원자층 침착 장치 및 이의 제조방법 document_id 1020047011192

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,부스터 챔버와 침착 챔버 사이에 유체를 직렬 전달하고, 퍼지 가스 차단 밸브와 침착 챔버 사이에 유체를 직렬 전달하는 가스 분배 챔버; 및 가스 분배 챔버와 침착 챔버 사이에 유체를 직렬 전달하는 가스 분배 fre를 추가포함하는시스템. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,가스 분배fre가 노즐 어레이포함하는시스템. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,노즐 어레이가 1.5이상의 종횡비를 갖는 다수의 노즐포함하는시스템. [청구항 5] 제 2 항에 있어서,가스 분배 챔버에 유체를 직렬 전달하는 퍼지 배기 라인; 및가스 분배 챔버와 퍼지 배기 라인 사이에 유체를 직렬 전달하는 퍼지-배기 차단 밸브를 추가포함하는시스템. [청구항 6] 제 2 항에 있어서,화학적 차단 밸브가 다수의 비-공통 포트와 2개의 공통 포트를 갖는 다중식 밸브이고, 비-공통 포트 각각은 부스터 챔버중 하나에 유체를 직렬 전달하고, 제 1 의 공통 포트는 가스 분배 챔버에 유체를 직렬 전달하고, 제 2의 공통 포트는 퍼지 공급원 차단 밸브에 유체를 직렬전달하는시스템. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,드로우 조절 챔버에 위치한 어베이트먼트(abatement) 표면을 추가포함하는시스템. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,베이트먼트를 개선시키기 위해 반응 가스를 드로우 조절 챔버로 도입하기 위한 반응 가스 입구를 추가포함하는시스템. [청구항 9] 제 7 항에 있어서,반응 가스 입구가 드로우 조절 챔버에 가까운 반응 가스 플리넘(plenum)을 추가포함하는시스템. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,드로우-컨트롤 출구와 진공 펌프 사이에 유체를 직렬 전달하는 드로우 조절 챔버로부터 다운스트림에 위치한 어베이트먼트 챔버를 추가포함하는시스템. [청구항 11] 제 1 항에 있어서,드로우 컨트롤 출구와 진공 펌프 사이에 유체를 직렬 전달하는 압력 조절 챔버를 추가포함하는시스템. [청구항 12] 제 1 항에 있어서,반응기 용기 벽 및 용기 내부를 갖는 반응기 용기를 추가로 포함하고, 여기서 침착실, dgic 및 드로우 조절 챔버가 용기 내부있는시스템. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,반응기 용기에 위치한 드로우 가스 플리넘을 추가포함하는시스템. [청구항 14] 제 12 항에 있어서,드로우 조절 챔버에 위치한 어베이트먼트 표면을 추가포함하는시스템. [청구항 15] 제 12 항에 있어서,베이트먼트를 개선시키기 위해 반응 가스를 드로우 조절 챔버로 도입하기 위한 반응 가스 입구를 추가포함하는장치. [청구항 16] 제 12 항에 있어서,드로우 조절 챔버에 가까운 반응기 용기에 위치한 반응 가스 플리넘을 추가포함하는장치. [청구항 17] 제 12 항에 있어서,가스 분배 챔버; 및가스 분배 챔버와 침착 챔버 사이에 유체를 직렬 전달하는 가스 분배 fre를 추가로 포함하고, 여기서 가스 분배 챔버가 용기 내부있는시스템. [청구항 18] 제 12 항에 있어서,반응기 용기의 주변 슬롯 밸브를 추가로 포함하고, 상기 주변 슬롯 밸브가 반응기 용기 벽을 통한 기판 수송 슬롯; 반응기 용기 벽 이내의 연속적인 주변 공간; 연속적인 주변-밀봉 