전기처리 공정용 전기 콘택을 제공하는 방법 및 시스템 document_id 1020047006065

[청구항 1] 웨이퍼 처리공정동안, 웨이퍼의 전방에지면에서 웨이퍼의 전방면상의 전도층과의 전기적 컨택을 위한 시스템에 있어서, 상기 웨이퍼는 웨이퍼 캐리어에 의하여 지지되고, 상기 시스템은, 상기 웨이퍼의 전방에지면에서 상기 전도층과 전기적 컨택을 가지는 1 이상의 컨택부재를 포함하고, 상기 1 이상의 컨택부재와 상기 웨이퍼의 전방 에지면 사이의 상대적 회전운동은, 상기 1 이상의 컨택부재가 다른 시간에 상기 웨이퍼의 상기 전방에지면의 다른 부분들과 전기적으로 접촉하도록 유발하고 또한, 상기 상대적 회전운동이 유지되는동안 발생하는 상기 웨이퍼의 횡방향 운동 및 상기 1 이상의 컨택부재의 대응 횡방향 운동은 동기적으로 발생되어, 상기 웨이퍼의 횡방향 운동동안 상기 전기적 컨택을 유지하는 것을 특징으로 하는 시스템 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는, 상기 웨이퍼의 전방에지면의 곡률에 대응하는 만곡된형상가지는것을특징으로 하는시스템. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 웨이퍼의 횡방향 운동에 더하여, 상기 웨이퍼의 회전운동 이외의 운동 및 상기 1 이상의 컨택부재의 어떠한 추가적인 대응운동이 동기적으로 발생되어,상기웨이퍼의전기적컨택유지하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 웨이퍼의 횡방향 운동에 더하여, 상기 웨이퍼의 회전운동 이외의 운동 및 상기 1 이상의 컨택부재의 어떠한 추가적인 대응운동이 동기적으로 발생되어,상기웨이퍼의전기적컨택유지하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는, 베이스 지지부재 및 상기 베이스 지지부재에 커플링되는 1 이상의 컨택요소를 포함하고, 상기 1 이상의 컨택요소는 상기 대상물 전방면의 각각의 노출된 에지와 연속적인 전기적 컨택을 유지하고; 또한,상기 1 이상의 컨택부재는 상기 웨이퍼 캐리어에기계적커플링되는것을특징으로 하는시스템. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 상대적 회전운동은, 상기 웨이퍼 캐리어에 연결된 회전가능 샤프트를 사용하는 상기 웨이퍼 캐리어를 회전시킴으로써 확보되고; 또한,상기 1 이상의 컨택부재는 상기 웨이퍼 캐리어의 비회전가능 샤프트 하우징에기계적커플링되는것을특징으로 하는시스템. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는 또한 대상물 표면 작용 장치(workpiece surface influencing device, wsid)에 대하여 횡방향으로 이동하도록 순응되고, 처리공정동안 상기 wsid는 물리적으로상기웨이퍼의전방면접촉하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는 브레이스를 사용하여 비회전가능 샤프트 하우징에 기계적으로 커플링되고, 상기 브레이스는, 상기 웨이퍼의 횡방향 운동이 발생할 때 상기 wsid에 대하여 상기 1 이상의 컨택부재의 횡방향 운동을 가능하게 하고 상기 1 이상의 컨택부재의 대응하는 횡방향 운동을 유지시키는 가이드기구상에 놓여있는것을특징으로 하는시스템. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 가이드기구는 레일을 포함하고, 상기 브레이스는 운동로드(rod)에 의하여 상기 레일에 대향하여 위치되고, 상기 운동로드는상기샤프트하우징커플링되는것을특징으로 하는시스템. [청구항 10] 제7항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는, 또한 상기 wsid에 대하여 수직으로 운동하도록 순응되고, 상기 1 이상의 컨택부재는회전하지않는것을특징으로 하는시스템. [청구항 11] 제5항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는, 상기 웨이퍼의 전방에지면의 곡률에 대응하는 만곡된형상가지는것을특징으로 하는시스템. [청구항 12] 제5항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는, 상기 웨이퍼의 전방에지면의 곡률에 대응하는 만곡된형상가지는것을특징으로 하는시스템. