전해가공장치 및 전해가공방법 document_id 1020047015095

[청구항 1] 전극과 상기 전극의 표면을 덮는 이온 교환체를 가지는 복수의 전극부재를 병렬로 배치한 전극부와, 상기 전극부재의 이온 교환체에 피가공물을 접촉 또는 근접 자유롭게 유지하는 유지부와, 상기 전극부의 각 전극부재의 전극에 접속되는 전원을 구비하고, 상기 전극부재의 이온 교환체는, 표면 평활성이 뛰어난 이온 교환체와, 이온 교환용량이 큰 이온 교환체를 가지는 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 전극부의 각 전극부재의 전극의 내부에, 상기 이온 교환체에 유체를 공급하는관통구멍형성한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 3] 제 1항에 있어서,인접하는 상기 전극부재의 전극을, 상기 전원의 음극과 양극에교대접속한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 4] 전극과 상기 전극의 표면을 덮는 이온 교환체를 가지는 복수의 전극부재를 병렬로 배치한 전극부와, 상기 전극부재의 이온 교환체에 피가공물을 접촉 또는 근접 자유롭게 유지하는 유지부와, 상기 전극부의 각 전극부재의 전극에 접속되는 전원과, 상기 피가공물과 상기 전극부재의 이온 교환체와의 사이에 유체를 공급하는 유체공급노즐을 구비한 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 5] 제 4항에 있어서,상기 유체공급노즐은, 상기 전극부재에 대향하는 피가공물의 피가공면을 향하여 상기 유체를 분사하는분사구가지는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 6] 제 4항에 있어서,상기 유체공급노즐의 높이는, 상기 전극부재의 이온 교환체의 높이보다도 낮은 것특징으로 하는전해가공장치. [청구항 7] 제 4항에 있어서,상기 전극부의 각 전극부재의 전극의 내부에, 상기 이온 교환체에 유체를 공급하는관통구멍형성한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 8] 제 4항에 있어서,인접하는 상기 전극부재의 전극을, 상기 전원의 음극과 양극에교대접속한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 9] 전극과 상기 전극의 표면을 덮는 이온 교환체를 가지는 전극부재를 구비하고, 상기 전극부재에 피가공물을 상기 전극부재의 이온 교환체에 접촉시켰을 때에 소정의 가압량 이상의 상태에 있어서 상기 이온 교환체의 가공에 사용되는 부분과 상기 피가공물과의 실질적인 접촉폭을 일정하게 제한하는 접촉폭 제한부를 설치한 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 10] 제 9항에 있어서,상기 접촉폭 제한부는, 상기 이온 교환체의 표면측 또는 이면측에 부착된절연필름구성되는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 11] 제 9항에 있어서,상기 접촉폭 제한부는, 이온 교환능력을 가지지 않은부재구성되는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 12] 제 11항에 있어서,상기 이온 교환능력을 가지지 않은 부재는,상기이온교환체와일체형성되어있는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 13] 제 9항에 있어서,상기 접촉폭 제한부는, 상기 이온 교환체에 설치된볼록부구성되는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 14] 제 9항에 있어서,상기 전극부재가복수병렬배치되는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 15] 제 14항에 있어서,인접하는 상기 전극부재의 전극을, 전원의 음극과 양극에교대접속한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 16] 복수의 급전전극과 복수의 가공전극을 배치한 전극부와, 상기 전극부의 급전전극 및 가공전극에 피가공물을 접촉 또는 근접 자유롭게 유지하는 유지부와, 상기 전극부의 각 급전전극 및 가공전극에 접속되는 전원과, 상기 전극부와 피가공물과의 사이에 상대운동을 일으키게 하는 구동기구를 구비하고, 상기 급전전극 및 상기 가공전극의 내부에, 상기 급전전극 및 가공전극의 표면에 유체를 공급하는 관통구멍을 각각 형성한 