저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기 document_id 1020050024705

[청구항 1] 동일한 중심상에서 이격되게 설치되어 다수의 층을 형성하며 통공을 가지는 세라믹 전극봉(10)과 상기 세라믹 전극봉(10)의 양단에 위치하여 상기 세라믹 전극봉(10)을 고정하는 전극봉 고정 구조물(15)과 상기 세라믹 전극봉(10)에 전원을 인가하기 위해 전극리드;를 포함하여 구성하되, 상기 세라믹 전극봉(10)은 세라믹 튜브(11) 내주면에 금속전극(12)을 도포하고, 도포된 금속전극(12)의 내주면에 금속전극(12)의 부식, 산화를 방지하도록 글래스층(13)을 코팅 형성하며, 전원을 인가하기 위해 세라믹 전극봉(10) 일단의 통공에 전극캡(14)이 압입하여 내삽하되, 상기 전극캡(14)이 이웃하는 세라믹 전극봉(10)과 아아크 발생을 방지하기 위해 서로 반대 방향으로 엇갈려 압입되며, 상기 전극캡(14)이 압입되지 않은 타단에는 세라믹캡(14a)을 압입하여 내삽하고, 상기 전극리드는 전원을 인가하기 위해 상기 금속전극(12)에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기 [청구항 2] 동일한 중심상에서 이격되게 설치되어 다수의 층을 형성하는 세라믹 전극봉(10)과 상기 세라믹 전극봉(10)의 양단에 위치하여 상기 세라믹 전극봉(10)을 고정하는 전극봉 고정 구조물(15)과 상기 세라믹 전극봉(10)에 전원을 인가하기 위해 전극리드;를 포함하여 구성하되, 상기 세라믹 전극봉(10)은 세라믹 튜브(11) 외주면에 홈이 형성되고, 상기 홈에 금속 페이스트가 인쇄되며, 상기 인쇄된 금속 페이스트 외측에 금속 페이스트가 노출되지 않도록 홈보다 넓게 글래스 페이스트를 인쇄하여 형성되며, 상기 전극리드는 전원을 인가하기 위해 상기 금속 페이스트에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기 [청구항 3] 동일한 중심상에서 이격되게 설치되어 다수의 층을 형성하는 세라믹 전극봉(10)과 상기 세라믹 전극봉(10)의 양단에 위치하여 상기 세라믹 전극봉(10)을 고정하는 전극봉 고정 구조물(15)과 상기 세라믹 전극봉(10)에 전원을 인가하기 위해 전극리드;를 포함하여 구성하되, 상기 세라믹 전극봉(10)은 세라믹 봉(21) 또는 세라믹 튜브(11) 외주면에 금속 페이스트를 인쇄하고, 상기 인쇄된 금속 페이스트 외주면에 그린 쉬트(22)가 인쇄되어 형성되며, 상기 전극리드는 전원을 인가하기 위해 상기 금속 페이스트와 전기적으로 연결되고, 상기 전극봉 고정구조물(15)은 세라믹 전극봉(10) 양단에 회전 지지하도록 부착되는 베어링을 포함하여 구성되며, 상기 세라믹 전극봉(10)의 일단에는 기어(17)가 부착되며, 상기 기어(17)는 타이밍 벨트(16) 또는 체인으로 연결되며, 다수개의 세라믹 전극봉(10) 중 선택되는 어느 하나의 일단에 상기 다수개의 세라믹 전극봉(10)을 회전하도록 조절수단이 설치되는 것을 특징으로 하는 저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기 [청구항 4] 제 2항 또는 제 3항에 있어서,상기 전극리드는 이웃하는 세라믹 전극봉(10)과 아아크 발생을 방지하기 위해 서로 반대 방향으로 엇갈려구비되는것을특징으로 하는저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기. [청구항 5] 제 1항 또는 제2항에 있어서,상기 전극봉 고정 구조물(15)은 스트리머 방전에 접촉되지 않도록 세라믹 전극봉(10) 내의 금속전극(12)의 경계보다외측위치하는것을특징으로 하는저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기. [청구항 6] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 전극봉 고정구조물(15)은 세라믹 전극봉(10) 양단에 회전 지지하도록 부착되는 베어링을 포함하여 구성되며, 상기 세라믹 전극봉(10)의 일단에는 기어(17)가 부착되며, 상기 기어(17)는 타이밍 벨트(16) 또는 체인으로 연결되며, 다수개의 세라믹 전극봉(10) 중 선택되는 어느 하나의 일단에 상기 세라믹 전극봉(10)들을 회전하도록조절수단설치되는것을특징으로 하는저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기. [청구항 7] 제 3항에 있어서,상기 조절수단은 마이크로프로세서와 연결되어 회전제어가 가능한전동모터인것을특징으로 하는저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기. [청구항 8] 제 6항에 있어서,상기 조절수단은 마이크로프로세서와 연결되어 회전제어가 가능한전동모터인것을특징으로 하는저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기. [청구항 9] 제 3항에 있어서,상기 세라믹 전극봉(10) 사이에 벨트 또는 체인의 회전장력을 부여하기 위해가이드롤러설치된것을특징으로 하는저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기. [청구항 10] 제 6항에 있어서,상기 세라믹 전극봉(10) 사이에 벨트 또는 체인의 회전장력을 부여하기 위해가이드롤러설치된것을특징으로 하는저온용 플라즈마 발생 튜브 반응기.