문맥 (context)
[청구항 1]
웨이퍼를 로드하는 로더와,
상기 로더에 의해 로드된 웨이퍼를 습식 세정하도록 배열된 유닛으로서의 세정부와,
상기 웨이퍼를 공정진행에 따라 상기 각 세정부로 이송시켜 주는 프로세씽 아암과,
상기 세정부에 의해 습식 세정된 웨이퍼를 언로드하는 언로더를 구비하고,
상기 세정부는 상기 웨이퍼가 대기되고 대기된 웨이퍼 및 상기 프로세씽 아암에 묻은 이물질을 습식 세정할 수 있도록 세정제가 공급되는 제 1qdr배쓰와, 상기 웨이퍼가 습식 세정될 수 있도록 케미컬이 저장된 케미컬 배쓰와, 상기 웨이퍼 및 프로세씽 아암에 묻은 이물질을 습식 세정할 수 있도록 세정제가 저장된 제 2qdr배쓰가 차례로 배치된 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치
[청구항 2]
제 1항에 있어서,상기 케미컬 배쓰 및 상기 제 2qdr배쓰는 교대로다수개배치된것을특징으로 하는습식 세정 장치.
[청구항 3]
제 1항에 있어서,상기제 1qdr배쓰 및 제 2qdr배쓰 내에 저장된세정제순수인것을특징으로 하는습식 세정 장치.
[청구항 4]
제 1항에 있어서,정부에는 상기 제 2qdr배쓰 일측에 상기 웨이퍼를 최종 세정될 수 있도록 해주는파이널린스배쓰추가된것을특징으로 하는습식 세정 장치.
[청구항 5]
제 1항에 있어서,상기 케미컬배쓰 내에 저장된 케미컬은 핫h2so4용액, nh4oh/h2o2/h2o혼합용액, hcl/h2o2/h2o의혼합용액중하나인것을특징으로 하는습식 세정 장치.
[청구항 6]
제 5항에 있어서,상기 핫h2so4용액은 120 ~150℃온도유지하는것을특징으로 하는습식 세정 장치.
[청구항 7]
제 1항에 있어서,상기제 2qdr배쓰 내의 세정제는 18∼25℃온도유지하는것을특징으로 하는습식 세정 장치.
[청구항 8]
제 1항에 있어서,상기제1qdr배쓰, 제 2qdr배쓰 및 케미컬배스의 재질은쿼츠및피크중하나인것을특징으로하는습식 세정 장치.
[청구항 9]
제 1항에 있어서,상기 로더는 캐리어 단위로 이송된 웨이퍼를 각각 분리하기 위한 제 1공간부와,상기 분리된 웨이퍼를 상기 세정부로 이송시켜 주는로딩아암포함하는것을특징으로 하는습식 세정 장치.
[청구항 10]
제 1항에 있어서,로더는 상기 세정부에 의해 최종 세정된 웨이퍼를 건조시켜 주는 건조부와,상기 건조가 완료된 웨이퍼를 캐리어에 인입하기 위한 제 2공간부와,상기 건조된 웨이퍼를 상기 제 2공간부로 이송시켜 주는언로딩아암포함하는것을특징으로 하는습식 세정 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
습식 세정 장치의 세정부 구성 요소 중, 웨이퍼와 프로세씽 아암에 묻은 이물질을 세정하기 위해 세정제가 공급되는 배쓰들의 배치 순서와 각 배쓰에 저장된 물질의 종류는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation웨이퍼와 프로세씽 아암의 이물질 세정을 위한 배쓰들의 배치 순서와 각 배쓰에 저장된 물질의 종류를 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 배쓰의 배치 순서(제 1qdr배쓰, 케미컬 배쓰, 제 2qdr배쓰)와 각 배쓰의 저장 물질(세정제, 케미컬, 세정제)을 추출한다.
- 제 1qdr배쓰와, 상기 웨이퍼가 습식 세정될 수 있도록 케미컬이 저장된 케미컬 배쓰와, 상기 웨이퍼 및 프로세씽 아암에 묻은 이물질을 습식 세정할 수 있도록 세정제가 저장된 제 2qdr배쓰가 차례로 배치된
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3근거 선택
evidence_selection배치 순서와 물질 종류가 명시된 청구항 1의 구절을 핵심 근거로 선택한다.
- 제 1qdr배쓰와, 상기 웨이퍼가 습식 세정될 수 있도록 케미컬이 저장된 케미컬 배쓰와, 상기 웨이퍼 및 프로세씽 아암에 묻은 이물질을 습식 세정할 수 있도록 세정제가 저장된 제 2qdr배쓰가 차례로 배치된
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4논리 통합
logical_integration추출된 정보를 바탕으로 '제 1qdr배쓰(세정제) -> 케미컬 배쓰(케미컬) -> 제 2qdr배쓰(세정제)'의 순서임을 논리적으로 연결한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에서 요구한 배치 순서와 물질 종류를 결합하여 최종 답변을 구성한다.
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6답변 생성
answer_generation구조화된 형식에 맞춰 배쓰의 순서와 물질을 명시한다.
최종 답변 (final_answer)
배쓰의 배치 순서와 저장된 물질의 종류는 다음과 같다.
1. 제 1qdr배쓰: 세정제
2. 케미컬 배쓰: 케미컬
3. 제 2qdr배쓰: 세정제
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 웨이퍼와 프로세씽 아암의 이물질 세정을 위해 세정제가 담긴 제 1qdr배쓰, 케미컬이 담긴 케미컬 배쓰, 그리고 다시 세정제가 담긴 제 2qdr배쓰가 순차적으로 배치된 습식 세정 장치에 관한 것이다.