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 17] 제 16항에 있어서,상기 급전전극과 상기 가공전극의 사이에, 상기 피가공물과 상기 급전전극 및 상기 가공전극과의 사이에 유체를 공급하는유체공급노즐배치한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 18] 급전전극과 가공전극을 교대로 병렬로 배치한 전극부와, 상기 전극부의 급전전극 및 가공전극에 피가공물을 접촉 또는 근접 자유롭게 유지하는 유지부와, 상기 전극부의 각 급전전극 및 가공전극에 접속되는 전원과, 상기 전극부와 피가공물과의 사이에 상대운동을 일으키게 하는 구동기구와, 상기 급전전극 및 가공전극과 기판과의 사이에 유체를 공급하는 액체공급부를 구비한 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 19] 제 18항에 있어서,상기 급전전극 및 상기 가공전극과 피가공물과의 사이에는,이온교환체가구비되는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 20] 기판을 반출입하는 기판 반출입부와, 전해가공장치와, 상기 기판 반출입부와 상기 전해가공장치와의 사이에서 기판을 반송하는 반송장치를 구비하고, 상기 전해가공장치는, (i) 전극과 상기 전극의 표면을 덮는 이온 교환체를 가지는 복수의 전극부재를 병렬로 배치한 전극부와, (ii) 상기 전극부재의 이온 교환체에 피가공물을 접촉 또는 근접 자유롭게 유지하는 유지부와, (iii) 상기 전극부의 각 전극부재의 전극에 접속되는 전원을 구비하고, 상기 전극부재의 이온 교환체는, 표면 평활성이 뛰어난 이온 교환체와, 이온 교환량이 큰 이온 교환체를 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치 [청구항 21] 기판을 반출입하는 기판 반출입부와, 전해가공장치와, 상기 기판 반출입부와 상기 전해가공장치와의 사이에서 기판을 반송하는 반송장치를 구비하고, 상기 전해가공장치는, (i) 복수의 가공전극과 복수의 급전전극을 배치한 전극부와, (ii) 상기 전극부에 기판을 접촉 또는 근접 자유롭게 유지하는 기판 유지부와, (iii) 상기 각 전극부재의 전극에 접속되는 전원과, (iv) 상기 전극부와 기판과의 사이에 상대운동을 일으키게 하는 구동기구를 구비하고, 상기 급전전극 및 상기 가공전극의 내부에, 상기 급전전극 및 가공전극의 표면에 유체를 공급하는 관통구멍을 각각 형성한 것을 특징으로 하는 기판처리장치 [청구항 22] 기판을 반출입하는 기판 반출입부와, 전해가공장치와, 상기 기판 반출입부와 상기 전해가공장치와의 사이에서 기판을 반송하는 반송장치를 구비하고, 상기 전해가공장치는, (i) 복수의 가공전극과 복수의 급전전극을 병렬로 배치한 전극부와, (ii) 상기 전극부에 기판을 접촉 또는 근접 자유롭게 유지하는 기판 유지부와, (iii) 상기 각 전극부재의 전극에 접속되는 전원과, (iv) 상기 전극부와 기판과의 사이에 상대운동을 일으키게 하는 구동기구와, (v) 기판과 전극부의 사이에 가공액을 공급하는 가공액공급기구를 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치 [청구항 41] 피가공물에 접촉 또는 근접 가능한 가공전극과, 상기 피가공물에 급전하는 급전전극과, 상기 피가공물을 유지하여 상기 가공전극에 접촉 또는 근접시키는 유지부와, 상기 피가공물과 상기 가공전극 또는 상기 급전전극의 적어도 한쪽과의 사이에 배치되는 복수의 이온 교환체와, 상기 복수의 이온 교환체의 적어도 하나를 공급하여 교환하는 피드기구를 구비한 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 42] 제 41항에 있어서,상기 복수의 이온 교환체의 각각 대응하여상기피드기구구비한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 43] 제 41항에 있어서,상기 피가공물에 접촉 또는 근접하지 않는 이온 교환체의 교환주기가 상기 피가공물에 접촉 또는 근접하는 이온 교환체의 교환주기보다도 짧은 것특징으로 하는전해가공장치. [청구항 44] 제 43항에 있어서,상기 피가공물에 접촉 또는 근접하지 않는이온교환체를상기피드기구교환하는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 45] 제 41항에 있어서,상기 복수의 이온 교환체 중, 이온 교환용량이 큰 이온 교환체의 교환주기가 다른 이온 교환체의 교환주기보다도 짧은 것특징으로 하는전해가공장치. [청구항 46] 제 41항에 있어서.