플라즈마 처리 장치 document_id 1020047006492

[청구항 1] 처리 가스를 전계 속에서 플라즈마화하여 취출하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 제1, 제2 길이측 모서리를 갖는 긴형을 이루어 서로 평행하게 늘어 세워지고, 사이에 상기 전계가 인가되는 동시에 상기 제1 길이측 모서리끼리의 사이가 처리 가스의 수용부가 되고, 상기 제2 길이측 모서리끼리의 사이가 처리 가스의 취출부가 되는 한 쌍의 전극과, 상기 한 쌍의 전극 중 한 쪽 전극이 다른 쪽 전극과의 배열 방향으로 왜곡되는 것을 저지하는 왜곡 저지 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 왜곡 저지 기구는 상기 한 쪽 전극이 상기 다른 쪽 전극으로 접근하도록 왜곡되는 것을 저지하는접근왜곡저지수단포함하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,쪽 전극의 상기다른 쪽 전극측과는 반대의 배부에 강성 부재가 설치되어 있고, 상기 접근 왜곡 저지 수단이 헤드부가 상기 강성 부재에 걸쳐지는 동시에 레그부가 상기 한 쪽 전극에 나사 삽입된나사부재포함하고있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 왜곡 저지 기구는 상기 한 쪽 전극이 상기 다른 쪽 전극으로 접근하도록 왜곡되는 것을 저지하는 접근 왜곡 저지 수단과, 상기 한 쪽 전극이 상기 다른 쪽 전극으로부터 멀어지도록 왜곡되는 것을 저지하는이격왜곡저지수단포함하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,쪽 전극을 상기 다른 쪽 전극측으로 가까이 하는 접근 수단과, 멀리하는 이격 수단이 각각 상기 한 쪽 전극의 길이 방향으로 서로 떨어져 복수 설치되고, 상기 접근 수단이 상기 한 쪽 전극의 상기 다른 쪽 전극으로부터의 이격을 저지함으로써 상기 이격 왜곡 저지 수단을 겸하고, 상기 이격 수단이 상기 한 쪽 전극의 상기 다른 쪽 전극으로의 접근을 저지함으로써상기접근왜곡저지수단있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,쪽 전극의 상기다른 쪽 전극측과는 반대의 배부에 각각 강성 부재가 설치되어 있고, 상기 접근 수단 즉 이격 왜곡 저지 수단이, 상기 강성 부재에 나사 삽입되는 동시에 상기 한 쪽 전극의 배면에 맞닿은 누름 나사 부재를 포함하고, 상기 이격 수단 즉 접근 왜곡 저지 수단이 헤드부가 상기 강성 부재에 걸쳐지는 동시에 레그부가 상기 한 쪽 전극에 나사 삽입된 당김나사부재포함하고있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 7] 제2항에 있어서,상기 접근 왜곡 저지 수단이, 상기 한 쌍의 전극 길이 방향의 거의 중간부끼리 사이에 개재된 1 또는 복수의 절연성의 스페이서포함하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 스페이서가 처리 가스의 흐름에 미치는 영향을 무시할 수 있는 정도로 작은 것특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 9] 제7항에 있어서,상기 스페이서가 처리 가스 수용부측으로 치우쳐배치되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 스페이서에는 처리 가스를 상기 스페이서의 처리 가스 취출부측으로 돌아 들어가도록 안내하는가스안내부형성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 스페이서의 전극 길이 방향의 양 모서리가 처리 가스 취출부측을 향함에 따라서 접근하도록 경사 설치되어 있고, 이 경사 모서리가상기가스안내부있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 12] 제7항에 있어서,쌍의 전극의 대향면을 제외하는 부분이 서로 다른 절연 커버로 덮어져 있고, 상기 스페이서의 처리 가스 수용부측의 부분이 전극간으로부터 돌출되고, 이 돌출 부분이 한 쪽 절연 커버에고정가능한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 13] 제7항에 있어서,상기 스페이서가 상기 한 쌍의 전극간에 삽입되는 삽입부와, 한 쌍의 전극의 제1 길이측 모서리끼리 사이에 걸치는걸침부를일체있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 14] 처리 가스를 전계 속에서 플라즈마화하여 취출하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 제1, 제2 길이측 모서리를 갖는 긴형을 이루어 서로 평행하게 