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는, 또한 대상물 표면 작용 장치(wsid)에 대하여 횡방향으로 이동하도록 순응되고, 처리공정동안 상기 wsid는 물리적으로상기웨이퍼의전방면접촉하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는, 상기 웨이퍼의 전방에지면의 곡률에 대응하는 만곡된형상가지는것을특징으로 하는시스템. [청구항 15] 제1항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는 브러쉬를 포함하고, 상기 브러쉬는전도성 와이어묶음포함하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 브러쉬의 전도성 와이어는 경사각에서 상기 대상물의 전방면과 접촉하여 상기 대상물이 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 단방향으로회전가능한것을특징으로 하는시스템. [청구항 17] 제15항에 있어서,상기 브러쉬의 전도성 와이어는 상기 대상물의 전방면에 대하여 거의 직교하여 상기 대상물이 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 양방향으로회전가능한것을특징으로 하는시스템. [청구항 18] 제15항에 있어서,상기 브러쉬의 전도성 와이어는 구부러질 수 있어 상기 대상물이 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 수직으로 이동할 수있는것을특징으로 하는시스템. [청구항 19] 제1항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는 롤러를 포함하고, 상기 롤러는, 편평하여 상기 롤러가 상기 대상물의 전방면에 거의 직교하는 컨택면을 가지고, 상기 대상물은 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 양방향으로회전가능한것을특징으로 하는시스템. [청구항 20] 제1항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는 롤러를 포함하고, 상기 롤러는, 라운드(round)로 형성되어 상기 롤러가 상기 대상물의 전방면과 접촉하도록 구성된 컨택면을 가지고, 상기 대상물은 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 양방향으로회전가능한것을특징으로 하는시스템. [청구항 21] 제1항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는 루프컨택을 포함하고, 상기 루프컨택은 상부 컨택면을 가지고 상기 대상물의 전방면과의 전기적 컨택이 형성됨에 따라 구부러지도록 순응되고, 상기 대상물은 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 양방향으로회전가능한것을특징으로 하는시스템. [청구항 22] 제1항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는 컨택바(contact bar)를 포함하고, 상기 컨택바는 가요성부재에 의하여 상기 각각의 베이스 지지부재에 커플링되고, 상기 가요성부재는 상기 대상물의 전방면과의 전기적 컨택이 형성됨에 따라 구부러지도록 순응되고, 상기 대상물은 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 양방향으로회전가능한것을특징으로 하는시스템. [청구항 23] 제22항에 있어서,상기 컨택바는, 라운드로 형성되어 상기 컨택바가 상기 대상물의 전방면과 경사각에서 접촉하도록 구성된상부컨택면가지는것을특징으로 하는시스템. [청구항 31] 웨이퍼의 후방에지면상의 후방전도층과의 전기적 컨택을 위한 시스템에 있어서, 상기 후방에지면상의 전도층은, 