상기 피드기구에 의한상기이온교환체의교환을전해공시에행하는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 47] 제 41항에 있어서,회전 자유로운 복수의 회전부재와, 상기 회전부재의 사이에 개재시키는 복수의 개재부재를 구비하고,상기 회전부재와 상기 개재부재와의 사이에상기이온교환체배치한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 48] 제 47항에 있어서,상기 회전부재는,상기가공전극또는상기급전전극적어도한쪽인것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 49] 제 41항에 있어서,상기 피드기구에 의하여 순환되는 이온 교환체를 재생하는재생장치더구비한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 50] 피가공물에 접촉 또는 근접 가능한 가공전극과, 상기 피가공물에 급전하는 급전전극과, 상기 피가공물을 유지하여 상기 가공전극에 접촉 또는 근접시키는 유지부와, 상기 피가공물과 상기 가공전극 또는 상기 급전전극의 적어도 한쪽과의 사이에 배치되는 이온 교환체와, 상기 이온 교환체의 표면에 적층된 통수성을 가지는 부재와, 상기 이온 교환체를 공급하여 교환하는 피드기구를 구비한 것을 특징으로 하 는 전해가공장치 [청구항 51] 제 50항에 있어서,상기 이온 교환체의 교환주기가 상기 통수성을 가지는 부재의 교환주기보다도 짧은 것특징으로 하는전해가공장치. [청구항 52] 제 50항에 있어서,회전 자유로운 복수의 회전부재와, 상기 회전부재의 사이에 개재시키는 복수의 개재부재를 구비하고, 상기 회전부재와 상기 개재부재와의 사이에상기이온교환체배치한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 53] 제 50항에 있어서,상기 회전부재는상기가공전극또는상기급전전극적어도한쪽인것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 54] 제 50항에 있어서,상기 피드기구에 의하여 순환되는 이온 교환체를 재생하는재생장치더욱구비한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 55] 피가공물에 접촉 또는 근접 가능한 가공전극과, 상기 피가공물에 급전하는 급전전극과, 상기 피가공물을 유지하여 상기 가공전극에 접촉 또는 근접시키는 유지부를 구비하고, 상기 가공전극 또는 상기 급전전극을 복수 구비하고, 상기 복수의 전극은, 상기 피가공물에 대하여 서로 독립하여 근접 및 이간 자유롭게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 56] 제 55항에 있어서,상기 피가공물과 상기 가공전극 또는 상기 급전전극의 적어도 한쪽과의 사이에이온교환체배치한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 57] 기판을 유지하여 가공전극에 접촉시켜 전해가공을 행하는 기판유지부에 있어서, 샤프트에 연결되는 플랜지부와, 상기 플랜지부에 대하여 상기 샤프트의 축방향으로 이동 자유롭고, 또한 상기 기판을 유지하는 척킹부재를 구비한 것을 특징으로 하는 기판유지부 [청구항 58] 제 57항에 있어서,상기 플랜지부와 상기 척킹부재와의 사이에 형성되는 제 1의 압력실을 구비하고, 상기 제 1의 압력실에 유체를 공급함으로써 상기 제 1의 압력실을 가압하여 상기 척킹부재에 유지된기판을상기가공전극접촉시키는것을특징으로 하는기판유지부. [청구항 59] 제 58항에 있어서,상기제 1의 압력실은, 상기 플랜지부, 상기 척킹부재, 및 상기 플랜지부와 상기 척킹부재를 연결하는탄성부재형성되는것을특징으로 하는기판유지부. [청구항 60] 제 57항에 있어서,상기 척킹부재에 소정 중량의 웨이트를 설치함으로써 상기 기판의 상기 가공전극에 대한가압력조정하는것을특징으로 하는기판유지부. [청구항 61] 제 57항에 있어서,상기 척킹부재를 아래쪽으로 가압하는에어실린더더욱구비한것을특징으로 하는기판유지부. [청구항 62] 제 57항에 있어서,상기 척킹부재는 상기 기판에 연통하는 연통구멍이 형성된 척킹 플레이트와, 상기 척킹 플레이트의 위쪽에 배치된 스토퍼 플레이트와, 상기 척킹 플레이트와 상기 스토퍼 플레이트와의 사이에 형성되는 제 2의 압력실을 구비하고, 상기 제 2의 압력실로부터 유체를 흡인함으로써 상기 제 2의 압력실을 감압하여 상기 기판을 상기 척킹부재흡착시키는것을특징으로 하는기판유지부. [청구항 63] 제 57항에 있어서,상기 