포핏(poppet); 및 밀봉 포핏을 열린 위치와 닫힌 위치 사이로 이동시키기 위한 작동기를 포함하고, 여기서, 밀봉 포핏이 닫힌 위치에서 주변 공간으로 이동되고, 밀봉 포핏이 열린 위치에서 주변 공간 외부로 이동되고, 기판 수송 슬롯이 기판 홀더의 기판-지지 표면과 실질적으로 동일 평면상에 위치하고, 상기 주변 공간이 기판 수송 슬롯과 실질적으로 동일 평면상에 위치하고, 밀봉 포핏이 열린 위치일 때에는 기판 수송 슬롯이 반응기 용기 벽을 통해 기판 홀더까지 기판 수송 채널을 한정하고, 밀봉 포핏이 닫힌 위치일 때에는 밀봉 포핏이 기판 수송 슬롯을 용기 내부분리시키는시스템. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,반응기 용기 벽이 용기 주변을 상기 반응기 용기 벽 이내로 한정하고, 밀봉 포핏이 닫힌 위치일 때 용기 주변합치되는시스템. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,반응기 용기 벽이 실질적으로 방사상 대칭 형태이고, 밀봉 포핏이 실질적으로 방사상 대칭 형태포함하는시스템. [청구항 21] 제 18 항에 있어서,위치에서의 밀봉 포핏이 용기 내부에서 가공 가스 유동 경로의 내부 밀봉 벽형성하는시스템. [청구항 22] 제 21 항에 있어서,내부 밀봉 벽이 방사상 대칭 형태포함하는시스템. [청구항 23] 제 21 항에 있어서,내부 밀봉 벽의 일부가 dgic의 일부한정하는시스템. [청구항 24] 제 18 항에 있어서,주변 슬롯 밸브가 고정된 상부 주변-밀봉 표면; 고정된 상부 주변-밀봉 표면에 상응하는 상부 포핏 주변-밀봉 표면; 상부 주변 밀봉; 고정된 하부 주변-밀봉 표면; 상기 고정된 하부 주변-밀봉 표면에 상응하는 하부 포핏 주변-밀봉 표면; 및 하부 주변 밀봉을 포함하며, 여기서, 밀봉 포핏이 닫힌 위치일 때 상기 상부 밀봉 표면, 하부 밀봉 표면 및 주변 밀봉이용기 내부밀봉하는배열인시스템. [청구항 26] 제 25 항에 있어서,드로우 조절 챔버를 통해 드로우 가스의 유동을 제어하기 위한 드로우 공급원 차단 밸브를 추가포함하는장치. [청구항 27] 제 26 항에 있어서,드로우 공급원 차단 밸브와 드로우 조절 챔버 사이에 유체를 직렬 연결하는 드로우 공급원 fre를 추가포함하는장치. [청구항 28] 제 25 항에 있어서,가공 가스 도관에 유체를 직렬 전달하는 다수의 가공 가스 차단 밸브를 추가로 포함하고, 여기서 각각의 차단 밸브가 가공 가스의 가공 챔버로의 유입 유동을 제어하기위해배열되어 있는장치. [청구항 29] 제 28 항에 있어서,가공 가스 차단 밸브중 하나가 퍼지 가스의 가공 챔버로의 유동을 제어하기 위한 가공 챔버에 유체를 직렬 전달하는 퍼지 공급원 차단 밸브포함하는장치. [청구항 30] 제 29 항에 있어서,퍼지 공급원 차단 밸브에 유체를 직렬 전달하는 퍼지 공급원 fre를 추가포함하는장치. [청구항 31] 제 28 항에 있어서,가공 가스 차단 밸브중 하나에 유체를 직렬 전달하는 다수의 가공 가스 fre를 추가포함하는장치. [청구항 32] 제 31 항에 있어서,다수의 부스터 챔버를 추가로 포함하고, 각각의 부스터 챔버가 가공 가스 도관에 유체를 직렬 전달하고, 각각의 부스터 챔버가 가공 가스 차단 밸브중 하나의 업스트림이고 가공 가스 fre중 하나의 다운스트림위치하는장치. [청구항 33] 제 32 항에 있어서,각각의 부스터fre가 부스터 챔버중 하나의 다운스트림에 있는 다수의 부스터 fre를 추가포함하는장치. [청구항 34] 제 28 항에 있어서,가공 가스 차단 밸브와 가공 챔버 사이에 유체를 직렬 전달하는 가스 분배 챔버; 및가스 분배 챔버와 가공 챔버 사이에 유체를 직렬 