상기 웨이퍼의 전도성 경사에지를 통하여 상기 웨이퍼의 전방면상에 배치된 전방전도층과 전기적 컨택 상태에 있고, 상기 웨이퍼는 웨이퍼 캐리어에 의하여 지지되고, 상기 시스템은, 상기 웨이퍼의 후방에지면에서 상기 후방전도층과 전기적 컨택을 가지는 1 이상의 컨택부재를 포함하고, 또한 상기 1 이상의 컨택부재와 상기 웨이퍼의 후방에지면 사이의 상대적 회전운동은, 상기 1 이상의 컨택부재가 다른 시간에 상기 웨이퍼의 상기 후방에지면의 다른 부분들과 전기적으로 접촉하도록 유발하는 것을 특징으로 하는 시스템 [청구항 32] 제31항에 있어서,상기 상대적 회전운동이 유지되는 동안 발생하는 상기 웨이퍼의 횡방향 운동 및 상기 1 이상의 컨택부재의 대응 횡방향 운동은 동기적으로 발생되어,상기웨이퍼의횡방향운동동안상기전기적컨택유지하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 33] 제32항에 있어서,상기 1 이상의 컨택부재는, 상기 웨이퍼의 에지부의 곡률에 대응하는 만곡된형상가지는것을특징으로 하는시스템. [청구항 34] 제33항에 있어서,상기 웨이퍼의 횡방향 운동에 더하여, 상기 웨이퍼의 회전운동 이외의 운동 및 상기 1 이상의 컨택부재의 어떠한 추가적인 대응운동이 동기적으로 발생되어,상기웨이퍼의전기적컨택유지하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 35] 제32항에 있어서,상기 웨이퍼의 횡방향 운동에 더하여, 상기 웨이퍼의 회전운동 이외의 운동 및 상기 1 이상의 컨택부재의 어떠한 추가적인 대응운동이 동기적으로 발생되어,상기웨이퍼의전기적컨택유지하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 40] 웨이퍼의 처리공정동안, 그 전방면상에서 에지면을 구비한 전도층을 갖는 웨이퍼와의 전기적 컨택을 위한 시스템에 있어서, 단지 상기 웨이퍼의 에지면에서 상기 전도층과의 전기적 컨택을 형성하는 1 이상의 컨택부재를 포함하고, 상기 1 이상의 컨택부재는, 베이스 지지부재 및 상기 베이스 지지부재에 커플링되는 1 이상의 컨택요소를 포함하고, 상기 1 이상의 컨택요소는 상기 대상물의 전방면의 각각의 노출된 에지와 연속적인 전기적 컨택을 유지하고 브러쉬를 포함하며, 상기 브러쉬는, 경사각으로 상기 대상물의 전방면과 접촉하여 상기 대상물이 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 단방향으로 회전할 수 있는 전도성 와이어 묶음을 포함하고, 상기 웨이퍼의 처리공정동안 상기 1 이상의 컨택부재와 웨이퍼 사이의 상대적 이동은, 상기 1 이상의 컨택부재가 상기 웨이퍼의 에지면의 다른 부분과 전기적으로 접촉하도록 유발하는 것을 특징으로 하는 시스템 [청구항 41] 제40항에 있어서,상기 컨택요소는, 상기 경사각에서 상기 대상물의 전방면과 각각 접촉하도록 순응되는 복수의 전도성 와이어 묶음을 포함하여, 상기 컨택요소에 대한 상기 대상물의 전방면의 횡방향 운동이 발생할 때 상기 복수의 전도성 와이어 묶음 중 1 이상이 상기 대상물의 전방면과 전기적으로 접촉하는 것을확보하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 42] 제40항에 있어서,상기 브러쉬의 전도성 와이어는 구부러질 수 있어 상기 대상물이 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 수직으로 이동할 수있는것을특징으로 하는시스템. [청구항 43] 웨이퍼의 처리공정동안, 그 전방면상에서 에지면을 구비한 전도층을 갖는 웨이퍼와의 전기적 컨택을 위한 시스템에 있어서, 상기 웨이퍼의 에지면에서 상기 전도층과의 전기적 컨택을 형성하는 1 이상의 컨택부재를 포함하고, 상기 1 이상의 컨택부재는, 베이스 지지부재 및 상기 베이스 지지부재에 커플링되는 1 이상의 컨택요소를 포함하고, 상기 1 이상의 컨택요소는 상기 대상물의 전방면의 각각의 노출된 에지와 연속적인 전기적 컨택을 유지하고 브러쉬를 포함하며, 상기 브러쉬는, 상기 대상물의 전방면에 거의 직교하게 상기 대상물의 