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광 조사장치, 광 조사방법, 결정화 장치, 결정화 방법, 디바이스 및 광 변조소자 document_id 1020050012666

출원번호
1020050012666
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 광변조소자의 면내 좌표를 (x,y)로 하고, 상기 광 변조소자의 복소진폭 투과율분포를 t(x,y)로 하고, 상기 결상광학계의 영상면의 면내 좌표를 (x,y)로 하고, 상기 영상면 상의 점(x,y)에 대응하는 상기 광 변조소자 상의 점을 중심으로 한 상기 결상광학계의 점상분포범위 내에서의 적분기호를 ∫로 하고, 위상값을 얻는 함수는 arg로 할 때,의조건만족하는것을특징으로 하는광 조사장치. [청구항 3] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 광 변조소자의 복소진폭 투과율분포는상기결상광학계의점상분포 범위이하치수의위상변조단위가지는것을특징으로 하는광 조사장치. [청구항 4] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 광 변조소자는 서로 다른 고정 위상값을 가지는 적어도 3종류의 위상영역을 가지며, 상기 위상영역의 점유면적률이 소정의 패턴을 따라서변화하고있는것을특징으로 하는광 조사장치. [청구항 5] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 광 변조소자는 적어도 3종류의 위상영역으로서, 기준이 되는 0도의 기준 위상값을 가지는 기준 위상영역과, 양(+) 값의 변조용 위상인 제1변조 위상값을 가지는 제1변조 위상영역과, 상기 제1변조 위상값과 절대값이 거의 동등한 음(-) 값의 변조용 위상인 제2변조 위상값을 가지는제2변조위상영역포함하고있는것을특징으로 하는광 조사장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 기준 위상영역에 대한 상기 제1변조 위상영역의 점유면적률이 변화하는 패턴과, 상기 기준 위상영역에 대한 상기 제2변조 위상영역의 점유면적률이 변화하는패턴거의동등한것을특징으로 하는광 조사장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,적어도 3종류의 위상영역으로서, 기준이 되는 0도의 기준 위상값을 가지는 기준 위상영역과, 양(+) 값의 변조용 위상인 제1변조 위상값을 가지는 제1변조 위상영역과, 상기 제1변조 위상값과 절대값이 거의 동등한 음(-) 값의 변조용 위상인 제2변조 위상값을 가지는제2변조위상영역구비하고있는것을특징으로 하는광 변조소자. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 기준 위상영역에 대한 상기 제1변조 위상영역의 점유면적률이 변화하는 패턴과, 상기 기준 위상영역에 대한 상기 제2변조 위상영역의 점유면적률이 변화하는패턴거의동등한것을특징으로 하는광 변조소자. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 제1변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 오목영역을 포함하며, 이들의 면적이 측면방향으로 차례로 변화하도록 상기 오목영역은 서로 병렬로 되는 패턴으로 배열되며,상기 제2변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 볼록영역을 포함하며, 이들 볼록영역은 상기 오목영역과 병렬로 되어 상기 오목 영역과 동일한패턴배열되는것을특징으로 하는광 조사장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 제1변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 오목영역을 포함하며, 이들의 면적이 측면방향으로 차례로 변화하도록 상기 오목영역은 서로 병렬로 되는 패턴으로 배열되며,상기 제2변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 볼록영역을 포함하며, 이들 볼록영역은 상기 오목영역과 병렬로 되어 상기 오목 영역과 동일한패턴배열되는것을특징으로 하는광 변조소자.
지시문 (instruction)
본문의 내용을 파악하고 이를 바탕으로 질문에 답하라.
질문 (question)
광 변조소자가 기준 위상영역, 제1변조 위상영역, 제2변조 위상영역을 포함할 때, 각 위상영역의 물리적 형태와 배열 방식은 어떻게 구성되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    광 변조소자의 세 가지 위상영역(기준, 제1변조, 제2변조)의 물리적 형태와 배열 방식을 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 15 및 17을 통해 각 위상영역의 형태와 배열에 관한 정보를 추출한다.

    • 제1변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 오목영역을 포함하며, 이들의 면적이 측면방향으로 차례로 변화하도록 상기 오목영역은 서로 병렬로 되는 패턴으로 배열되며,상기 제2변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 볼록영역을 포함하며, 이들 볼록영역은 상기 오목영역과 병렬로 되어 상기 오목 영역과 동일한패턴배열되는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    제1변조 위상영역은 사각형상의 오목영역이며 병렬 패턴으로 배열되고, 제2변조 위상영역은 사각형상의 볼록영역이며 제1변조 위상영역과 동일한 패턴으로 병렬 배열된다는 구절을 선택한다.

    • 제1변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 오목영역을 포함하며, 이들의 면적이 측면방향으로 차례로 변화하도록 상기 오목영역은 서로 병렬로 되는 패턴으로 배열되며,상기 제2변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 볼록영역을 포함하며, 이들 볼록영역은 상기 오목영역과 병렬로 되어 상기 오목 영역과 동일한패턴배열되는
  4. 4논리 통합logical_integration

    제1변조 위상영역은 면적이 변화하는 사각형 오목영역의 병렬 배열이고, 제2변조 위상영역은 면적이 변화하는 사각형 볼록영역의 병렬 배열로서 두 영역은 동일한 패턴으로 배열된다.

    • 제1변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 오목영역을 포함하며, 이들의 면적이 측면방향으로 차례로 변화하도록 상기 오목영역은 서로 병렬로 되는 패턴으로 배열되며,상기 제2변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 볼록영역을 포함하며, 이들 볼록영역은 상기 오목영역과 병렬로 되어 상기 오목 영역과 동일한패턴배열되는
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에서 요구한 각 위상영역의 물리적 형태와 배열 방식을 정리하여 답변을 구성한다.

    • 제1변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 오목영역을 포함하며, 이들의 면적이 측면방향으로 차례로 변화하도록 상기 오목영역은 서로 병렬로 되는 패턴으로 배열되며,상기 제2변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 볼록영역을 포함하며, 이들 볼록영역은 상기 오목영역과 병렬로 되어 상기 오목 영역과 동일한패턴배열되는
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.

    • 제1변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 오목영역을 포함하며, 이들의 면적이 측면방향으로 차례로 변화하도록 상기 오목영역은 서로 병렬로 되는 패턴으로 배열되며,상기 제2변조 위상영역은 상기 투명기판의 면상에 형성되는 사각형상의 볼록영역을 포함하며, 이들 볼록영역은 상기 오목영역과 병렬로 되어 상기 오목 영역과 동일한패턴배열되는
최종 답변 (final_answer)
제1변조 위상영역은 투명기판 면상에 형성되는 사각형상의 오목영역을 포함하며, 이들의 면적이 측면 방향으로 차례로 변화하도록 서로 병렬로 되는 패턴으로 배열된다. 제2변조 위상영역은 투명기판 면상에 형성되는 사각형상의 볼록영역을 포함하며, 이들 볼록영역은 상기 오목영역과 병렬로 되어 상기 오목영역과 동일한 패턴으로 배열된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
광 변조소자의 위상 제어를 위해 사각형 형태의 오목영역(제1변조)과 볼록영역(제2변조)을 특정 패턴으로 병렬 배열하여 면적 변화를 통해 위상을 변조하는 기술이다.