고 u자 형상 캐비티를 정의하며 상기 제1 방전 챔버는 u자 형상 캐비티내장착되는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 12] 제1 항에 있어서,수직으로 장착된 광학 테이블에 장착된 상기 제1 및 제2 방전 챔버를 갖춘상기수직광학테이블더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 13] 제1 항에 있어서,상기제1 및 제2 레이저 챔버의 각각은 방전 영역에서 발생하는 정정 압력의 대부분을 복구할 수 있도록 점진적으로 증가하는 상기 전극의 단면 다운스트림을 갖춘가스 흐름경로정의하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 14] 제2 항에 있어서,및 제2 상기 챔버는 각각 상기 방전 영역의 가스 속도 다운스트림을 정상화하기 위한 상기 방전 영역의 베인구조다운스트림포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 15] 제1 항에 있어서,상기 제 1 팬 및 상기 제 2 팬은 각각 탄젠셜 팬이고 각각은 두 개의 브러시리스 dc 모터에 의해 구동되는축포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 16] 제15 항에 있어서,상기 모터는수냉식모터인것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 17] 제15 항에 있어서,상기 모터의 각각은 정류자를 포함하고 상기 모터의 각각은 상기 정류자를 상기 레이저 가스로부터 분리하는 압력 텁내에 포함된자기회전자포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 18] 제1 항에 있어서,상기 제 1 팬 및 제 2 팬은 각각 탄젠셜 팬이고 각각은 상기 알루미늄 스톡으로부터 기계가공된블레이드구조포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 19] 제15 항에 있어서,상기 블레이드 구조는 약 5인치인외경갖는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 20] 제19 항에 있어서,상기 블레이드 구조는 급경사진 리딩 에지를 갖는블레이드요소갖는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 21] 제15 항에 있어서,상기 모터는 센서리스 모터이고 상기 모터중의 하나를 제어하기 위한 마스터 모터와 다른 하나의 모터를 제어하기 위한슬레이브모터더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 22] 제15 항에 있어서,젠셜 팬의 각각은 상기 축에 대해 각을 이룬블레이드포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 23] 제1 항에 있어서,각각의 핀 형상 열 교환기 시스템은수냉식인것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 24] 제23 항에 있어서,각각의 열 교환기 시스템은 적어도 4개의 개별적인수냉식열교환기포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 25] 제23 항에 있어서,각각의 열 교환기 시스템은 적어도 하나의 튜불레이터가 상기 경로에 위치되어 있는, 하나의 관 형상 워터 흐름 패시지를 갖는적어도하나의열교환기포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 26] 제25 항에 있어서,상기 4개의 열 교환기의 각각은 튜불레이터를 포함하는관 형상워터흐름패시지포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 27] 제1 항에 있어서,상기 펄스 파워 시스템nan은수냉식전기컴포넌트포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 28] 제27 항에 있어서,적어도 하나의 상기 수냉식 전기 컴포넌트는 12,000볼트를 초과하는 고전압으로 동작되는컴포넌트인것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 29] 제28 항에 있어서,상기 고전압은 냉각수가 흐름이 관통하는 인덕터를 이용하여접지절연되는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 30] 제1 항에 있어서,상기 펄스 파워 시스템은 전기 펄스를 상기 제1 쌍의 전극에 공급하기 위한 제1 펄스 압축회로와 제1 충전 커패시터 뱅크, 및 제1 충전 커패시터 뱅크와 제2 충전 커패시터 뱅크를 정밀 제어 전압으로 병렬로 충전시키기 위해 전기 펄스를 상기 제2 쌍의 전극과 공진 충전 시스템에 공급하기 위한제2펄스 압축회로와상기제2충전커패시터 뱅크포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 31] 제30 항에 있어서,상기 공진 충전 시스템은 디-칭(de-qimg)회로포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 32] 제30 항에 있어서,상기 공진 충전 시스템nan은블리드회로포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 33] 제30 항에 있어서,상기 공진 충전 시스템은 디-칭회로및블리드회로포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 34] 제1 항에 있어서,상기 펄스 파워 시스템은 병렬로 배열된 적어도 3개의 전력 공급부로 구성된충전시스템포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 35] 제1 항에 있어서,상기 라인 선택 유닛nan은상기마스터오실레이터의다운스트림위치되는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 36] 제35 항에 있어서,상기 라인 선택 유닛nan은복수의프리즘포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 