전방면과 접촉하여 상기 대상물이 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 양방향으로 회전할 수 있는 전도성 와이어 묶음을 포함하고, 상기 웨이퍼의 처리공정동안 상기 1 이상의 컨택부재와 웨이퍼 사이의 상대적 이동은, 상기 1 이상의 컨택부재가 상기 웨이퍼의 에지면의 다른 부분과 전기적으로 접촉하도록 유발하는 것을 특징으로 하는 시스템 [청구항 44] 제43항에 있어서,상기 컨택요소는, 상기 대상물의 전방면과 각각 거의 직교하게 접촉하도록 순응되는 복수의 전도성 와이어 묶음을 포함하여, 상기 컨택요소에 대한 상기 대상물의 전방면의 횡방향 운동이 발생할 때 상기 복수의 전도성 와이어 묶음 중 1 이상이 상기 대상물의 전방면과 전기적으로 접촉하는 것을확보하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 45] 제43항에 있어서,상기 브러쉬의 전도성 와이어는 구부러질 수 있어 상기 대상물이 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 수직으로 이동할 수있는것을특징으로 하는시스템. [청구항 46] 웨이퍼의 처리공정동안, 그 전방면상에서 에지면을 구비한 전도층을 갖는 웨이퍼와의 전기적 컨택을 위한 시스템에 있어서, 상기 웨이퍼의 에지면에서 상기 전도층과의 전기적 컨택을 형성하는 1 이상의 컨택부재를 포함하고, 상기 1 이상의 컨택부재는, 베이스 지지부재 및 상기 베이스 지지부재에 커플링되는 1 이상의 컨택요소를 포함하고, 상기 1 이상의 컨택요소는, 상기 대상물의 전방면의 각각의 노출된 에지와 연속적인 전기적 컨택을 유지하고 상기 대상물의 전방면과 접촉하여 상기 대상물이 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 회전할 수 있는 컨택면을 가지는 롤러를 포함하고, 상기 웨이퍼의 처리공정동안 상기 1 이상의 컨택부재와 웨이퍼 사이의 상대적 이동은, 상기 1 이상의 컨택부재가 상기 웨이퍼의 에지면의 다른 부분과 전기적으로 접촉하도록 유발하는 것을 특징으로 하는 시스템 [청구항 47] 제44항에 있어서,상기 롤러의 컨택면은 실질적으로 편평하고 상기 대상물의 전방면에 거의 직교하게 상기 대상물의 전방면과 접촉하여, 상기 대상물은 상기 1 이상의 컨택부재에 대하여 양방향으로회전가능한것을특징으로 하는시스템. [청구항 48] 제47항에 있어서,상기 컨택요소는 복수의 롤러를 포함하고 각각은 상기 대상물의 전방면과 각각 거의 직교하게 접촉하도록 순응되는 편평면을 가져서, 상기 컨택요소에 대한 상기 대상물의 전방면의 횡방향 운동이 발생할 때 상기 복수의 롤러 중 1 이상이 상기 대상물의 전방면과 전기적으로 접촉하는 것을확보하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 49] 제46항에 있어서,상기 대상물의 전방면에 대하여 상기 롤러를 바이어스 시키기 위하여 사용되는 기계적 바이어싱 기구더욱 포함하는시스템. [청구항 50] 제49항에 있어서,상기 기계적 바이어싱 기구는스프링인것을특징으로 하는시스템. [청구항 51] 제46항에 있어서,상기 롤러의 컨택면은 라운드로 되어 있으며 상기 대상물의 전방면과 접촉하여, 상기 대상물이 양방향으로 회전할 수있는것을특징으로 하는시스템. [청구항 52] 제51항에 있어서,상기 컨택요소는 복수의 롤러를 포함하며, 각각은 상기 대상물의 전방면과 각각 접촉하도록 순응되는 라운드면을 가져서, 상기 컨택요소에 대한 상기 대상물의 전방면의 횡방향 운동이 발생할 때 상기 복수의 롤러 중 1 이상이 상기 대상물의 전방면과 전기적으로 접촉하는 것을확보하는것을특징으로 하는시스템. [청구항 53] 제51항에 있어서,상기 대상물의 전방면에 대하여 상기 롤러를 바이어스 시키기 위하여 사용되는 기계적 바이어싱 기구더욱 포함하는시스템. [청구항 54] 제53항에 있어서,상기 기계적 바이어싱 기구는스프링인것을특징으로 하는시스템. [청구항 55] 제53항에 있어서,상기 롤러는 경사각에서 상기 대상물의 전방면과 접촉하도록구성된것을특징으로 하는시스템.