플랜지부에는 안쪽으로 돌출하는 돌출부를 가지는 리테이너링을 설치하고, 상기 척킹부재에는, 상기 리테이너링의 돌출부에 걸어맞추는돌기설치한것을특징으로 하는기판유지부. [청구항 64] 가공전극과, 기판에 급전하는 급전전극과, 상기 기판을 유지하여 상기 가공전극에 접촉시키는 기판유지부와, 상기 가공전극과 상기 급전전극과의 사이에 전압을 인가하는 전원과, 상기 기판유지부로 유지한 기판과 상기 가공전극을 상대이동시키는 구동부를 구비하고, 상기 기판유지부는, 기판을 유지하여 가공전극에 접촉시켜 전해가공을 행하는 기판유지부에 있어서, 샤프트에 연결되는 플랜지부와, 상기 플랜지부에 대하여 상기 샤프트의 축방 향으로 이동 자유롭고, 또한 상기 기판을 유지하는 척킹부재를 구비한 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 65] 제 64항에 있어서,상기 기판과 상기 가공전극 또는 상기 급전전극의 적어도 한쪽과의 사이에이온교환체배치한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 66] 제 65항에 있어서,상기 이온 교환체가 배치된 상기 기판과 상기 가공전극 또는 상기 급전전극의 적어도 한쪽과의 사이에 유체를 공급하는유체공급부구비한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 67] 제 64항에 있어서,상기 기판과 상기 가공전극 또는 상기 급전전극의 적어도 한쪽과의 사이에 통수성을 가지는부재배치한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 72] 전극과 상기 전극의 표면에 설치된 가공부재를 가지는 복수의 전극부재를 병렬로 배치한 전극부와, 상기 전극부재의 가공부재에 피가공물을 접촉 자유롭게 유지하는 유지부와, 상기 전극부의 각 전극부재의 전극에 접속되는 전원을 구비하고, 상기 복수의 전극부재의 사이에, 상기 피가공물의 표면에 접촉하는 접촉부재를 배치한 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 73] 제 72항에 있어서,상기 접촉부재에, 상기 피가공물의 표면을 상처내지 않을 정도의 탄성을 가지는 재질에 의하여 형성된완충부재설치한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 74] 제 72항에 있어서,상기 가공부재는이온교환체인것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 75] 가공전극과, 피가공물에 급전하는 급전전극과, 기판을 유지하여 상기 가공전극 및 상기 급전전극에 접촉 또는 근접시키는 기판유지부와, 상기 가공전극과 상기 급전전극과의 사이에 전압을 인가하는 전원과, 상기 기판유지부로 유지한 상기 기판과 상기 가공전극 및 상기 급전전극을 상대운동시키는 구동부와, 상기 기판과 상기 가공전극과의 사이, 또는 상기 기판과 상기 급전전극과의 사이의 적어도 한쪽에 유체를 공급하는 유체공급부와, 상기 가공전극과 상기 기판과의 사이의 유체의 흐름과, 상기 급전전극과 상 기 기판과의 사이의 유체의 흐름을 적어도 부분적으로 격리하는 격벽을 구비한 것을 특징으로 하는 전해가공장치 [청구항 76] 제 75항에 있어서,상기 기판과 상기 가공전극 또는 상기 급전전극의 적어도 한쪽과의 사이에이온교환체배치한것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 77] 제 75항에 있어서,상기 격벽nan은탄성체로이루어지는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 78] 제 77항에 있어서,상기 탄성체는, 부직포, 발포 폴리우레탄, pva 스펀지.폴리우레탄스펀지또는이온교환체로이루어지는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 80] 제 75항에 있어서,상기 유체는 초순수, 순수, 전기전도도가 500 μs/cm이하의액체전해액인것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 81] 제 75항에 있어서,서로 인접하는 상기 격벽에 의하여 격리된 영역을 흐르는 유체를 흡인하는유체흡인부가지는것을특징으로 하는전해가공장치. [청구항 82] 복수의 전극을 배치한 전극부와, 상기 전극에 피가공물을 접촉 내지 근접 자유롭게 유지하는 유지부와, 상기 전극부의 각 전극에 접속되는 전원을 구비하고, 상기 복수의 전극의 사이에는, 상기 피가공물의 표면에 접촉하는 접촉부재를 배치한 것을 특징으로 하는 전해가공장치