배치되고, 사이에 상기 전계가 인가되는 동시에 상기 제1 길이측 모서리끼리의 사이가 처리 가스의 수용부가 되고, 상기 제2 길이측 모서리끼리의 사이가 처리 가스의 취출부가 되는 한 쌍의 전극과, 상기 한 쌍의 전극 중 한 쪽 전극에 있어서의 다른 쪽 전극측과는 반대 배부에 설치된 강성 부재와, 헤드부가 상기 강성 부재에 걸쳐지는 동시에 레그부가 상기 한 쪽 전극에 나사 삽입된 당김 나사 부재를 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치 [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 강성 부재에 나사 삽입되는 동시에 상기 한 쪽 전극의 배면에 맞닿은누름나사부재더구비한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 16] 제14항에 있어서,쪽 전극에 있어서의 상기 한 쪽 전극측과는 반대의 배부에 설치된 다른 강성 부재와, 상기 한 쪽 전극의 배부의 강성 부재와 상기 다른 쪽 전극의 배부의 강성 부재끼리를 연결 일체화하여 보강하는연결보강부재더구비한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 17] 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,쌍의 전극의 길이 방향의 거의 중간부끼리 사이에 개재된 1 또는 복수의 절연성의 스페이서더구비한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 19] 제1항 또는 제14항에 있어서,전극의 대향면을 제외하는 부분을 덮는 절연 커버를 구비하고, 이 절연 커버가 절연 재료로 이루어지는 커버 본체와, 이 커버 본체보다 내플라즈마성이 높은 절연 재료로 이루어지는 내플라즈마 부재를 포함하고, 상기 내플라즈마 부재가 상기 한 쌍의 전극 처리 가스 수용부에 연속되는 처리 가스 도입구의 형성면과, 각 전극의 제1 길이측 모서리측의 측면에의 접촉면을 갖고, 전극과 같은방향연장되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 20] 제1항 또는 제14항에 있어서,처리 가스원으로부터의 처리 가스를 상기 한 쌍의 전극 처리 가스 수용부로 유도하는 가스 도입 장치를 구비하고, 이 가스 도입 장치에는 상기 처리 가스 흐름의 대략 절반씩을 상기 길이 방향에 따라서 서로 대향하도록 흐르게 하면서 주위측부의 대략 전체 길이 영역으로부터 통로 밖으로 점차 새게 하는 한 쌍의 균일화 통로와, 각각 상기 길이 방향에 따르는 가늘고 긴형을 이루는 동시에 단계마다 연통로에서 연통된 복수단의 균일화 챔버가 형성되고, 1단계의 균일화 챔버가 상기 한 쌍의 균일화 통로의 통로 외 공간을 구성하고, 상기 연통로가 연통되어야 할 전후 단계의 균일화 챔버의 대략 전체 길이 영역에 걸쳐 연장되는 가늘고 긴 슬릿형 또는 대략 전체 길이 영역에 걸쳐 단간격으로 배치된 복수의 스폿형을 이루고, 최종단의 균일화 챔버가 상기 한 쌍의 전극 처리 가스 수용부의 대략 전체 길이에 걸쳐연속되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 가스 도입 장치가 상기 전극과 동일 방향으로 연장되는 가늘고 긴 용기형의 장치 본체를 갖고, 이 가스 도입 장치 본체의 내부에 상기 한 쌍의 균일화 통로를 구성하는 부재가 수용되고, 이 균일화 통로 구성 부재를 끼워 상기 전극과는 반대측의 장치 본체 내가 상기 1단계 균일화 챔버로 하여 제공되고, 상기 전극측의 장치 본체 내가 2단계 및 최종 단계의 균일화 챔버로 하여 제공되고, 또한, 장치 본체와 균일화 통로 구성 부재의 양측부 사이에 좁은 간극이 형성되고, 이 간극이상기슬릿형의연통제공되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 22] 제21항에 있어서,상기 균일화 통로 구성 부재가 상기 가스 도입 장치 본체와 같은 방향으로 연장되는 한 쌍의 파이프를 포함하고, 한 쪽 파이프의 일단부와 다른 쪽 파이프의 타단부가 각각 처리 가스의 입구가 되고, 각 파이프의 관벽의 대략 전체 길이 영역에 상기 1단계 균일화 챔버에 통하는누설구멍형성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 23] 제20항에 있어서,상기 처리 가스가 분류와 합류를 반복되게 하고, 또한 복수회에 걸쳐 절곡된 후에상기균일화통로유도되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 24] 제20항에 있어서,상기 가스 도입 장치와 상기한 쌍의 전극을 지지하는 홀더가일체연결되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.