전달하는 가스 분배 fre를 추가포함하는장치. [청구항 35] 제 34 항에 있어서,가스 분배 챔버에 유체를 직렬 전달하는 퍼지-배기 라인; 및가스 분배 챔버와 퍼지-배기 라인 사이에 유체를 직렬 전달하는 퍼스-배기 차단 밸브를 추가포함하는장치. [청구항 36] 제 35 항에 있어서,퍼지-배기 차단 밸브에 유체를 직렬 전달하는 퍼지-배기 fre를 추가포함하는장치. [청구항 37] 제 28 항에 있어서,가공 가스 차단 밸브가 비-공통 포트 및 2개의 공통 포트를 갖는 다중 경로이고, 여기서 비-공통 포트가 가공 가스 공급원에 유체를 직렬 전달하고, 제 1의 공통 포트는 가공 챔버에 유체를 직렬 전달하고, 제 2의 공통 포트는 퍼지 공급원 차단 밸브에 유체를 직렬전달하는장치. [청구항 38] 제 28 항에 있어서,가공 가스 차단 밸브중 2 이상이 다수의 비-공통 포트 및 다수의 공통 포트를 갖는 다중 경로이고, 여기서 비-공통 포트 각각이 가공 가스 공급원에 유체를 직렬 전달하고, 다수의 공통 포트가 가공 챔버에 유체를 직렬 전달하고, 하나 이상의 공통 포트가 퍼지 공급원 차단 밸브에 유체를 직렬전달하는장치. [청구항 39] 제 25 항에 있어서,가공 챔버와 드로우 조절 챔버 사이에 유체를 직렬 전달하는 dgic;드로우 가스의 dgic로의 유동을 제어하기 위한 드로우 공급원 차단 밸브;가공 챔버와 dgic 사이에 위치한 가공 챔버 fre; 및dgic와 드로우 조절 챔버 사이에 위치한 dgic fre를 추가포함하는장치. [청구항 40] 제 39 항에 있어서,드로우 공급원 차단 밸브와 dgic 사이에 유체를 직렬 전달하도록 위치하는 드로우 공급원 fre를 추가포함하는장치. [청구항 41] 제 40 항에 있어서,드로우 가스 플리넘을 추가포함하는장치. [청구항 42] 제 25 항에 있어서,드로우 조절 챔버에 위치한 어베이트먼트 표면을 추가포함하는장치. [청구항 43] 제 42 항에 있어서,베이트먼트를 개선시키기 위해 드로우 조절 챔버로 반응 가스를 도입시키기 위한 반응 가스 입구를 추가포함하는장치. [청구항 44] 제 43 항에 있어서,반응 가스 입구가 드로우 조절 챔버에 가까운반응가스플리넘을포함하는장치. [청구항 45] 제 25 항에 있어서,드로우 조절 챔버의 다운스트림에 위치한 어베이트먼트 챔버를 추가포함하는장치. [청구항 46] 제 25 항에 있어서,드로우 조절 챔버의 다운스트림에 위치하고, 드로우 조절 챔버와 드로우 배기 라인 사이에 유체를 직렬 전달하는 압력 조절 챔버를 추가포함하는장치. [청구항 47] 제 25 항에 있어서,가공 챔버가 원자층 침착 챔버포함하는장치. [청구항 77] 제 76 항에 있어서,가공-용기 벽이 용기 주변을 상기 가공-용기 벽 내부로 한정하고, 밀봉 포핏이 닫힌 위치일 때 용기 주변합치되는시스템. [청구항 78] 제 76 항에 있어서,가공-용기 벽이 실질적으로 방사상 대칭 형태이고, 밀봉 포핏이 실질적으로 방사상 대칭 형태포함하는시스템. [청구항 79] 제 76 항에 있어서,위치에서의 밀봉 포핏이 가공 용기 내부에서 가공 가스 유동 경로의 내부 밀봉 벽형성하는시스템. [청구항 80] 제 79 항에 있어서,내부 밀봉 벽이 방사상 대칭 형태포함하는시스템. [청구항 81] 제 76 항에 있어서,주변 슬롯 밸브가 고정된 상부 주변-밀봉 표면; 고정된 상부 주변-밀봉 표면에 상응하는 상부 포핏 주변-밀동 표면; 상부 주변 밀봉; 고정된 하부 주변-밀봉 표면; 상기 고정된 하부 주변-밀봉 표면에 상응하는 하부 포핏 주변-밀봉 표면; 및 하부 주변 밀봉을 포함하며, 여기서, 밀봉 포핏이 닫힌 위치일 때 상기 상부 밀봉 표면, 하부 밀봉 표면 및 주변 밀봉이가공용기내부밀봉하도록배열되는시스템.