37] 제36 항에 있어서,상기 복수의 프리즘nan은5개프리즘인것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 38] 제36 항에 있어서,상기 복수의 프리즘은 상기 제1 레이저 유닛으로부터의 레이저 빔이 제1 레이저 유닛에 입사되기 이전에 360도 회전되어지도록루프배열되는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 39] 제1 항에 있어서,가시광 레이저 유닛을 더 포함하는 것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 40] 제1 항에 있어서,상기 라인 선택 유닛은 리오트(lyot)필터포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 41] 제1 항에 있어서,상기 제1 방전 챔버 및 상기 제2 방전 챔버는 챔버 윈도우상의 레이저 빔의 입사각이 모두 브루스터의 각 보다 크도록 위치된상기챔버윈도우포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 42] 제1 항에 있어서,상기 제1 레이저 유닛에 산출된 레이저 빔을 스티어링하기 위한빔스티어링수단더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 43] 제42 항에 있어서,상기 스티어링 수단은 광학 요소를 피벗키기 위한수단포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 44] 제42 항에 있어서,상기 빔 스티어링 수단은 상기 라인 선택 유닛의 압력을 조정하기 위한수단포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 45] 제1 항에 있어서,상기 레이저 시스템은 상기 제1 레이저 유닛을 위한 공진 캐비티를 부분적으로 정의하는 프리즘 출력 커플러를 포함하고, 상기 프리즘 출력 커플러는 두 표면을 포함하고 두 표면 중 제1 표면은 p-편광을 위한 저 손실 각도로 방향지워지고 제2 표면은 상기 제1 레이저 유닛으로부터의 레이저 빔과 직교하도록위치된것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 46] 제1 항에 있어서,상기 제1 방전 챔버의 가스 온도를 모니터링하기 위한 제1 온도 모니터; 및 b) 반사된 음향파로부터의 결과로서 생기는 음향효과에 역영향을 미치는 것을 방지하기 위해 가스 온도를 조정하기 위한 제어 알고리즘을 포함하는제1가스온도 제어시스템더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 47] 제1 항에 있어서,상기 제2 방전 챔버의 가스 온도를 모니터링하기 위한 제2 온도 모니터; 및 b) 반사된 음향파로부터의 결과로서 생기는 음향효과에 역영향을 미치는 것을 방지하기 위해 가스 온도를 조정하기 위한 제어 알고리즘을 포함하는제2가스온도 제어시스템더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 48] 제1 항에 있어서,질소 필터를 더 포함하는 것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 49] 제1 항에 있어서,상기 흐름 모니터를 포함하는 퍼지 모듈을 포함하는 질소 퍼지 시스템을 더 포함하고 상기 레이저는 또한 상기 레이저로부터 배기 퍼지 가스를 이송하기 위한퍼지배기튜브포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 50] 제1 항에 있어서,전기적으로 작동되는 셔터와 명령 신호로 레이저 출력 빔 경로에 위치될 수 있는 파워미터를 포함하는셔터유닛더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 51] 제1 항에 있어서,금속 벨로우를 포함하는 적어도 하나의 빔 시일; 및 b) 퍼지 가스로 상기 빔 인클로우저를 퍼지시키기 위한퍼지수단더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 52] 제51 항에 있어서,상기 빔인클로우저 수단은 상기 제2 레이저 유닛에 산출된 레이저 빔을 가로지르는 퍼지 흐름을 산출하기 위한흐름지향수단포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 53] 제51 항에 있어서,적어도 하나의 빔 시일은 상기 레이저 챔버가 용이하게 대체될 수구성되는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 54] 제51 항에 있어서,적어도 하나의 빔 시일은 어떠한 엘라스토머도 함유하지 않으며 상기 챔버로부터의 진동 절연을 제공하고, 대기 가스로부터 빔 트레인 절연을 제공하고,상기라인 선택유닛의방해없이상기레이저챔버의비제한적대체허용하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 55] 제51 항에 있어서,적어도 하나의 빔 시일은 진공 컴패터블한것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 56] 제55 항에 있어서,적어도 하나의 빔 시일은 복수 개의 빔 시일이고 상기 복수 개의 빔 시일은 손으로 용이하게 제거할 수 있도록 구성된 용이한시일링벨로우시일인것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 57] 제1 항에 있어서,상기 측정 및 제어 시스템은 상기 제2 레이저 유닛으로부터의 작은 백분율의 출력 펄스를 스플릿시키기 위한 주 빔 스플리터, 상기 작은 백분율의 출력 펄스를 상기 펄스 에너지 검출기에 보내기 위한 광학 수단 및 상기 주 빔 스플리터에 적어도 부분적으로 바운딩된 볼륨을 분리시키기 위한 분리 수단과 분리 영역을 정의하기 위해 상기 측정 및 제어 시스템의 다른 부문으로부터상기펄스 에너지검출기의윈도우포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 58] 제57 항에 있어서,상기 분리 영역을 퍼지 가스로 