플라즈마처리장치 document_id 1020050076192

[청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 특정 레시피는, 정상운전시의 처리조건을 넘는 처리조건을 설정한레시피인것을특징으로 하는플라즈마처리장치. [청구항 3] 제 1항에 있어서,상기 진단장치는 상기 특정 레시피의 각각에 대응한 진단 프로그램을 구비하여, 상기 진단 프로그램에서 플라즈마처리장치 본체의 상태를 좋지 않다고 진단하였을때경보발하는것을특징으로 하는플라즈마처리장치. [청구항 4] 제 1항에 있어서,상기 특정 레시피는, 매스플로우 컨트롤러를 거쳐 가스를 일정한 유량으로 진공처리실에 공급하는 처리부를 구비하고, 상기 진단장치는 상기 진공처리실 내의 가스압력의 도달값을 등록값과 비교하여플라즈마처리장치본체의상태의양부진단하는것을특징으로 하는플라즈마처리장치. [청구항 5] 제 1항에 있어서,상기 배기장치는 터보분자펌프 및 상기 터보분자펌프의 배기측을 진공배기하는 드라이펌프를 구비하고,상기 특정 레시피는, 진공처리실 내에 가스를 공급하지 않는 처리부 및 진공처리실 내에 가스를 공급하는 처리부를 구비하고, 상기 진단장치는 상기 가스를 공급하지 않는 처리부에 있어서의 상기 터보분자펌프의 배기측 압력과 상기 가스를 공급하는 처리부에 있어서의 상기 터보분자펌프의 배기측 압력과의 차를 기초로상기플라즈마처리장치본체의상태의양부진단하는것을특징으로 하는플라즈마처리장치. [청구항 6] 제 1항에 있어서,상기 탑재전극과 상기 탑재전극에 흡착 유지된 시료와의 사이에 냉각가스를 공급하는 냉각가스공급수단을 구비하고, 상기 진단장치는, 상기 탑재전극과 상기 탑재전극에 흡착 유지된 시료와의 사이에 공급되는 냉각가스의 유량을 측정하는 유량계를 구비하여, 상기 유량계의 측정결과를 적산한 결과를 등록값과 비교하여상기흡착유지상태의양부진단하는것을특징으로 하는플라즈마처리장치. [청구항 7] 제 1항에 있어서,상기 진단장치는, 플라즈마의 발광강도를 측정하는 측정기를 구비하여, 측정한 플라즈마의 단파장 영역에 있어서의 발광강도와 장파장 영역에 있어서의 발광강도와의 비를 기초로 진공처리실에 퇴적된반응생성물의양의적정여부진단하는것을특징으로 하는플라즈마처리장치. [청구항 8] 제 1항에 있어서,상기 특정 레시피는, 진공처리실 내에 생성시키는 플라즈마의 생성조건을 변경하는 처리부를 구비하고, 상기 진단장치는, 변경된 조건으로 생성되는 플라즈마의 발광강도 및 방전에 관한 장치 파라미터를 기초로진공처리실내의부품의소모도진단하는것을특징으로 하는플라즈마처리장치. [청구항 9] 제 1항에 있어서,상기 진단장치는, 플라즈마의 발광강도를 측정하는 측정기를 구비하여, 측정한 플라즈마의 발광 스펙트럼에 포함되는 n2, h2o, o, h, oh, n, o2 및/또는 h2의 발광 스펙트럼량을 기초로 진공처리실로 누출되는 가스량 또는 진공처리실의 내용물로부터 발생하는아웃가스량의적정여부진단하는것을특징으로 하는플라즈마처리장치. [청구항 10] 제 1항에 있어서,상기 진단장치는, 장치의 초기화 후에 취득한 복수의 장치 파라미터와 소정 기간의 계속 운전 후에 취득한 복수의 장치 파라미터의 차를 기초로플라즈마처리장치본체의상태의양부진단하는것을특징으로 하는플라즈마처리장치.