웨이퍼 세정 장치 document_id 1020050083285

[청구항 3] 제1항에 있어서,상기 제1 경사면과 제2 경사면이 접하는 에지 부위는라운딩 처리있는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 제1 경사면의 면적이 상기 제2 경사면의 면적과 같거나 작은 것특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 회전척에서 상단의 외측 지름이 하단의 외측 지름과 같거나 큰 것특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 보울과 상기 회전척 사이를 따라 구비되고, 상기 웨이퍼로부터 비산된 세정액이 상기 웨이퍼로 다시 튀는 것을 방지하며 상기 비산된 세정액이 상기 보울의 하부로 향하도록 가이드하기 위한가이드더포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 가이드는 상하부가 개방되며 상부가 좁고 하부가 넓도록 테이퍼진중공의원통 형태갖는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 8] 제6항에 있어서,상기 가이드의 내측면으로부터 중심 방향으로 연장되며, 상기 와류에 의한 상승 기류를 차단하기 위한차단부더포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 차단부는내측상방연장되는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 가이드와 차단부 사이로 비산된 세정액을 하부로 배출하기 위해 상기 차단부는다수의관통홀갖는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 11] 제8항에 있어서,상기 차단부는상기가이드와일체형성되는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 12] 제8항에 있어서,상기 차단부는 상기 회전척의 상부면과 동일하거나 낮은높이위치하는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 보울의 하부면에 구비되며, 상기 보울의 하부면 중심으로부터 동일한 거리만큼 이격되고, 서로 균일한 간격으로 이격되는다수의배출구더포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 14] 제1항에 있어서,상기 회전척은 상기 웨이퍼의 에지 부위를 지지하기 위한 다수개의 지지부;상기 지지부들을 지지하며, 원형의 띠 형태를 갖는 밴드; 및상기 밴드와 연결되며, 중앙 부위에 상하를 관통하는 관통홀을 갖는 원반 형태의 베이스포함하는 것을특징으로 웨이퍼 세정 장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 세정액 공급부는 상기 웨이퍼의 상부면으로 세정액을 공급하기 위한 제1 세정액 공급부; 및상기 베이스의 관통홀을 통해 상기 웨이퍼의 하부면으로 세정액을 공급하기 위한제2세정액공급부포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 회전척은 상기 밴드와 상기 베이스 사이에 상기 웨이퍼의 하부면으로 공급된 세정액을 배출하기 위한다수의개구더포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치. [청구항 17] 제14항에 있어서,상기 각각의 지지부는 개구 부분이 상기 회전척의 중심을 향하도록 배치되는오링포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 세정 장치.