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절연막 형성용 조성물, 이로부터 제조되는 절연막, 및 이를포함하는 전기 또는 전자 소자 document_id 1020050021977

출원번호
1020050021977
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 유기실록산 중합체는 a) 하기 화학식 1, 및 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 모노머, b) 상기 모노머로부터 제조되는 다이머, 및c) 상기 모노머, 다이머, 또는 이들의 혼합물로부터 제조되는 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 실란 화합물로부터 중합되는 것인 절연막 형성용 조성물.[화학식 1]상기 화학식 1의 식에서,r1은 수소, 아릴, 비닐, 알릴, 불소로 치환된 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬, 또는 불소로 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,r2는 직쇄 또는 분지쇄 상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 아세톡시, 또는 클로린이고,p는 1 내지 2의 정수이다.[화학식 2]상기 화학식 2의 식에서,r3, 및 r5는 각각 독립적으로 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴, 불소로 치환된 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬, 또는 불소로 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, r4, 및 r6는 각각 독립적으로 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시, 아세톡시, 또는 클로린탄소수 1 내지 6의 알킬렌 또는 페닐렌이고,q, 및 r은 각각 0 내지 2의 정수이다. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 절연막 형성용 조성물은 rb 이온, 또는 cs 이온을 제외한 금속이온인 제2 금속이온의 총 함량이하인절연막 형성용 조성물. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 절연막 형성용 조성물은 na 이온, 및 k 이온의 총 함량이하인절연막 형성용 조성물. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 유기용매는 a) n-펜탄, i-펜탄, n-헥산, i-헥산, 2,2,4-트리메틸펜탄, 시클로 헥산, 및 메틸시클로 헥산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 지방족 탄화 수소계 용매; b) 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 트리메틸 벤젠, 에틸 벤젠, 및 메틸 에틸 벤젠으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 방향족 탄화 수소계 용매; c) 메틸알콜, 에틸알콜, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올, i-부탄올, sec-부탄올, t-부탄올, 4-메틸 2-펜탄올, 시클로 헥사놀, 메틸사이클로 헥사놀, 및 글리세롤로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 알코올계 용매; d) 메틸에틸케톤, 메틸아이소부틸케톤, 다이에틸케톤, 메틸 n-프로필케톤, 메틸 n-부틸케톤, 시클로헥사논, 메틸사이클로헥사논, 및 아세틸아세톤으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 케톤계 용매; e) 테트라하이드로퓨란, 2-메틸 테트라하이드로 퓨란, 에틸에테르, n-프로필에테르, 이소프로필에테르, 디글라임, 디옥신, 디메틸 디옥신, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 및 프로필렌글리콜 디메틸 에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 에테르계 용매; f) 디에틸카보네이트, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 에틸락테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 및 에틸렌글리콜디아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 에스테르계 용매; 및g) n-메틸피롤리돈, 포름아미드, n-메틸포름아미드, n-에틸포름아미드, n,n-디메틸아세트아미드, 및 n,n-디에틸아세트아미드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 아미드계 용매로 이루어진 군에서 선택되는 1종이상인절연막 형성용 조성물. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 절연막 형성용 조성물은 d) 기공 형성 물질더 포함하는 것인절연막 형성용 조성물. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 기공 형성 물질은 150 내지 450 ℃ 이하에서 열분해가 가능한 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 에테르계 화합물, 에스테르계 화합물, 안하이드라이드계 화합물, 카보네이트계 화합물, 아크릴계 화합물, 사이오 에테르계 화합물, 이소시아네이트계 화합물, 이소시아누레이트계 화합물, 설폰계 화합물, 및 설폭사이드계 화합물로 이루어진 군에서 선택되는1종이상의유기분자또는이중합된고분자인절연막 형성용 조성물. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 기공 형성 물질은 300 내지 100,000의 중량 평균 분자량을 가지는 선형 고분자, 블록형 공중합체, 방사형 고분자, 또는 가교형고분자인절연막 형성용 조성물. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 절연막 형성용 조성물은 2 내지 60 중량%의 고형분 농도가지는 것인절연막 형성용 조성물. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 절연막 형성용 조성물은 e) 물더 포함하는 것인절연막 형성용 조성물.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
절연막 형성용 조성물에 포함되는 기공 형성 물질의 열분해 온도 조건과 해당 물질이 될 수 있는 화합물의 종류는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    절연막 형성용 조성물에 포함되는 기공 형성 물질의 열분해 온도 조건과 화합물의 종류를 추출해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 7에서 기공 형성 물질의 열분해 온도와 화합물 종류에 관한 정보를 확인한다.

    • 상기 기공 형성 물질은 150 내지 450 ℃ 이하에서 열분해가 가능한 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 에테르계 화합물, 에스테르계 화합물, 안하이드라이드계 화합물, 카보네이트계 화합물, 아크릴계 화합물, 사이오 에테르계 화합물, 이소시아네이트계 화합물, 이소시아누레이트계 화합물, 설폰계 화합물, 및 설폭사이드계 화합물로 이루어진 군에서 선택되는1종이상의유기분자또는이중합된고분자
  3. 3근거 선택evidence_selection

    열분해 온도 조건인 '150 내지 450 ℃ 이하'와 화합물 종류 목록을 근거로 선택한다.

    • 150 내지 450 ℃ 이하에서 열분해가 가능한 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 에테르계 화합물, 에스테르계 화합물, 안하이드라이드계 화합물, 카보네이트계 화합물, 아크릴계 화합물, 사이오 에테르계 화합물, 이소시아네이트계 화합물, 이소시아누레이트계 화합물, 설폰계 화합물, 및 설폭사이드계 화합물
  4. 4논리 통합logical_integration

    추출된 온도 조건과 화합물 종류를 결합하여 질문에 답변할 수 있도록 정리한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    열분해 온도는 150 내지 450 ℃ 이하이며, 화합물은 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 에테르계, 에스테르계, 안하이드라이드계, 카보네이트계, 아크릴계, 사이오 에테르계, 이소시아네이트계, 이소시아누레이트계, 설폰계, 설폭사이드계 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 유기분자 또는 이중합된 고분자임을 도출한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에서 요구한 형식(list)에 맞춰 최종 답변을 작성한다.

최종 답변 (final_answer)
- 열분해 온도 조건: 150 내지 450 ℃ 이하 - 화합물의 종류: 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 에테르계 화합물, 에스테르계 화합물, 안하이드라이드계 화합물, 카보네이트계 화합물, 아크릴계 화합물, 사이오 에테르계 화합물, 이소시아네이트계 화합물, 이소시아누레이트계 화합물, 설폰계 화합물, 설폭사이드계 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 유기분자 또는 이중합된 고분자
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 특정 온도 범위(150~450℃)에서 열분해되는 다양한 유기 화합물 또는 고분자를 기공 형성 물질로 포함함으로써 절연막 내에 기공을 형성할 수 있는 조성물에 관한 기술이다.