플라즈마 발생기를 위한 페라이트 코어 조립체 및 이를구비한 플라즈마 처리 시스템 document_id 1020050122219

[청구항 10] 서셉터가 내부에 구비되는 하부 챔버 상단에 가스 입구가 구비되고 그 아래로 배플 평판이 구비되며 접지된 상부 챔버 서셉터와 배플 평판 사이에 배치되는 페라이트 코어 조립체 상부로 배플 평판이 위치하며 서셉터 상부로 개방된 영역을 갖고, 개방된 영역으로 페라이트 코어 조립체가 설치되어 수용되는 상부 챔버의 수용 공간 개방된 영역의 테두리를 따라 설치되는 제1 컨파이먼트 링; 및 서셉터의 상부 테두리를 따라 설치되는 제2 컨파이먼트 링을 포함하는 플라즈마 처리 시스템 [청구항 12] 제10 항에 있어서,페라이트 코어 조립체는 수용 공간에서 진공 절연 부재에 의해 진공절연되는플라즈마 처리 시스템. [청구항 13] 제10 항에 있어서,서셉터의 외측 테두리를 따라 설치되는 포커스 링포함하는플라즈마 처리 시스템. [청구항 14] 제13 항에 있어서,상기 제1 컨파이먼트 링은 내부로냉각수공급로가구비되는플라즈마 처리 시스템. [청구항 15] 제10 항에 있어서,서셉터에 연결되어 제1 주파수의 전원을 공급하는 제1 전원 공급원;서셉터에 연결되어 바이어스 전원을 공급하는 제2 전원 공급원;페라이트 코어 조립체의 유도 코일로 제2 주파수의 전원을 공급하는 제3 전원 공급원;제1 전원 공급원과 서셉터 사이에 연결되는 제1 임피던스 정합기;제2 전원 공급원과 서셉터 사이에 연결되는 제2 임피던스 정합기; 및제3 전원 공급원과 페라이트 코어 조립체의 유도 코일 사이에 연결되는 제2 임피던스 정합기포함하는플라즈마 처리 시스템. [청구항 16] 제15항에 있어서,제1 주파수는 1mhz 이상 10mhz 이하이며, 제2 주파수는 100khz 이상이하인플라즈마 처리 시스템. [청구항 17] 제16항에 있어서,제1 주파수는 2mhz 이며, 제2 주파수인플라즈마 처리 시스템. [청구항 18] 제10항에 있어서,플라즈마 이온의 가속도를 조절하기 위하여 서셉터로 직류 전압을 인가하는 가변형 직류 전압 공급원포함하는플라즈마 처리 시스템. [청구항 19] 제10항에 있어서,페라이트 코어 조립체는:개구부가 일치되도록 연속된 열을 이루고, 폐루프를 형성하도록 조립되는 복수의 페라이트 코어;복수의 페라이트 코어가 조립된 형상을 유지하도록 하는 조립 형상 유지 수단; 및복수의 페라이트 코어가 형성하는 폐루프를 따라 자기장이 유도 되도록 권선되는 유도 코일포함하는플라즈마 처리 시스템. [청구항 20] 제19항에 있어서,조립 형상 유지 수단은 폐루프의 형상을 정의하며, 복수의 페라이트 코어가 내부에 장착되는 중공형의 코어 장착 튜브포함하는플라즈마 처리 시스템. [청구항 21] 제20항에 있어서,코어 장착 튜브는절연체구성되는포함하는플라즈마 처리 시스템. [청구항 22] 제19 항 또는 제20 항에 있어서,복수의 페라이트 코어들의 개구부를 따라 형성되는 관통선으로 매입되는 중공형의 냉각수 공급 튜브포함하는플라즈마 처리 시스템. [청구항 23] 제19 항에 있어서,복수의 페라이트 코어는 두 개 이상의 폐루프를 형성하고, 각 폐루프에는 각기 유도 코일권선되는플라즈마 처리 시스템.