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플라즈마 처리장치 및 임피던스 조정방법 document_id 1020050046812

출원번호
1020050046812
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 가변 임피던스부는,가변콘덴서인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 기준으로 되는 가변 임피던스부의 값은, 클리닝전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 임피던스부의 값, 또는 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의가변 임피던스부값인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 기준으로 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스는, 클리닝전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스, 또는 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의가변콘덴서의캐패시턴스인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 7] 제 3 항에 있어서,상기 공진회로는, 상기 외측 전극에의 급전 라인으로부터 상기 내측 전극에 고주파전류가 흐르는 라인과, 상기 외측 전극에의 급전라인, 상기 외측 전극, 상기 외측 전극에의 급전라인, 상기 가변 임피던스부를 순차로 통하여 상기 내측 전극에 고주파 전류가 흐르는라인형성되는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 8] 제 3 항에 있어서,상기 장치상태를 검출하는 검출기는, 상기 제 2 전극측에 설치된전압검출기인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 9] 제 3 항에 있어서,상기 고주파전력 공급수단은, 고주파전원과, 상기 고주파전원의 내부 임피던스 또는 출력 임피던스에 부하 임피던스를 정합시키는 정합기와, 상기 장치상태를 검출하는 검출기와,상기정합기의콘덴서의캐패시턴스검출하는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 10] 제 3 항에 있어서,상기 장치상태를 검출하는 검출기는, 상기 제 1 전극측 또는 상기 제 2 전극측에 설치되어, 플라즈마의 전류 또는 전압을 검출하는프로브인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 11] 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제 2 전극은 피처리기판을 지지하는 지지전극이고, 상기 제 2 전극에 이온을 끌어당기기 위한고주파전력 공급수단더욱갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 이온을 끌어당기기 위한 고주파전력 공급수단은, 고주파전원과, 상기 고주파전원의 내부 임피던스 또는 출력 임피던스에 부하 임피던스를 정합시키는정합기갖는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 장치상태를 검출하는 검출기는, 상기 제 2 전극측의 상기 정합기에 설치된전압검출기인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,상기 기준으로 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스는, 클리닝전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스, 또는 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의가변콘덴서의캐패시턴스인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마 처리장치에서 기준이 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스는 어떠한 값들을 기준으로 설정될 수 있는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    플라즈마 처리장치 내 가변 콘덴서의 캐패시턴스가 기준이 될 수 있는 값들을 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 6 및 청구항 19에서 기준이 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스 설정 기준에 관한 내용을 추출한다.

    • 상기 기준으로 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스는, 클리닝전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스, 또는 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의가변콘덴서의캐패시턴스
  3. 3근거 선택evidence_selection

    질문에 직접적으로 대응하는 청구항 6과 청구항 19의 구절을 선택한다.

    • 상기 기준으로 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스는, 클리닝전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스, 또는 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의가변콘덴서의캐패시턴스
  4. 4논리 통합logical_integration

    추출된 두 가지 기준(클리닝 전 공진점의 값, 동일 구조 타 장치의 공진점 값)을 결합한다.

    • 상기 기준으로 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스는, 클리닝전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스, 또는 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의가변콘덴서의캐패시턴스
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 대한 답변으로 두 가지 기준 값을 리스트 형식으로 정리한다.

    • 상기 기준으로 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스는, 클리닝전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스, 또는 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의가변콘덴서의캐패시턴스
  6. 6답변 생성answer_generation

    최종 답변을 생성한다.

    • 상기 기준으로 되는 가변 콘덴서의 캐패시턴스는, 클리닝전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스, 또는 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의가변콘덴서의캐패시턴스
최종 답변 (final_answer)
가변 콘덴서의 캐패시턴스는 다음의 값들을 기준으로 설정될 수 있다: 1) 클리닝 전의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스, 2) 임피던스가 조정된 동일한 구조의 다른 장치의 상기 공진회로의 공진점에 있어서의 가변 콘덴서의 캐패시턴스
핵심 해석 (core_interpretation)
플라즈마 처리장치의 임피던스 조정을 위해 가변 콘덴서의 캐패시턴스 기준값을 클리닝 전의 공진점 값 또는 동일 구조 타 장치의 공진점 값으로 설정하여 운전의 일관성을 확보하는 기술이다.