퍼징하기 위한퍼지수단더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 59] 제1 항에 있어서,상기 시스템은 최소한의 수정으로, krf 레이저 시스템, arf 레이저 시스템 또는 f2 레이저 시스템중의 하나를 동작시키도록구성된것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 60] 제1 항에 있어서,컴포넌트가 레이저 인클로우저에 포함되지만 상기 시스템은 인클로우저로부터 물리적으로 분리하는 ac/dc모듈포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 61] 제1 항에 있어서,상기 펄스 파워 시스템은 커패시터 뱅크를 충전하는 마스터 오실레이터와 커패시터 뱅크를 충전하는 전력 증폭기와 두 충전 커패시터 뱅크를 동시에 충전하도록 구성된공진충전기포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 62] 제61 항에 있어서,상기 펄스 파워 시스템은 적어도 2000v를 상기 공진 충전기에 공급하도록 구성된전력 공급부포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 63] 제1 항에 있어서,마스터 오실레이터 빔 파라미터를 제어하기 위해 상기 레이저 가스내의 f2 농도를 제어하기 위한가스 제어 시스템더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 64] 제1 항에 있어서,마스터 오실레이터 빔 파라미터를 제어하기 위해 상기 레이저 가스내의 레이저 가스 압력을 제어하기 위한가스 제어 시스템더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 65] 제2 항에 있어서,상기 마스터 오실레이터에서의 방전 후 20 ns 내지 60ns 사이에 발생하도록 상기 전력 증폭기내의 방전을 트리거링시키기 위한방전타이밍컨트롤러더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 66] 제2 항에 있어서,임의의 커다란 출력 펄스 에너지를 방지하기위해 타이밍되도록 몇몇 주위환경하에서 방전을 야기하도록 프로그램된방전컨트롤러더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 67] 제66 항에 있어서,상기 주위환경내의 상기 컨트롤러는 상기 마스터 오실레이터에서의 방전 이전의 적어도 20 ns에서 상기 전력 증폭기에서의 방전을 야기시키도록프로그램된것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 68] 제1 항에 있어서,상기 레이저로부터 출력 펄스의 지속시간을 증가시키기 위한펄스체배기유닛더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 69] 제68 항에 있어서,펄스 체배기 유닛은 상기출력 펄스 레이저 빔을 수신하고 레이저 출력 펄스에 비해 상당히 감소된 강도 값을 갖춘 다수의 펄스로 구성된 단일 체배기 추력 펄스 빔을 산출하도록 적어도 2인 인수를 초 당 다수의 펄스에 곱하고, 펄스 체배기 유닛은:(1) 상기 출력 빔의 일부분을 분리하도록 배열된 제1 빔 스플리터;(2) 상기 제1 빔 스플리터에서 시작하고 종료하는 제1 지연 경로를 포함하고, 분리된 일부분은 지연부를 정의하고, 출력 빔은 상기 제1 빔 스플리터에서의 각도 확산과 빔 사이즈를 정의하고, 상기 제1 지연 경로는 적어도 두 개의 포커싱 미러를 포함하고, 상기 미러는 상기 제1 지연 경로내의 초점에 상기 지연부를 포커싱하고, 상기 제1 빔 스플리터에서의 출력 빔의 각도 확산 및 빔 사이즈와 거의 동일한 각도 확산 및 빔 사이즈를 갖추어 상기 제1 빔 스플리터에 상기 지연부를 복귀시키도록배열된것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 70] 제69 항에 있어서,개의 포커싱 미러는구형미러인것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 71] 제69 항에 있어서,개의 구형 미러를 포함하는제2지연경로더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 72] 제69 항에 있어서,상기 제1 지연 경로는4개의포커싱 미러포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 73] 제72 항에 있어서,상기 제1 지연 경로에 의치된 제2 빔 스플리터에 의해 형성된상기제2지연경로더포함하는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 74] 제69 항에 있어서,상기 제1 지연 경로는 제2 빔 스플리터를 더 포함하고 적어도 두 개의 포커싱 미러를 포함하는 제2 지연 경로를 더 포함하며, 상기 미러는 상기 제1 지연 경로내의 초점에 상기 지연부를 포커싱하고, 상기 제1 빔 스플리터에서의 출력 빔의 각도 확산 및 빔 사이즈와 거의 동일한 각도 확산 및 빔 사이즈를 갖추어 상기 제1 빔 스플리터에 상기 지연부를 복귀시키도록배열된것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 75] 제69 항에 있어서,상기 제1 빔 스플리터는 소산된 배부 반사의 광학 특성을 이용하여 적어도 두 방향으로 레이저 빔을 지향시키도록구성된것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 76] 제69 항에 있어서,상기 제1 빔 스플리터는 두 개의 투명 광학 요소로 구성되고 각각의 요소는 편평면을 갖고, 상기 광학 요소는 서로에 대해 평행하고 200nm 미만의 간격으로 이격된상기표면위치되는것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템. [청구항 77] 제69 항에 있어서,상기 제1 빔 스플리터는 소망하는 반사-투과비를 달성하기 위해 상기 출력 레이저 빔으로 일정 각도로 방향지워진 코팅되지 않은광학요소인것을특징으로 하는고 반복율 f2 가스방전 레이저 시스템.