보쉬 공정에 이용되는 건식 식각 장치들, 건식 식각 종료점검출장치들 및 그들을 이용해서 전기소자를 형성하는방법들 document_id 1020050108791

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 광윈도우 및 상기 광집속부 사이에 배치된 광탐침 및 광선별기를 더 포함하되, 상기 광선별기는 상기 광윈도우 주변에 위치해서 상기 광윈도우와 마주보도록 배치되고, 상기 광탐침의 일단은 상기 광 선별기와 마주보도록 배치되고 그리고 상기 광탐침의 타단은상기광집속부배치되는것특징인건식 식각 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 광집속부는 광학 필터, 모노크로메타포함하는것특징인건식 식각 장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 광집속부는 0.1 내지 10 nm 의 해상도를 가지고 200 내지 1100 nm 파장범위의 주파수를 갖는상기플라즈마 광들포획하는것특징인건식 식각 장치. [청구항 5] 제 2 항에 있어서,상기 광선별기는 복수 개의 개구부들 및 상기 개구부들을 한정하는 광차단막을 포함하되,상기 광탐침은 상기 개구부들 중 하나와 마주보도록 배치되고, 상기 개구부들은 광차단막의 중심으로부터 소정 반지름을 갖는 원 상에 배치되고, 상기 광선별기는 상기 광윈도우 주변에서 회전 운동이 가능하도록 지지되고, 상기 광선별기 내 개구부들 사이를 지나는 주기는 상기 식각 및 증착 공정들 중 선택된 하나를 반복적으로 수행하는주기동일한것특징인건식 식각 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 광탐침nan은광섬유포함하는것특징인건식 식각 장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 광윈도우 및 상기 광집속부 사이에 그리고 상기 광집속부에 각각 배치된 광탐침 및 신호선들을 더 포함하되, 상기 신호선들은 두 개의 전기 노드들, 상기 전기 노드들을 연결 및 단락시키는 스위치를 가지고, 상기 광탐침의 일단은 상기 광윈도우를 지나서 상기 공정 챔버 내 배치되고 그리고 상기 광탐침의 타단은 상기 광집속부에 배치되고, 그리고 상기 전기 노드들은 상기 스위치를 통하여 전기 신호들을 발생시켜서상기플라즈마 광들을상기식각및증착공정들대응시키는것특징인건식 식각 장치. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,상기 스위치를 통해서 상기 전기 노드들이 연결 및 단락되는 주기는 상기 식각 및 증착 공정들을 수행하는주기동일한것특징인건식 식각 장치. [청구항 9] 제 7 항에 있어서,상기 스위치를 통해서 상기 전기 노드들이 연결 및 단락되는 주기는 상기 증착 및 식각 공정들을 수행하는주기동일한것특징인건식 식각 장치. [청구항 10] 제 7 항에 있어서,상기 광집속부는 광학 필터, 모노크로메타포함하는것특징인건식 식각 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 광집속부는 0.1 내지 10 nm 의 해상도를 가지고 200 내지 1100 nm 파장범위의 주파수를 갖는상기플라즈마 광들포획하는것특징인건식 식각 장치. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 광탐침nan은광섬유포함하는것특징인건식 식각 장치. [청구항 13] 제 1 항에 있어서,상기 광윈도우 및 상기 광집속부 사이에 광탐침을 더 포함하되, 상기 광집속부는 그 집속부의 운영프로그램 내 적어도 하나의 기준값 ± 허용오차를 가지고, 상기 운영프로그램은 상기 적어도 하나의 기준값 ± 허용오차를 사용해서상기플라즈마 광들을상기식각및증착공정들대응시키는것특징인건식 식각 장치. [청구항 14] 제 2 항, 제 7 항 및 제 13 항 중 어느 하나에 있어서,상기 광집속부는 상기 식각 및 증착 공정들 중 선택된 하나를 수행하는 시점으로부터 초기 구간을 소비한 후 상기 선택된 하나와 대응하는 선택된플라즈마 광포획하는것특징인건식 식각 장치. [청구항 15] 제 1 항에 있어서,상기 광해석부에 전기적으로 접속되는 주 컴퓨터를 더 포함하되,상기 주 컴퓨터는 상기 광해석부의 상기 광이미지들을 받아서 이미지 궤적을 그 컴퓨터의 모니터 상에 나타내고, 상기 광해석부는 산술적 연산을 상기 광이미지들에 한번이상적용하는것특징인건식 식각 장비. [청구항 16] 제 1 항에 있어서,상기 공정 챔버 내 배치된하부및상부 전극들더포함하는것특징인건식 식각 장비. [청구항 17] 제 1 항에 있어서,상기 공정 챔버 내 하부 전극및 그 전극에 대응하도록 상기 공정 챔버 주변에자기장형성부더포함하는것특징인건식 식각 장치. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,광탐침 및 광선별기를 더 포함하되, 상기 광선별기는 상기 보쉬 공정의 공정 시간 동안 상기 플라즈마 광들을 선별적으로 포획하도록 배치되고, 상기 광탐침의 일단은 상기 광선별기에 인접하도록 배치되며 그리고 상기 광탐침의 타단은상기광집속부배치되는것특징인건식 식각 종료점 검출장치. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 광선별기는 복수 개의 개구부들 및 상기 개구부들을 한정하는 광차단막을 포함하되,상기 광탐침은 상기 개구부들 중 하나와 마주보도록 배치되고, 상기 개구부들은 광차단막의 중심으로부터 소정 반지름을 갖는 원 상에 배치되고, 상기 광선별기는 상기 광탐침 주변에서 회전 운동이 가능하도록 지지되고, 상기 광선별기 내 개구부들 사이를 지나는 주기는 상기 식각 및 증착 공정들 중 선택된 하나를 반복적으로 수행하는주기동일한것특징인건식 식각 종료점 검출장치. [청구항 21] 제 18 항에 있어서,신호선들 및 광탐침을 더 포함하되, 상기 광탐침의 일단은 상기 보수 공정의 공정 시간 동안 상기 플라즈마 광들을 전체적으로 포획하도록 상기 광윈도우에 인접하게 배치되며 그리고 상기 광탐침의 타단은 상기 광집속부에 배치되고, 상기 신호선들은 상기 광집속부에 전기적으로 접속해서 두 개의 전기 노드들, 상기 전기 노드들을 연결 및 단락시키는스위치가지는것특징인건식 식각 종료점 검출장치. [청구항 22] 제 21 항에 있어서,상기 스위치를 통해서 상기 전기 노드들이 연결 및 단락되는 주기는 상기 식각 및 증착 공정들을 수행하는주기동일한것특징인건식 식각 종료점 검출장치. [청구항 39] 제 23 항에 있어서,상기 공정 챔버 내 하부 및 상부 전극들을 형성하는 것을 더 포함하는 것이 특징인 전기 소자형성하는방법