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향상된 일루미네이션을 갖춘 가스 방전 자외선 파장계 document_id 1020047020306

출원번호
1020047020306
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1 항에 있어서,상기 자외선 레이저의 동작 파장에 가까운 공지된 파장의흡수 라인을 갖는 광 흡수 엘리먼트를 포함하는교정유닛더포함하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 3] 제2 항에 있어서,상기 제2 디퓨저와 실질적으로 등가인 제3 디퓨저를 더 포함하고 상기 이미징 광학기구는 상기 병합된 확산 빔의 부분을 상기 제2 디퓨저 및 상기 제3 디퓨저에 이미징하도록 구성되고, 상기 제3 디퓨저는 그 출구면에서 제2의 두번 확산된 병합된빔산출하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 4] 제3 항에 있어서,상기제2의 두번 확산된 병합된 빔을 상기 광 흡수 엘리먼트를 일루미네이팅하도록 지향시키기 위한 지향 광학기구; b. 상기 광 흡수 엘리먼트를 통과하는 상기 제2의 두번 확산된 병합된 빔의 부분을 검출하기 위한 검출기; 및 c. 상기 광 흡수 엘리먼트의 상기 흡수 라인에 걸쳐 상기 레이저 빔을 튜닝하기 위한 파장 튜닝 수단을 더 포함하고 상기 파장계는 상기 제2의 두번 확산된 병합된 빔이 상기 흡수 엘리먼트에 의해 최대 흡수되는 경우 에탈론 프린지 정보를 기록하고 상기 에탈론 프린지 정보를 상기 공지된 흡수 라인에 관련시킴교정되는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 5] 제1 항에 있어서,상기 제2 디퓨저와 상기 에탈론사이에 광학적으로 위치된 슬릿 애퍼어처더포함하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 6] 제1 항에 있어서,상기 축소용 광학기구는 두개의 이격된렌즈포함하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 7] 제3 항에 있어서,징 광학기구는 상기 병합된 확산 빔을 두 부분으로 변환시키기 위한빔스플리터포함하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 8] 제1 항에 있어서,펄스 에너지 모니터를 더 포함하는 것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 9] 제1 항에 있어서,상기 파장계의 적어도 일부분을 퍼징하기 위한퍼지수단더포함하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 10] 제1 항에 있어서,상기 파장계는 아르곤 플루오라이드 엑시머 레이저의 스펙트럼 특성을 모니터하도록구성된것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 11] 제1 항에 있어서,상기 파장계는 크립톤 플루오라이드 레이저의 스펙트럼 특성을 모니터하도록구성된것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 12] 제2 항에 있어서,상기 광 흡수 엘리먼트는 플라티늄증기포함하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 13] 제1 항에 있어서,상기 프린지 검출기는광다이오드어레이포함하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 14] 제13 항에 있어서,파장에 대한 코어스 측정을 제공하기 위해 상기 어레이의 일부분상에 프린지를 산출하도록 구성된격자더포함하는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계. [청구항 15] 제1 항에 있어서,상기 프로세서는 초당 200회 이상의 속도로 상기 스펙트럼 특성의 계산을 완료하도록구성되는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
자외선 레이저 파장계에서 교정유닛의 광 흡수 엘리먼트를 일루미네이팅하고, 해당 엘리먼트를 통과하는 빔을 검출하여 에탈론 프린지 정보를 기록함으로써 교정이 이루어지는 구체적인 절차는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    자외선 레이저 파장계에서 교정유닛의 광 흡수 엘리먼트를 활용하여 교정이 이루어지는 구체적인 절차를 추출해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 4에서 광 흡수 엘리먼트 일루미네이션, 빔 검출, 에탈론 프린지 정보 기록 및 관련시킴에 관한 내용을 확인한다.

    • 상기 제2의 두번 확산된 병합된 빔이 상기 흡수 엘리먼트에 의해 최대 흡수되는 경우 에탈론 프린지 정보를 기록하고 상기 에탈론 프린지 정보를 상기 공지된 흡수 라인에 관련시킴교정되는것을특징으로 하는자외선 레이저 파장계
  3. 3근거 선택evidence_selection

    교정 절차의 핵심인 '최대 흡수 시 에탈론 프린지 정보 기록'과 '정보를 흡수 라인에 관련시킴' 구절을 선택한다.

    • 상기 제2의 두번 확산된 병합된 빔이 상기 흡수 엘리먼트에 의해 최대 흡수되는 경우 에탈론 프린지 정보를 기록하고 상기 에탈론 프린지 정보를 상기 공지된 흡수 라인에 관련시킴
  4. 4논리 통합logical_integration

    지향 광학기구로 빔을 일루미네이팅하고, 검출기로 빔을 검출하며, 최대 흡수 시 에탈론 프린지 정보를 기록하여 공지된 흡수 라인과 매칭하는 과정을 통합한다.

    • 상기제2의 두번 확산된 병합된 빔을 상기 광 흡수 엘리먼트를 일루미네이팅하도록 지향시키기 위한 지향 광학기구; b. 상기 광 흡수 엘리먼트를 통과하는 상기 제2의 두번 확산된 병합된 빔의 부분을 검출하기 위한 검출기; 및 c. 상기 광 흡수 엘리먼트의 상기 흡수 라인에 걸쳐 상기 레이저 빔을 튜닝하기 위한 파장 튜닝 수단
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    교정 절차는 빔이 광 흡수 엘리먼트에 의해 최대 흡수될 때 에탈론 프린지 정보를 기록하고, 이를 공지된 흡수 라인에 관련시키는 방식으로 수행된다.

    • 상기 제2의 두번 확산된 병합된 빔이 상기 흡수 엘리먼트에 의해 최대 흡수되는 경우 에탈론 프린지 정보를 기록하고 상기 에탈론 프린지 정보를 상기 공지된 흡수 라인에 관련시킴
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 대하여 절차적 순서에 따라 답변을 구성한다.

    • 상기 제2의 두번 확산된 병합된 빔이 상기 흡수 엘리먼트에 의해 최대 흡수되는 경우 에탈론 프린지 정보를 기록하고 상기 에탈론 프린지 정보를 상기 공지된 흡수 라인에 관련시킴
최종 답변 (final_answer)
자외선 레이저 파장계의 교정 절차는 지향 광학기구를 통해 제2의 두 번 확산된 병합된 빔을 광 흡수 엘리먼트에 일루미네이팅하고, 검출기를 통해 해당 빔의 부분을 검출하는 과정에서, 상기 빔이 광 흡수 엘리먼트에 의해 최대 흡수되는 경우 에탈론 프린지 정보를 기록한 후, 해당 에탈론 프린지 정보를 공지된 흡수 라인에 관련시킴으로써 이루어진다.
핵심 해석 (core_interpretation)
광 흡수 엘리먼트의 최대 흡수 지점에서 에탈론 프린지 정보를 획득하고 이를 공지된 흡수 라인과 매칭함으로써 레이저 파장을 교정하는 기술이다.